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1. 发明申请

WO2011086757A1 感光性レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法审中-公开
标题翻译：用于生产感光性电阻膜的组合物及其形成电阻图案的方法
公开(公告)号：WO2011086757A1
公开(公告)日：2011-07-21
申请号：PCT/JP2010/070380
申请日：2010-11-16
申请人：日産化学工業株式会社 , 梅嵜真紀子 , 岸岡高広 , 堀口有亮 , 西巻裕和 , 大橋智也 , 臼井友輝
发明人：梅嵜　真紀子 , 岸岡　高広 , 堀口　有亮 , 西巻　裕和 , 大橋　智也 , 臼井　友輝
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/095
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0392 , G03F7/0955
摘要：【課題】感光性レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】　下記式（１）で表される構造単位を有するポリマー、少なくとも２つのビニルエーテル基を有する化合物、光酸発生剤及び溶剤を含む感光性レジスト下層膜形成組成物。　（式中、Ｒ 1 は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ 2 は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し、ｉは０乃至４の整数を表す。）
摘要翻译：公开了一种用于制备光敏抗蚀剂下层膜的组合物; 以及形成抗蚀剂图案的方法。具体公开了用于制造感光性抗蚀剂下层膜的组合物，其包含具有式（1）所示结构单元的聚合物，具有至少两个乙烯基醚基团的化合物，光酸产生剂和溶剂。（式中，R 1表示氢原子或甲基，R 2表示碳原子数1〜4的烷基，i表示0〜4的整数。）

2. 发明申请

WO2011021555A1 脂肪族環と芳香族環を含有する樹脂を含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：用于含有环氧树脂和芳香环的树脂的层析薄膜成膜组合物
公开(公告)号：WO2011021555A1
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：PCT/JP2010/063631
申请日：2010-08-11
申请人：日産化学工業株式会社 , 新城徹也 , 西巻裕和 , 境田康志 , 橋本圭祐
发明人：新城　徹也 , 西巻　裕和 , 境田　康志 , 橋本　圭祐
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/0752 , G03F7/094
摘要：【課題】耐熱性と耐エッチング性を兼ね備えたレジスト下層膜を提供する。【解決手段】脂環式エポキシポリマー（Ａ）と、縮合環式芳香族カルボン酸及び単環式芳香族カルボン酸（Ｂ）との反応生成物（Ｃ）を含む、リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。　前記脂環式エポキシポリマー（Ａ）が下記式（１）：（Ｔはポリマーの主鎖に脂肪族環を有する繰り返し単位構造を表し、Ｅはエポキシ基又はエポキシ基を有する有機基を表す。）で表される繰り返し構造単位を有する。また、前記縮合環式芳香族カルボン酸及び単環式芳香族カルボン酸（Ｂ）が、縮合環式芳香族カルボン酸（Ｂ１）と単環式芳香族カルボン酸（Ｂ２）とを、モル比でＢ１：Ｂ２＝３：７～７：３の割合で含むものである。さらに、前記縮合環式芳香族カルボン酸（Ｂ１）が９－アントラセンカルボン酸であり、前記単環式芳香族カルボン酸（Ｂ２）が安息香酸である。
摘要翻译：公开了同时具有耐热性和耐蚀刻性的抗蚀剂下层膜。具体公开了用于光刻的抗蚀剂下层膜形成组合物，其含有（C）（A）脂环族环氧聚合物和（B）稠合芳族羧酸和单环芳族羧酸的反应产物。脂环族环氧聚合物（A）具有由式（1）表示的重复结构单元（其中，T表示在聚合物的主链中具有脂肪族环的重复单元结构，E表示环氧基或具有环氧基）。稠合芳香族羧酸和单环式芳香族羧酸（B）含有摩尔比B1：B2为3：7〜7：3的稠合芳香族羧酸（B1）和单环式芳香族羧酸（B2）。稠合芳族羧酸（B1）是9-蒽羧酸，单环芳香族羧酸（B2）是苯甲酸。

