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1. 发明申请

WO2023072761A1 SENSOR-BAUGRUPPE FÜR EIN ORGAN-TRANSPORTSYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2023072761A1
公开(公告)日：2023-05-04
申请号：PCT/EP2022/079404
申请日：2022-10-21
申请人： RAUMEDIC AG , NEW VENTURES GMBH
发明人： RUHLAND, Thomas , EHRENPFORDT, Ricardo
IPC分类号： A01N1/02
摘要： Eine Sensor-Baugruppe (45) für ein Organ-Transportsystem (44) hat mindestens einen Schlauchleitungsabschnitt zum Führen von Nährflüssigkeit zwischen einem Organ-Transportbehälter (49), einer Pumpe (48) und einem Oxygenator (47). Mindestens ein Durchflusssensor der Sensor-Baugruppe (45) dient zum Messen eines Flüssigkeit-Parameters beim Durchfluss durch eine Fluid führende Komponente der Sensor-Baugruppe. Mindestens ein Spektralsensor der Sensor-Baugruppe dient zum Messen mindestens eines spektralen Parameters der Nährflüssigkeit. Die Sensor-Baugruppe kann zudem Sensoren zum Messen eines Sauerstoffpartialdrucks, eines Kohlendioxidpartialdrucks und/oder eines pH-Wertes der Nährflüssigkeit aufweisen. Mit einer derartigen Sensor-Baugruppe ist eine Versorgungssicherheit für ein zu transportierendes Spenderorgan verbessert. Eine mögliche modulare Aufteilung in ein einfach verwendbares Sensor-Modul und ein wiederverwendbares Gehäuse- Modul erlaubt, teure Elektronikbausteine im wiederverwendbaren Gehäuse-Modul unterzubringen, und steigert so die Kosteneffizienz der Sensor-Baugruppe.

2. 发明申请

WO2023066674A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ADDITIVEN FERTIGUNG EINES BAUTEILS SOWIE ENTSPRECHEND GEFERTIGTES BAUTEIL 审中-公开
公开(公告)号：WO2023066674A1
公开(公告)日：2023-04-27
申请号：PCT/EP2022/077825
申请日：2022-10-06
申请人： BLZ BAYERISCHES LASERZENTRUM GEMEINNÜTZIGE FORSCHUNGSGESELLSCHAFT MBH , FRIEDRICH-ALEXANDER-UNIVERSITÄT ERLANGEN-NÜRNBERG
发明人： KOPP, Sebastian-Paul , DÜSENBERG, Björn , BÜCK, Andreas , SCHMIDT, Michael
IPC分类号： B29C64/165 , B22F12/13 , B22F12/60 , B29C64/205 , B29C64/214 , B29C64/30 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y40/10 , B33Y50/02
摘要： Es werden ein Verfahren und Vorrichtung zur additiven Fertigung eines Bauteils beschrieben. Mindestens ein Pulver (P2) wird bereitgestellt. Mehrere Bauteil-Schichten (B1, B2, B3) des zu fertigenden Bauteils werden erzeugt, wobei zur Erzeugung einer Bauteil-Schicht (B3) mindestens ein Pulveranteil (A3) des mindestens einen Pulvers (P2) aufgetragen wird, indem der Pulveranteil (A3) elektrostatisch aufgeladen wird, eine Auftragseinheit (7) zumindest bereichsweise elektrostatisch aufgeladen wird und der elektrostatisch aufgeladene Pulveranteil (A3) mittels der zumindest bereichsweise elektrostatisch aufgeladenen Auftragseinheit (7) aufgenommen und auf eine Auftragsfläche (F) übertragen wird. Verschiedene zur Erzeugung der Bauteil-Schichten (B1, B2, B3) aufzutragende Pulveranteile (A3) werden mit unterschiedlicher Polarität elektrostatisch aufgeladen.

