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1. 发明专利

JP2014533871A シンクロサイクロトロン用のＲＦシステム有权
标题翻译：对于同步回旋加速器RF系统
公开(公告)号：JP2014533871A
公开(公告)日：2014-12-15
申请号：JP2014541655
申请日：2012-11-15
申请人：イオンビームアプリケーションズIon Beam Applications , イオンビームアプリケーションズIon Beam Applications
发明人：フェアブリュッヘン、パトリック
IPC分类号： H05H7/02 , H05H13/02
CPC分类号： H05H13/02 , H05H7/02 , H05H2007/025 , Y10T29/49117
摘要：本発明は、シンクロサイクロトロンにおいて荷電粒子を加速させるための電圧を発生させることができるRFシステム(1)であって、伝導筺体(5)を備える共振空洞(2)を含み、伝導筺体(5)内には、荷電粒子を加速させることができる加速電極(4)に連結された第1の端部を有する伝導性ピラー(3)と、ピラー(3)の第1の端部とは反対の第2の端部と伝導筺体(5)との間に結合された回転式可変コンデンサ(10)であって、固定式電極(11)と、可動式電極(12)を備えるロータ(13)とを備え、固定式電極(11)および可動式電極(12)は、共振空洞(2)の共振周波数を経時的に周期的に変化させることができる可変静電容量を形成し、ロータ(13)の外部層は、300Kにおいて20.000.000S/mを上回る伝導性を有する、コンデンサとが置かれる、RFシステムに関する。ロータ(13)の外部表面(15)の少なくとも一部は、0.5を上回りかつ1未満である垂直全放射率を有する表面であり、それによってロータのより良好な冷却を可能にしならびに/または伝導によっておよび/または対流によってロータを冷却するためのシステムを無しですますことを可能にする。【選択図】図3a
摘要翻译：本发明涉及一种射频系统（1）能够产生的电压用于在同步回旋加速器加速带电粒子，包括：谐振腔（2）包括导电壳体（5），导电壳体（5）内，并具有第一端联接到所述加速电极可以加速带电粒子（4）的导电柱（3），所述柱的所述第一端相反的（3）第二端部和导电性外壳之间的组合旋转可变电容器（5）（10），固定电极（11），转子（13）包括一个可移动电极（12）包括固定电极（11）和可动电极（12）形成的可变电容，其可以随着时间周期性地改变谐振腔（2）的谐振频率，所述转子（13）外层具有在300K比20.000.000S / m的电导率更大，并且电容器被放置，用于RF系统。至少所述转子的外表面（15）的一部分（13）是具有垂直总发射率的表面是大于和小于1至0.5，通过由此允许转子和/或导电的更好的冷却和/或允许在没有一种系统，用于通过对流冷却转子做。点域3A

2. 发明专利

JP2014533884A シンクロサイクロトロン用のＲＦ装置有权
标题翻译：用于同步回旋加速器RF设备
公开(公告)号：JP2014533884A
公开(公告)日：2014-12-15
申请号：JP2014543826
申请日：2012-11-13
申请人：イオンビームアプリケーションズIon Beam Applications , イオンビームアプリケーションズIon Beam Applications
发明人：アーベーエス、ミシェル , アメリア、ジャン−クロード
IPC分类号： H05H7/02 , H05H13/02
CPC分类号： H05H7/02 , H05H13/02 , H05H2007/025
摘要：シンクロサイクロトロンにおいてRF加速電圧を発生させるRF装置(1)。その装置は、接地された伝導筺体(5)により形成され、加速電極(4)が連結された第1の端部を有する伝導性ピラー(3)を覆う共振空洞(2)を備える。回転式可変コンデンサ(10)は、第1の端部とは反対の、ピラーの第2の端部にある伝導筺体内に装着され、少なくとも1つの固定式電極(ステータ)(11)と、直流絶縁軸受(20)により支持され回転式にガイドされる回転シャフト(14)を有するロータ(13)であって、場合によってはステータ(11)に面する少なくとも1つの可動式電極(12)を備える、ロータとを備える。シャフト(14)が回転するとき、ステータと可動式電極は一緒に可変静電容量を形成し、その値は時間に伴って周期的に変化する。ロータ(13)は、伝導筺体(5)とピラー(3)から直流的に絶縁される。ステータ(11)は、ピラー(3)の第2の端部または伝導筺体(5)に接続される。ロータは、伝導筺体またはピラーに静電容量的にそれぞれ結合される。このため、ロータと伝導筺体またはピラーそれぞれとの間の摺動電気接点を無しですますことができる。【選択図】図6
摘要翻译：用于产生同步回旋加速器（1）的RF加速电压RF设备。该装置是由接地的导电外壳（5）包括一个谐振腔，用于覆盖（3）具有第一端加速电极（4）被连接在导电柱（2）形成。旋转式可变电容器（10），相对的第一端部，在支柱的所述第二端被安装在所述壳体传导，和至少一个固定电极（定子）（11），DC 具有旋转导向旋转轴（14）的转子（13）由绝缘轴承（20）支撑，可任选地包括一个定子的至少一个可动电极，面对（11）（12），和转子。当轴（14）旋转时，在定子和可动电极周期性地形成可变电容一起，它的值随时间的变化。所述转子（13）是电的导电外壳（5）和支柱（3）绝缘。所述定子（11）被连接到所述支柱的第二端部或导电外壳（3）（5）。所述转子联接分别电容性地传导壳体或支柱。因此，有可能的，而不每个转子和导电性外壳或柱之间的滑动电接触的事情。点域6