3. 发明申请

WO2012050065A1 単分子層又は多分子層形成用組成物审中-公开
标题翻译：用于形成单层或多层的组合物
公开(公告)号：WO2012050065A1
公开(公告)日：2012-04-19
申请号：PCT/JP2011/073239
申请日：2011-10-07
申请人：日産化学工業株式会社 , 岸岡高広 , 佐久間大輔 , 木村茂雄 , 西巻裕和 , 大橋智也 , 臼井友輝
发明人：岸岡　高広 , 佐久間　大輔 , 木村　茂雄 , 西巻　裕和 , 大橋　智也 , 臼井　友輝
IPC分类号： C09D183/08 , C07F7/18 , C08G77/392 , C09D5/02 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/0752 , C07F7/1836 , C08G77/28 , C09D183/08 , G03F7/0751 , G03F7/165 , G03F7/20 , G03F7/30
摘要：【課題】基板上に単分子層又は多分子層を形成するための組成物を提供する。【解決手段】下記式（１Ａ）又は下記式（１Ｂ）：［式中、Ｒ 1 はそれぞれ独立にメチル基又はエチル基を表し、Ｘはそれぞれ独立に炭素原子数１乃至１０の連結基を表し、Ｚはそれぞれ独立に炭素原子数１乃至１０のアルキル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表し、前記Ｘは少なくとも１つの酸素原子又は硫黄原子を主鎖に含んでいてもよく、前記Ｚがアルキル基を表す場合該アルキル基の少なくとも１つの水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。］で表されるシラン化合物及び有機溶剤を含む、単分子層又は多分子層形成用組成物である。
摘要翻译：提供在基材上形成单层或多层的组合物。 [溶液]用于形成单层或多层的组合物，所述组合物含有有机溶剂和由式（1A）或式（1B）表示的硅烷化合物。（式中，R 1各自独立地表示甲基或乙基，各X独立地表示碳原子数1〜10的连接基团，各Z独立地表示碳原子数为1〜10的烷基或可以具有取代基的苯基; X可以至少含有其主链中的一个氧原子或硫原子;当Z表示烷基时，烷基中的至少一个氢原子可被氟原子取代。）

4. 发明申请

WO2011074433A1 感光性レジスト下層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：用于形成感光性电阻膜的组合物
公开(公告)号：WO2011074433A1
公开(公告)日：2011-06-23
申请号：PCT/JP2010/071816
申请日：2010-12-06
申请人：日産化学工業株式会社 , 堀口有亮 , 梅嵜真紀子 , 藤谷徳昌 , 西巻裕和 , 岸岡高広 , 浜田貴広
发明人：堀口　有亮 , 梅嵜　真紀子 , 藤谷　徳昌 , 西巻　裕和 , 岸岡　高広 , 浜田　貴広
IPC分类号： G03F7/095 , C08F212/14 , C08F220/56 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/091 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F220/56 , G03F7/038 , G03F7/30 , G03F7/322 , C08F2220/1858 , C08F220/58 , C08F2220/1891 , C08F2220/1833 , C08F2220/585
摘要：【課題】上塗りフォトレジストの溶剤に対してレジスト下層膜中の光酸発生剤が溶出することがなく、フォトレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物を提供すること。【解決手段】下記式（１）、式（２）及び式（３）：で表される単位構造を含むポリマーであって、該ポリマーを構成する全ての単位構造の総モル数を１．０としたときに、式（１）で表される単位構造のモル数（ａ）の割合、式（２）で表される単位構造のモル数（ｂ）の割合、式（３）で表される単位構造のモル数（ｃ）の割合が、０．２０≦ａ≦０．９０、０．０５≦ｂ≦０．６０、０．００１≦ｃ≦０．４０の範囲内にあるポリマーであり、且つ重量平均分子量が３，０００乃至１００，０００であるポリマー（Ａ）、架橋性化合物（Ｄ）、光酸発生剤（Ｅ）及び溶剤（Ｆ）を含むリソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜形成組成物。
摘要翻译：公开了一种用于形成抗蚀剂下层膜的组合物，其不含有其中含有的光致酸产生剂溶解在涂料光致抗蚀剂的溶剂中，并且可以在光致抗蚀剂膜被碱显影的同时碱显影。具体公开了用于形成光刻工艺中使用的抗蚀剂下层膜的组合物，其包含聚合物（A），可交联化合物（D），光致酸产生剂（E）和溶剂（F）。聚合物（A）含有由式（1），式（2）和式（3）表示的单元结构，当构成聚合物的全部单元结构的总摩尔数为1.0时，摩尔数（1）表示的单元结构的摩尔数（b）与由式（2）表示的单元结构的摩尔数（b）与式（2）表示的单元结构的摩尔数（c）的比例（3）在以下范围内：0.20 = a = 0.90,0.05 = b = 0.60和0.001 = c = 0.40。聚合物（A）的重均分子量为3,000〜1000000。