3. 发明申请

WO2023066574A1 POTENZIALTRENNENDE OPTISCHE SIGNALÜBERTRAGUNGSVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2023066574A1
公开(公告)日：2023-04-27
申请号：PCT/EP2022/075692
申请日：2022-09-15
申请人： KNICK ELEKTRONISCHE MESSGERÄTE GMBH & CO. KG
发明人： SCHWEIZER, Lars , BIESE, Olaf
IPC分类号： H04B10/80 , H01L25/16 , H01L31/153 , H03K17/78
摘要： Eine potenzialtrennende optische Signalübertragungsvorrichtung, umfasst: - eine leiterplattenbasierte Sendereinrichtung (1) mit Signaleingang (2), Sendesignal-Aufbereitungsschaltung (3) und optischem Signalsender (4), - eine leiterplattenbasierte Empfängereinrichtung (5) mit optischem Signalempfänger (6), Empfangssignal-Verarbeitungsschaltung (7) und Signalausgang (8), - eine optische Übertragungsstrecke (9) zwischen Signalsender (4) und Signalempfänger (6), - eine Schirmanordnung (13, 14) jeweils für Sender- (1) und Empfängereinrichtung (5), - eine Realisierung der Schirmanordnungen (13, 14) durch metallische Lagen (37 bis 42) in und/oder auf mindestens einer Leiterplatte (15, 16, 17), und - einen im Wesentlichen starren, transparenten Übertragerstab (10) als optische Übertragungsstrecke (9), der = mit seinen Enden (43, 44) innerhalb der jeweiligen Schirmanordnung (13, 14) von Sender- (1) und Empfängereinrichtung (5) vor deren Signalsender (4) bzw. Signalempfänger (6) angeordnet und = von der mindestens einen Leiterplatte (15, 16, 17) mechanisch gehalten ist.

4. 发明申请

WO2023016918A1 VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES KÜCHENGERÄTESYSTEMS, COMPUTERPROGRAMMPRODUKT UND KÜCHENGERÄTESYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2023016918A1
公开(公告)日：2023-02-16
申请号：PCT/EP2022/071965
申请日：2022-08-04
申请人： BORA - VERTRIEBS GMBH & CO KG
发明人： SCHMICKAL, Julian , TÜCHLER, Julia
IPC分类号： F24C7/08
摘要： Ein Verfahren zum Betreiben eines Küchengerätesystems (1a, 1b) umfasst die Schritte: Bereitstellen eines Küchengerätesystems (1a, 1b), mit einem Steuergerät (7, 17) zum Steuern mindestens eines daran angeschlossenen Küchengeräts (2, 3, 4), und mindestens einem mit dem Steuergerät (7, 17) in Signalverbindung (18) stehenden Bediengerät (25, 26) zum Austausch von Informationen zum Steuern des mindestens einen Küchengeräts (2, 3, 4) mit einem Benutzer, Erfassen einer mit der Art des mindesten einen an das Steuergerät (7, 17) angeschlossenen Küchengeräts (2, 3, 4) korrelierenden Anschlussinformation mittels des Steuergeräts (7, 17), Bestimmen einer Systemkonfiguration des Küchengerätesystems (1a, 1b) anhand der mindestens einen Anschlussinformation, Empfangen der Systemkonfiguration an dem mindestens einen Bediengerät (25, 26), und Bestimmen eines Steuerbefehls zum Steuern des mindestens einen Küchengeräts (2, 3, 4) und/oder Bestimmen einer optischen Anzeigeinformation (48) anhand der Systemkonfiguration mittels des mindestens einen Bediengeräts (25, 26).

5. 发明申请

WO2023016882A1 EUV COLLECTOR FOR USE IN AN EUV PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2023016882A1
公开(公告)日：2023-02-16
申请号：PCT/EP2022/071800
申请日：2022-08-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： EHM, Dirk , MERKEL, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
摘要： An EUV collector (24) serves for use in an EUV projection exposure apparatus for guiding EUV used light emanating from a source region of an EUV light source. The collector (24) has at least one reflection surface (30) that is curved to obtain a specified optical power. The collector (24) furthermore has at least one interchangeable reflection surface section (31i) and a holder (45) for holding the interchangeable reflection surface section (31i) in a collector recess which is complementary thereto and located in the EUV collector (24). The interchangeable reflection surface section (31i) is curved in accordance with the specified optical power. The outlay for testing collector materials and/or collector coating materials is reduced in the case of such an EUV collector.

