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1. 发明专利

DE1521491C2 未知
公开(公告)号：DE1521491C2
公开(公告)日：1975-07-31
申请号：DE1521491
申请日：1966-01-11
申请人： SHIPLEY COMPANY INC., NEWTON, MASS. (V.ST.A.)
发明人： CHIPLEY JUN., CHARLES RAYMOND , GULLA, MICHAEL
IPC分类号： C23C18/40 , C23C3/02

2. 发明专利

TW200301409A 光阻用顯像液审中-公开
简体标题：光阻用显像液
公开(公告)号：TW200301409A
公开(公告)日：2003-07-01
申请号：TW091136318
申请日：2002-12-13
申请人：希普萊有限公司 SHIPLEY COMPANY INC.
发明人：神田隆 TAKASHI KANDA , 近藤正樹
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/322
摘要：本發明係提供一種適用於具有形成於晶圓之鋁基體上所形成之光阻顯像液的新穎光阻用顯像液者。含有鹼組分、含鈣化合物及螯合劑之光阻顯像液者，該螯合劑為選自1-羥基亞乙基-1，1-二膦酸、胺基三亞甲基膦酸、2-磷丁烷-1，2，4-三羧酸、乙烯二胺基四亞甲基膦酸、二乙烯三胺基五亞甲基膦酸、六亞甲基二胺基四亞甲基膦酸、以及二乙烯三胺基五(亞甲基膦酸)所成群中之光阻用顯像液。
简体摘要：本发明系提供一种适用于具有形成于晶圆之铝基体上所形成之光阻显像液的新颖光阻用显像液者。含有碱组分、含钙化合物及螯合剂之光阻显像液者，该螯合剂为选自1-羟基亚乙基-1，1-二膦酸、胺基三亚甲基膦酸、2-磷丁烷-1，2，4-三羧酸、乙烯二胺基四亚甲基膦酸、二乙烯三胺基五亚甲基膦酸、六亚甲基二胺基四亚甲基膦酸、以及二乙烯三胺基五(亚甲基膦酸)所成群中之光阻用显像液。

3. 发明专利

TW200301408A 光阻用顯像液审中-公开
简体标题：光阻用显像液
公开(公告)号：TW200301408A
公开(公告)日：2003-07-01
申请号：TW091136317
申请日：2002-12-13
申请人：希普萊有限公司 SHIPLEY COMPANY INC.
发明人：神田隆 TAKASHI KANDA , 近藤正樹
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/322 , G03F7/038 , H01L21/31133
摘要：本發明係提供一種新穎之光阻用顯像液。含有鹼組分、膦酸或磷酸鹽之未含氟的界面活性劑，以及含氟之界面活性劑的光阻用顯像液。
简体摘要：本发明系提供一种新颖之光阻用显像液。含有碱组分、膦酸或磷酸盐之未含氟的界面活性剂，以及含氟之界面活性剂的光阻用显像液。

4. 发明专利

TW588224B 用以製備光阻組成物之方法有权
简体标题：用以制备光阻组成物之方法
公开(公告)号：TW588224B
公开(公告)日：2004-05-21
申请号：TW087117681
申请日：1998-10-26
申请人：希普萊有限公司 SHIPLEY COMPANY INC. , 國際商業機械公司 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
发明人：羅傑辛塔 SINTA ROGER , 猶代古瑪 KUMAR, UDAY , 喬治歐斯拉 ORSULA, GEORGE W. , 詹姆士法黑 FAHEY, JAMES T. , 威廉柏恩斯瓦爾德 BRUNSVOLD, WILLIAM R. , 黃武松 HUANG, WU-SONG , 阿瑪德卡特納尼 KATNANI, AHMAD D.
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0045 , Y10S430/106
摘要：本發明提供一種於不單離各種成分下製備光阻之方法，即"單鍋"法。較佳之本發明單鍋製備方法包括於選擇之光阻溶劑中製備光阻樹脂黏合劑，不自該溶劑單離該樹脂黏合劑，而添加感光性成分及任何其他所需光阻材料於該溶液狀之樹脂黏合劑中，以提供處於其中已製備樹脂黏合劑之溶劑中的液態光阻組成物。本發明亦提供一種新穎之合成抗蝕性樹脂黏合劑之方法，尤其是酚聚合物，其含有共價鍵結於另一部分之酚OH基，諸如酸不安定基或惰性保護基。
简体摘要：本发明提供一种于不单离各种成分下制备光阻之方法，即"单锅"法。较佳之本发明单锅制备方法包括于选择之光阻溶剂中制备光阻树脂黏合剂，不自该溶剂单离该树脂黏合剂，而添加感光性成分及任何其他所需光阻材料于该溶液状之树脂黏合剂中，以提供处于其中已制备树脂黏合剂之溶剂中的液态光阻组成物。本发明亦提供一种新颖之合成抗蚀性树脂黏合剂之方法，尤其是酚聚合物，其含有共价键结于另一部分之酚OH基，诸如酸不安定基或惰性保护基。

