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1. 发明专利

JP2021190515A ワーク取り残し判定システム审中-公开
公开(公告)号：JP2021190515A
公开(公告)日：2021-12-13
申请号：JP2020092681
申请日：2020-05-27
申请人：株式会社プレテック
发明人：布施理
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/304
摘要：【課題】水槽内の液体に浸漬しているワークの取り出し処理後におけるワークの取り残しの有無をより確実に判定する。【解決手段】ワーク取り残し判定システム1において、水槽内を撮影するカメラ及びその画像を処理して判定用データを得るデータ取得部と、判定用データに基づいてワークの取り残しの判定を行う取り残し判定部と、判定結果を出力する出力部とを有する画像処理装置を有する。判定用データは、予め撮影された水槽内にワークが有る状態と無い状態の予備画像から得られた予備画像データと、ワークの取り出し処理後に撮影した取り出し後画像から得られた取り出し後画像データとを含む。予備画像及び予備画像データは、水槽内の液体の液面の波打ちが有る状態と無い状態に分類される。取り残し判定部は、ワークの取り出し処理後における波打ちの有無に応じて、予備画像データの中から比較用のデータを選択して、取り出し後画像データと比較して判定する。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2018067684A ウェーハ保持装置及びウェーハ処理装置有权
公开(公告)号：JP2018067684A
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：JP2016207022
申请日：2016-10-21
申请人：株式会社プレテック , テクノデザイン株式会社
发明人：古閑哲二 , 原田康之
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/683
摘要：【課題】テーブル回転時の遠心力による意図しないクランプピンの移動を防止し、ウェーハスリップの発生を防止することで、液跳ねによる処理不良及びウェーハのキズの発生を防止できるウェーハ保持装置及びウェーハ処理装置を提供する。【解決手段】ウェーハを水平に保持し、回転させることが可能なウェーハ保持装置であって、上方にウェーハを保持するテーブルと、テーブルの上面にウェーハを囲繞するように配置され、ウェーハを側面から保持する複数のクランプピンと、テーブル内にテーブルの上面を貫通するよう配設され、回転可能であり、上部にクランプピンが回転軸に対して偏心して立設されたクランプピン回転機構と、クランプピン回転機構の回転を制動する制動機構と、テーブルを下方から支持し、回転させることが可能なテーブル支持軸と、を具備するものであることを特徴とするウェーハ保持装置。【選択図】図1

3. 发明专利

JP6288698B2 表面張力を利用したスピン洗浄装置有权
公开(公告)号：JP6288698B2
公开(公告)日：2018-03-07
申请号：JP2013249358
申请日：2013-12-02
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 株式会社プレテック
发明人：原史朗 , クンプアンソマワン , 池田伸一 , 後藤昭広 , 天野裕
IPC分类号： H01L21/304

4. 发明专利

JP2016219674A 洗浄装置及び洗浄方法审中-公开
标题翻译：清洁装置和清洁方法
公开(公告)号：JP2016219674A
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：JP2015105092
申请日：2015-05-25
申请人：株式会社プレテック
发明人：羽深等 , 後藤昭広 , 小野伸賢
IPC分类号： B08B3/04 , H01L21/304
摘要：【課題】洗浄効率が良く、洗浄時間及び洗浄液の消費の増大を抑えることが可能な洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】被洗浄物を浸漬して洗浄するための洗浄液で満たされる洗浄槽と、洗浄液を洗浄槽の内部に供給する供給部を具備し、洗浄槽の内部に供給部から洗浄液を供給することで、洗浄槽の上縁から洗浄液を溢れさせながら、洗浄槽内の洗浄液に浸漬された被洗浄物を洗浄する洗浄装置であって、洗浄槽が、洗浄槽の上縁より下方に配置された、洗浄液を排出するための排出部を有し、洗浄槽の上縁から洗浄液を溢れさせるとともに、排出部からも洗浄液を排出しながら被洗浄物を洗浄するものであることを特徴とする洗浄装置。【選択図】図1
摘要翻译：良好的清洗效率，提供一种清洁装置和一种能够抑制清洗时间的清洗方法和提高清洗液的消耗量。清洁罐A填充有清洁液的清洁通过浸渍被清洗物，清洗液和用于供给到清洗罐的内部，供给来自供给部的清洗液，以清洗槽的内部设置有供给部它是，在从清洗槽的上边缘淹没的清洗液，用于清洗浸没物体的清洁设备被冲成在清洗槽的清洗液，清洗槽设置在所述洗涤桶的上边缘的下方并以同时排出从洗涤排出部的清洗液进行清洗用于排出清洗液，与来自洗涤槽的上边缘，通过清洗对象，其特征在于充斥清洗液的排出部设备。点域1