6. 发明申请

WO2022258529A1 IMAGING OPTICAL UNIT 审中-公开
公开(公告)号：WO2022258529A1
公开(公告)日：2022-12-15
申请号：PCT/EP2022/065226
申请日：2022-06-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ROSTALSKI, Hans-Jürgen , MÜNZ, Holger , MENKE, Christoph
IPC分类号： G02B13/08 , G02B17/06 , G03F7/20 , G02B5/08
摘要： An imaging optical unit (7) comprises a plurality of mirrors (M1 to M8) for imaging an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9). An image-side numerical aperture is greater than 0.55. A ratio between an object/image offset a and a meridional transverse direction c is at least 0.5. A ratio between a working distance b between the object plane (5) and a reflection portion, closest to the object plane, of one of the mirrors (M4) and the meridional transverse dimension c is at least 0.05. The working distance b is at least 270 mm. This yields an imaging optical unit, the use of which is as manageable as possible in a projection exposure apparatus, in particular for EUV projection lithography.

7. 发明申请

WO2022258528A1 IMAGING OPTICAL UNIT 审中-公开
公开(公告)号：WO2022258528A1
公开(公告)日：2022-12-15
申请号：PCT/EP2022/065225
申请日：2022-06-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ROSTALSKI, Hans-Jürgen , MÜNZ, Holger , MENKE, Christoph
IPC分类号： G02B5/08 , G02B27/42 , G02B13/08 , G03F7/20 , G02B17/06
摘要： An imaging optical unit (7) comprises a plurality of mirrors (M1 to M8) for imaging an object field (4) into an image field (8). The imaging optical unit has an image-side numerical aperture greater than 0.55. Each mirror (M1 to M8) is configured in such a way that it can be measured by a testing optical unit (15) having at least one DOE (16) with a predetermined maximum diameter for test wavefront generation. For the complete measurement of all reflection surfaces of the mirrors (M1 to M8), a maximum number of DOEs (16i) of the testing optical unit (15) and/or a maximum number of DOE test positions of the at least one DOE (16) of the testing optical unit (15) comes into play, which is no more than five times the number of mirrors in the imaging optical unit (7). The result is imaging optical unit in which a testing-optical measurement remains manageable even in the case of a design with an image-side numerical aperture which is relatively large in comparison with the prior art. The imaging optical unit may be a constituent part of an optical system of an illumination system of a projection exposure apparatus for producing a patterned component.

8. 发明申请

WO2022223447A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM KATALYTISCHEN FREISETZEN EINES GASES AUS EINEM TRÄGERMATERIAL 审中-公开
公开(公告)号：WO2022223447A1
公开(公告)日：2022-10-27
申请号：PCT/EP2022/060066
申请日：2022-04-14
申请人： HYDROGENIOUS LOHC TECHNOLOGIES GMBH
发明人： WEISS, Alexander , PAETZ, Caspar , BÜCH, Holger , SEIDEL, Alexander , HESTERMANN, Ines , BÖSMANN, Andreas , WASSERSCHEID, Peter , PREUSTER, Patrick , GRAUERT, Maximilian , KADAR, Julian , SOLYMOSI, Thomas , THOMMES, Matthias
IPC分类号： C01B3/00 , B01D53/14 , B01J8/02 , B01J8/06
摘要： Eine Vorrichtung (1c) zum katalytischen Freisetzen eines Gases aus einem Trägermaterial umfasst ein Reaktorgehäuse (3c), in dem Katalysatormaterial (8) angeordnet ist, wobei das Reaktorgehäuse (3c) eine Zuführöffnung (16) zum Zuführen des Trägermaterials in das Reaktorgehäuse (3c), eine Abführöffnung (17, 18) zum Abführen des freigesetzten Gases und/oder des Trägermaterials aus dem Reaktorgehäuse (3c) und eine von der Zuführöffnung (16) zur Abführöffnung (17, 18) orientierte Fluidströmungsrichtung (19) aufweist. Die Vorrichtung (1c) umfasst ferner ein zumindest teilweise im Reaktorgehäuse (3c) angeordnetes Wärmeelement (20), das eine Längsachse (21) aufweist, die quer zu der Fluidströmungsrichtung (19) orientiert ist.