5. 发明授权

EP0542008B2 Substrate coated with antihalation composition and method for treating said substrate 失效
标题翻译：具有抗反射涂布的基材组合物和方法，用于这种衬底的治疗。
公开(公告)号：EP0542008B2
公开(公告)日：2001-02-28
申请号：EP92118070.9
申请日：1992-10-22
申请人： SHIPLEY COMPANY INC.
发明人： Thackeray, James W. , Orsula, George W.
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/40 , G03F7/09
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/038 , G03F7/38

6. 发明授权

EP0568827B1 Photoimageable compositions 失效
标题翻译：甲光成像组合物
公开(公告)号：EP0568827B1
公开(公告)日：2000-08-02
申请号：EP93105753.3
申请日：1993-04-07
申请人： SHIPLEY COMPANY INC.
发明人： Pai, Daniel Y. , Rodriguez, Stephen S. , Sinta, Roger F.
IPC分类号： G03F7/16 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/164 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S524/901

7. 发明授权

EP0555749B1 Radiation sensitive compositions and processes 失效
标题翻译：辐射敏感组合物和方法
公开(公告)号：EP0555749B1
公开(公告)日：1999-05-19
申请号：EP93101634.9
申请日：1993-02-03
申请人： SHIPLEY COMPANY INC.
发明人： Pai, Daniel Y. , Rodriguez Stephen S. , Cheetham, Kevin, J. , Calabrese, Gary, S. , Sinta Roger F.
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0045

8. 发明授权

EP0539714B1 Amphoteric compositions 失效
标题翻译：两性组成
公开(公告)号：EP0539714B1
公开(公告)日：1998-12-23
申请号：EP92116000.8
申请日：1992-09-18
申请人： SHIPLEY COMPANY INC.
发明人： Hawkins, Robert E. , Pai, Daniel Y.
IPC分类号： G03F7/16 , G03F7/038 , G03F7/032 , C09D5/44
CPC分类号： G03F7/164 , C09D5/44 , G03F7/032 , G03F7/038 , Y10S430/136

9. 发明授权

EP0397988B1 Plasma processing with metal mask integration 失效
标题翻译：等离子体处理与金属面具整合
公开(公告)号：EP0397988B1
公开(公告)日：1997-11-26
申请号：EP90105228.2
申请日：1990-03-20
申请人： SHIPLEY COMPANY INC.
发明人： Gulla, Michael , Sricharoenchaikit, Prasit
IPC分类号： G03F7/40
CPC分类号： H05K3/185 , G03F7/265 , G03F7/40

10. 发明授权

EP0401499B1 Photoresist with copolymer binder 失效
标题翻译：含光刻胶共聚物粘合剂
公开(公告)号：EP0401499B1
公开(公告)日：1995-12-13
申请号：EP90107478.1
申请日：1990-04-19
申请人： SHIPLEY COMPANY INC.
发明人： Thackeray, James W. , Orsula, George W. , Sinta, Roger,
IPC分类号： G03F7/023 , G03F7/038 , G03F7/029
CPC分类号： G03F7/0295 , G03F7/0233 , G03F7/038 , Y10S430/106 , Y10S430/11

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