5. 发明专利

JP2016111053A シリンジを用いた処理液供給装置およびウェット処理装置审中-公开
标题翻译：具有灌注和湿处理装置的工艺液体供应装置
公开(公告)号：JP2016111053A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014244226
申请日：2014-12-02
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 株式会社プレテック
发明人：原史朗 , クンプアンソマワン , 小林明雄 , 海野剛史 , 松田苑子
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/306
摘要：【課題】ハーフインチサイズのきわめて小さいウェハへの薬液供給方式として、非常に少ない量の薬液を正確に供給できる薬液供給装置およびウェット処理装置を提供する。【解決手段】本発明は、薬液Lを吸入および吐出するシリンジ45と、薬液Lを充填した薬液ボトル42と、一端を薬液ボトル42に接続し他端をシリンジ45に接続し薬液ボトル42内の薬液Lをシリンジ45へ吸入させる吸入用ホース44と、一端を吸入用ホース44の中間部に接続しシリンジ45が吐出した薬液LをウェハWの表面へ供給するための供給用ホース48と、吸入用および供給用ホース44,48それぞれの開閉を制御する三方電磁弁49とを具備した構成である。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种化学品供应装置，其能够将极少量的化学品作为化学品供给方法提供给半英寸尺寸的极小的晶片和湿处理装置。解决方案：工艺液体供应装置包括：吸入和排出化学品L的注射器45; 填充有化学品L的化学瓶42; 吸入软管44，其将化学瓶42中的化学物质L吸入注射器45中，并且其中一端连接到化学瓶42，另一端连接到注射器45; 供给软管48，其将由注射器45排出的化学物质L供给到晶片W的表面，并且其一端连接到吸入软管44的中间部分; 以及控制每个吸入软管44和供给软管48的打开和关闭的三通电磁阀49.选择的图示：图3

6. 发明专利

JP2014154695A Cleaning method and cleaning device of substrate 审中-公开
标题翻译：基板清洗方法及清洁装置
公开(公告)号：JP2014154695A
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：JP2013023066
申请日：2013-02-08
申请人： Pre-Tech Co Ltd , 株式会社プレテック
发明人： KINOSHITA TETSUO , GOTO AKIHIRO
IPC分类号： H01L21/304 , B08B3/02 , G02F1/13 , G03F1/82 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning method and a cleaning device of a substrate capable of cleaning the cleaning surface uniformly when performing rotary cleaning of a square substrate by single wafer processing, while suppressing the scattering of cleaning solution, and reducing adhesion of foreign material to the substrate.SOLUTION: In a cleaning method and a cleaning device 10 of a substrate, a square substrate W is held horizontally on a table 1 rotating in a horizontal plane, operation of the table is controlled by table control means 2, cleaning solution is supplied onto the substrate by means of a cooling tool 4, and the operation of the cooling tool swinging arcuately in the horizontal plane is controlled by cooling tool control means 5. The cooling tool control means 5 controls operation of the cooling tool 4 so that the position of an edge W1 of the rotating square substrate is measured, the operation range of the cooling tool 4 is determined so as to supply the cleaning solution only onto the substrate, and the cooling tool 4 is swung.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种在通过单晶加工进行方形基板的旋转清洗时能够均匀地清洗清洗表面的基板的清洁方法和清洁装置，同时抑制清洗液的散射，并降低外来的粘附力材料到基板。解决方案：在基板的清洁方法和清洁装置10中，方形基板W水平地保持在水平面上旋转的工作台1上，工作台的操作由工作台控制装置2控制，清洁溶液通过冷却工具4供应到基板上，并且冷却工具在水平面中弓形地摆动的操作由冷却工具控制装置5控制。冷却工具控制装置5控制冷却工具4的操作测量旋转方形基板的边缘W1的位置，确定冷却工具4的操作范围，以便提供清洁并且冷却工具4摆动。