5. 发明申请

WO2012105648A1 非感光性レジスト下層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：用于形成非感光性电阻膜的组合物
公开(公告)号：WO2012105648A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/JP2012/052397
申请日：2012-02-02
申请人：日産化学工業株式会社 , 臼井友輝 , 岸岡高広 , 木村茂雄 , 西巻裕和 , 大橋智也
发明人：臼井　友輝 , 岸岡　高広 , 木村　茂雄 , 西巻　裕和 , 大橋　智也
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11
摘要：【課題】新規な非感光性レジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】下記式（１）：（式中、Ｒ 1 は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ 2 は炭素原子数１乃至３のアルキレン基又は置換基を有してもよいフェニレン基を表し、Ｒ 3 はヒドロキシ基又はカルボキシル基を表す。）で表される構造単位を有するポリマー、ブロックイソシアネート基、メチロール基及び炭素原子数１乃至５のアルコキシメチル基からなる群から選択される置換基を少なくとも２つ有する化合物、及び溶剤を含む、非感光性レジスト下層膜形成組成物。
摘要翻译： [问题]提供用于形成非光敏抗蚀剂下层膜的新型组合物。 [溶液]用于形成非光敏抗蚀剂下层膜的组合物，其包含具有式（1）所示结构单元的聚合物（其中R 1表示氢原子或甲基; R 2表示具有1〜 3个碳原子或可以具有取代基的亚苯基; R3表示羟基或羧基），具有至少两个独立地选自嵌段异氰酸酯基，羟甲基和羟甲基的取代基的化合物和具有1至5个碳原子的烷氧基甲基和溶剂。

6. 发明申请

WO2012141210A1 感光性有機粒子审中-公开
标题翻译：光敏有机颗粒
公开(公告)号：WO2012141210A1
公开(公告)日：2012-10-18
申请号：PCT/JP2012/059894
申请日：2012-04-11
申请人：日産化学工業株式会社 , 岸岡高広 , 梅嵜真紀子 , 木村茂雄 , 西巻裕和 , 大橋智也 , 臼井友輝
发明人：岸岡　高広 , 梅嵜　真紀子 , 木村　茂雄 , 西巻　裕和 , 大橋　智也 , 臼井　友輝
IPC分类号： G03F7/038 , C08F220/54 , C08L101/00 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/20 , C08F220/20 , C08F220/30 , C08F220/54 , C08F220/56 , C08F220/58 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0388 , G03F7/32
摘要：【課題】感光性組成物を基材に塗布し乾燥し、感光性被膜を形成し、露光と現像によるパターン形成が可能な材料と、そのパターニング方法を提供する。【解決手段】水溶性有機粒子及び溶媒を含み、該溶媒が水溶性有機粒子に対して貧溶媒である感光性組成物。好ましくは水溶性有機粒子が、有機粒子形成のための単位構造（Ａ）、粒子間架橋形成のための単位構造（Ｂ）、及び分散性付与のための単位構造（Ｃ）を含むポリマーからなり、更に該組成物が光酸発生剤を含む、前記感光性組成物。或いは水溶性有機粒子が、有機粒子形成のための単位構造（Ａ）、粒子間架橋形成のための単位構造（Ｂ）、分散性付与のための単位構造（Ｃ）、及び光酸発生基を有する単位構造（Ｄ）を含むポリマーからなる、前記感光性組成物。また前記感光性組成物を基材に塗布し乾燥し、感光性被膜を形成する工程、マスクを介して該被膜を露光する工程、及び現像液で現像する工程を含むパターン形成方法。
摘要翻译： [问题]提供一种材料，由此光敏组合物可以施加到基底上并干燥以形成感光涂层，并且可以通过曝光和显影形成图案，并提供图案化材料的方法。 [溶液]包含水溶性有机颗粒和溶剂的光敏组合物，溶剂相对于水溶性有机颗粒为不良溶剂。光敏性组合物优选构造成使得水溶性有机颗粒包含含有用于形成有机颗粒的单元结构（A）的聚合物，用于形成颗粒之间的交联的单元结构（B）和单元结构（C）用于赋予分散性，并且所述组合物还包括光酸产生剂。可选地，光敏组合物可以被配置为使得水溶性有机颗粒包含含有用于形成有机颗粒的单元结构（A）的聚合物，用于形成颗粒之间的交联的单元结构（B），单元结构（C）以及具有光致酸产生基团的单元结构（D）。图案形成方法包括以下步骤：将光敏组合物施加到基底上并干燥光敏组合物以形成光敏涂层，通过掩模曝光涂层，并使用显影液进行显影。

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