3. 发明专利

JP2013531354A Cyclotron that can accelerate at least two types of particles 有权
公开(公告)号：JP2013531354A
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：JP2013520036
申请日：2011-06-28
申请人：イオンビームアプリケーションズIon Beam Applications
发明人：エービーエス，ミケル
IPC分类号： H05H13/00 , H05H7/02 , H05H7/18
CPC分类号： H05H7/18 , H05H7/02 , H05H13/00
摘要：【課題】本発明は、ディー（１０）、ピラー（２０）および該ピラーと該ディーを囲む導電性チャンバ（４０）を備え、該ピラーの端部は導電性チャンバの底部に連結されており、該ピラー（２０）の反対側の端部はディー（１０）を支持するサイクロトロン用の二重周波数共振空洞（６）に関する。導電性チャンバおよびピラーは、各々が特性インピーダンス（Ｚ
ｃ１、Ｚ
ｃ２、Ｚ
ｃ３）を有する少なくとも三つの部分（２０ａ、２０ｂ、２０ｃ）を備える伝送線路を形成する。中間部分（２０ｂ）の特性インピーダンスＺ
ｃ２は他の二つの部分（２０ａ、２０ｃ）の特性インピーダンスＺ
ｃ１およびＺ
ｃ３より実質的に低い。これによって、例えばスライド短絡回路や可動プレートなどの可動部品を使用する必要がなく、二つのモードに応じて空洞を共振させて、二つの異なる周波数を生成することができる。本発明は、また、電磁および高周波シミュレーションツールの使用に基づくこのような共振空洞の設計方法に関するものである【選択図】図２ａ

4. 发明专利

JP2013523234A Charged particle irradiation apparatus and method 有权
公开(公告)号：JP2013523234A
公开(公告)日：2013-06-17
申请号：JP2013501833
申请日：2011-03-30
申请人：イオンビームアプリケーションズIon Beam Applications
发明人：クラエレボウドト，イヴ , サイヴェ，グレゴリー
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/00 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N5/1065 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
摘要：標的容積（５０）に照射するための荷電粒子照射装置（１０）および方法であって、各々供給されるべき規定された線量を有する一連の規定された照射点（１４０）を定義する治療方針（７０）を受け取るために適応され、少なくとも１個の走査磁石（１００；１１０）を有する照射ユニット（４０）および前記走査磁石（１００；１１０）と前記標的容積（５０）の間に設置される少なくとも１台のビーム位置モニタ（１３０）を備える装置および方法。コントローラ（８０）が、対応する磁気設定が適用される時、ビーム（９０）が前記規定された照射点を指すように、走査磁石の公称磁気設定に対応する任意の前記規定された照射点に対して算出するための、かつ前記ビーム位置モニタ（１３０）において対応する予想される位置を算出するための手段を備える。コントローラ（８０）が、更にａ）同調基準点を前記一連の規定された照射点から選択するための手段と、ｂ）前記選択された同調基準点に与えられるべき規定された同調線量を特定するための手段であって、前記規定された同調線量が前記選択された同調基準点において前記規定された線量と同等であるかまたはより少ない手段と、ｃ）ビーム位置モニタ（１３０）によって与えられるビーム位置と前記選択された同調基準点に対する前記ビーム位置モニタ（１３０）において予想される位置を比較するための手段と、ｄ）前記選択された同調基準点に対して前記ビーム位置モニタ（１３０）において予想される位置にビーム位置モニタによって与えられるビーム位置を位置合わせするために、走査磁石（１００；１１０）の前記公称磁気設定に適用されるべき第１の補正を計算するための手段と、ｅ）前記第１の補正に従って全ての前記規定された照射点に対して走査磁石の公称磁気設定を補正するための手段と、を備える。
【選択図】図１

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