7. 发明专利

JP2014038958A Immersion type cleaner 有权
标题翻译：浸入式清洁剂
公开(公告)号：JP2014038958A
公开(公告)日：2014-02-27
申请号：JP2012181008
申请日：2012-08-17
申请人： Pre-Tech Co Ltd , 株式会社プレテック , National Institute Of Advanced Industrial & Technology , 独立行政法人産業技術総合研究所
发明人： NAITO YOSUKE , AMANO YUTAKA , HARA SHIRO
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67057 , H01L21/68707
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dip type wafer cleaner which can efficiently clean a wafer.SOLUTION: A wafer cleaner of the present invention comprises a chamber 5 having a plurality of washing tanks 8a and 8b to which washing liquid is fed and a wafer W can be inserted, and a wafer holding and carrying part 6 movably attached to the chamber 5 for immersing the wafer W into one of the washing tanks 8a and 8b in a state where the wafer W is held. The wafer W which has been immersed in the washing tank 8a can be immersed into the other washing tank 8a, after taking the wafer W out of the washing tank 8a.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以有效地清洁晶片的浸渍型晶片清洁器。解决方案：本发明的晶片清洁器包括具有多个洗涤槽8a和8b的室5，清洗液被供给到其中，可以插入W，以及可移动地附接到室5的晶片保持和承载部分6，用于在晶片W被保持的状态下将晶片W浸入其中一个清洗槽8a和8b中。将晶片W从洗涤槽8a中取出后，已经浸没在洗涤槽8a中的晶片W能够浸入到另一个洗涤槽8a中。