9. 发明申请

WO2022194975A1 HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR EINEN SIC-VOLUMENEINKRISTALL HOMOGENER SCHRAUBENVERSETZUNGSVERTEILUNG UND SIC-SUBSTRAT 审中-公开
公开(公告)号：WO2022194975A1
公开(公告)日：2022-09-22
申请号：PCT/EP2022/056909
申请日：2022-03-17
申请人： SICRYSTAL GMBH
发明人： ECKER, Bernhard , MÜLLER, Ralf , STOCKMEIER, Matthias , VOGEL, Michael , WEBER, Arnd-Dietrich
IPC分类号： C30B23/02 , C30B29/36
摘要： Das Verfahren ist zur Herstellung mindestens eines SiC-Volumeneinkristalls (2) mittels einer Sublimationszüchtung bestimmt. Vor Züchtungsbeginn wird in einem Kristallwachstumsbereich eines Züchtungstiegels ein SiC-Keimkristall (8) mit einer Wachstumsoberfläche (18) angeordnet und in einen SiC-Vorratsbereich des Züchtungstiegels SiC-Quellmaterial eingebracht. Während der Züchtung wird bei einer Züchtungstemperatur von bis zu 2400°C und einem Züchtungsdruck zwischen 0,1 mbar und 100 mbar mittels Sublimation des SiC-Quellmaterials und mittels Transport der sublimierten gasförmigen Komponenten in den Kristallwachstumsbereich dort eine SiC-Wachstumsgasphase erzeugt, in der mittels Abscheidung aus der SiC-Wachstumsgasphase auf dem SiC-Keimkristall (8) ein SiC- Volumeneinkristall (2) aufwächst. Vor Züchtungsbeginn wird der SiC- Keimkristall (8) an der Wachstumsoberfläche (18) auf das Vorhandensein von Keim-Schraubenversetzungen (20) untersucht, wobei die Wachstumsoberfläche (18) in Keimsegmente aufgeteilt wird und für jedes Keimsegment eine zugehörige lokale Schraubenversetzungs-Keimsegmentdichte ermittelt wird, und bearbeitet, so dass in jedem Keimsegment, dessen lokale Schraubenversetzungs-Keimsegmentdichte um mindestens einen Faktor von 1,5 bis 4 über einer für die gesamte Wachstumsoberfläche (18) ermittelten Schraubenversetzungs-Keimgesamtdichte liegt, Nukleationszentren (22) generiert werden, wobei die Nukleationszentren (22) während der danach durchgeführten Züchtung Ausgangspunkte für jeweils mindestens eine Kompensations- Schraubenversetzung sind.

10. 发明申请

WO2022171415A1 BRILLENSCHEIBE 审中-公开
公开(公告)号：WO2022171415A1
公开(公告)日：2022-08-18
申请号：PCT/EP2022/051308
申请日：2022-01-21
申请人： UVEX ARBEITSSCHUTZ GMBH
发明人： JASCHKE, Simon , WACKER, Marco , KÜHNLEIN, Florian , WOLF, Martin
IPC分类号： G02C11/08
摘要： Eine Brillenscheibe umfasst einen Grundkörper (11) und mindestens eine, den Grundkörper (11) zumindest bereichsweise bedeckende, transparente, elektrisch leitfähige Beschichtung (12) sowie elektrische Kontaktmittel (16, 17, 18, 19), die die mindestens eine Beschichtung (12) bereichsweise bedecken und mit der mindestens einen Beschichtung (12) in elektrischer Verbindung stehen sowie mindestens eine elektrische Heizzone mit bilden.

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