8. 发明专利

JP2011165911A Cleaning apparatus, method for cleaning object to be cleaned, and method for oscillating ultrasonic waves 审中-公开
标题翻译：清洁装置，用于清洁清洁对象的方法以及用于振荡超声波的方法
公开(公告)号：JP2011165911A
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：JP2010027219
申请日：2010-02-10
申请人： Pre-Tech Co Ltd , 株式会社プレテック
发明人： IWAGAYA TERUYOSHI
IPC分类号： H01L21/304 , B08B3/12 , G02F1/13 , G02F1/1333
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ultrasonic cleaning apparatus capable of obtaining a sufficiently clean surface without causing damages to the surface of an object to be cleaned by smoothly controlling, especially by making fine adjustment, the sound pressure of ultrasonic waves applied to a cleaning liquid with low output through high output and without depending on the shape and material, the ultrasonic cleaning apparatus being a sheet type or a batch type, and to provide a method for cleaning an object to be cleaned using the apparatus and a method for oscillating ultrasonic waves.
SOLUTION: A cleaning apparatus cleans a substrate to be cleaned by a cleaning liquid to which ultrasonic waves are applied. The cleaning apparatus is provided with at least a cleaning mechanism for cleaning an object to be cleaned by the cleaning liquid to which the ultrasonic waves oscillated by an ultrasonic vibrator are applied and a main oscillator for oscillating the ultrasonic waves from the ultrasonic vibrator. In the cleaning apparatus, the main oscillator uses a burst wave as an oscillation waveform.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：提供一种超声波清洗装置，能够通过平滑地进行控制，特别是通过微调来获得足够清洁的表面，而不会对被清洁物体的表面造成损害，通过高输出而不依赖于形状和材料的低输出的清洗液体，超声波清洗装置是片式或分批式，并且提供一种使用该装置清洗待清洁物体的方法和方法用于振荡超声波。解决方案：清洁设备通过施加超声波的清洁液清洁待清洁的基板。清洁装置至少设置有用于通过施加超声波振荡器振荡的超声波的清洗液清洁待清洁物体的清洁机构和用于振动来自超声波振动器的超声波的主振荡器。在清洁装置中，主振荡器使用突发波作为振荡波形。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2007336618A High-power circuit for high frequency 审中-公开
标题翻译：高频大功率电路
公开(公告)号：JP2007336618A
公开(公告)日：2007-12-27
申请号：JP2006162177
申请日：2006-06-12
申请人： Pre-Tech Co Ltd , 株式会社プレテック
发明人： IWAGAYA TERUYOSHI
IPC分类号： H02M7/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-power circuit for high frequency capable of easily obtaining high power at a high frequency. SOLUTION: This high-power circuit for high frequency includes at least a main oscillation section, a driver section, an output section and a matching circuit. When it is considered that a circuit in which input sides of two drivers are connected in series with the output side of the main oscillation section and output sides of the two drivers are connected with the output transformer is one block of a driver circuit, the driver section is a circuit in which at least two driver circuits are connected in parallel. Further, in connection between the driver section and the output section, the output transformer is connected with the input side of the output transistor so as to drive one output transistor of the output circuit in relation to one driver of the driver circuit. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种高频率的高功率电路，能够容易地在高频下获得高功率。解决方案：用于高频率的高功率电路至少包括主振荡部分，驱动器部分，输出部分和匹配电路。当考虑到两个驱动器的输入侧与主振荡部分的输出侧和两个驱动器的输出侧串联连接的电路与输出变压器连接是驱动器电路的一个块时，驱动器部分是至少两个驱动电路并联连接的电路。此外，在驱动器部分和输出部分之间的连接中，输出变压器与输出晶体管的输入侧连接，以驱动与驱动器电路的一个驱动器相关的输出电路的一个输出晶体管。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2007134619A Drying system and method of flat-plate-form object 有权
标题翻译：平板对象的干燥系统和方法
公开(公告)号：JP2007134619A
公开(公告)日：2007-05-31
申请号：JP2005328419
申请日：2005-11-14
申请人： Pre-Tech Co Ltd , 株式会社プレテック
发明人： KATO MASAYUKI , SONE HISAAKI , NAITO YOSUKE
IPC分类号： H01L21/304 , B65G49/07 , H01L21/677
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a drying system and method of flat-plate-form objects whereby such flat-plate-form objects as semiconductor wafers can be so dried in their clean states as to leave no water mark and no stain over their whole surfaces after the washing of them. SOLUTION: The drying system 1 of flat-plate-form objects is the system for drying wafers of flat-plate-form objects W after rinsing them with a pure water, and has at least a water vessel 3 for so supporting therein the peripheries of the flat-plate-form objects W in the state of standing them as to rinse them with the pure water, an air feeding duct 4 for blowing a clean air from above the flat-plate-form objects on them after taking out them from the pure water, robot hands 5 for so grasping the peripheries of the flat-plate-form objects whereon the clean air has been blown as to carry out them from the water vessel, and a drying stage 6 for drying in a sucking way the under portions of the flat-plate-form objects without its contacting with the flat-plate-form objects grasped by the robot hands. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种平板形物体的干燥系统和方法，由此可以将这样的平板形物体作为半导体晶片在其干净状态下干燥以便不留下水痕并且没有污点在它们的洗涤后，在整个表面上。解决方案：平板形物体的干燥系统1是在用纯水冲洗之后干燥平板状物体W的晶片的系统，并且至少具有用于支撑在其中的水槽3 平板形物体W的外围处于静置状态，用纯水冲洗;空气供给管道4，用于从取出后的平板状物体上方吹出清洁空气他们从纯净水，机器人手5抓住清洁空气吹过的平板形物体的外围，从水槽中进行运送;以及干燥台6，以吸吮方式进行干燥平板形物体的下部不与机器人手抓住的平板状物体接触。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

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