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1. 发明专利

TWI300308B 平版印刷系統 LITHOGRAPHY SYSTEM 有权
简体标题：平版印刷系统 LITHOGRAPHY SYSTEM
公开(公告)号：TWI300308B
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：TW092129694
申请日：2003-10-24
申请人：瑪珀平版印刷股份有限公司 MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人：馬可尚嘉歌衛蘭 MARCO JAN-JACO WIELAND , 連歌嘉格 REMCO JAGER , 强斯克莉斯丁凡史必克 JOHANNES CHRISTIAAN VAN'T SPIJKER , 比得克魯特 PIETER KRUIT
IPC分类号： H04N
CPC分类号： G03F7/70383 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/52 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70825 , G03F7/70991 , H01J37/045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0432 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/2482
摘要：本發明是有關一種將一模式傳送至一個目標表面之無
光罩式平版印刷系統,其包含有至少一個用以產生許多小
光束之光束產生器;包含許多調變器用以調變小光束量之
調變裝置;以及一個用以控制各調變器之控制裝置,其中
該控制裝置會產生並傳送模式資料給用以控制各小光束量
之前述調變裝置。該控制裝置包括至少一個用以儲存模式
資料之資料儲存器;至少一個用以從資料儲存裝置讀出模
式資料之讀取單元;至少一個用以將讀出模式資料從資料
儲存裝置轉換為至少一個調變光束之資料轉換器;至少一
個用以將前述至少一個調變光束傳送至前述調變裝置之光
傳送器。
简体摘要：本发明是有关一种将一模式发送至一个目标表面之无光罩式平版印刷系统,其包含有至少一个用以产生许多小光束之光束产生器;包含许多调制器用以调制小光束量之调制设备;以及一个用以控制各调制器之控制设备,其中该控制设备会产生并发送模式数据给用以控制各小光束量之前述调制设备。该控制设备包括至少一个用以存储模式数据之数据存储器;至少一个用以从数据存储设备读出模式数据之读取单元;至少一个用以将读出模式数据从数据存储设备转换为至少一个调制光束之数据转换器;至少一个用以将前述至少一个调制光束发送至前述调制设备之光发送器。

2. 发明专利

TW200417243A 平版印刷系統 LITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
简体标题：平版印刷系统 LITHOGRAPHY SYSTEM
公开(公告)号：TW200417243A
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：TW092129694
申请日：2003-10-24
申请人：瑪珀平版印刷股份有限公司 MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人：馬可尚嘉歌衛蘭 MARCO JAN-JACO WIELAND , 連歌嘉格 REMCO JAGER , 强斯克莉斯丁凡史必克 JOHANNES CHRISTIAAN VAN'T SPIJKER , 比得克魯特 PIETER KRUIT
IPC分类号： H04N
CPC分类号： G03F7/70383 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/52 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70825 , G03F7/70991 , H01J37/045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0432 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/2482
摘要：本發明是有關一種將一模式傳送至一個目標表面之無光罩式平版印刷系統，其包含有至少一個用以產生許多小光束之光束產生器；包含許多調變器用以調變小光束量之調變裝置；以及一個用以控制各調變器之控制裝置，其中該控制裝置會產生並傳送模式資料給用以控制各小光束量之前述調變裝置。該控制裝置包括至少一個用以儲存模式資料之資料儲存器；至少一個用以從資料儲存裝置讀出模式資料之讀取單元；至少一個用以將讀出模式資料從資料儲存裝置轉換為至少一個調變光束之資料轉換器；至少一個用以將前述至少一個調變光束傳送至前述調變裝置之光傳送器。
简体摘要：本发明是有关一种将一模式发送至一个目标表面之无光罩式平版印刷系统，其包含有至少一个用以产生许多小光束之光束产生器；包含许多调制器用以调制小光束量之调制设备；以及一个用以控制各调制器之控制设备，其中该控制设备会产生并发送模式数据给用以控制各小光束量之前述调制设备。该控制设备包括至少一个用以存储模式数据之数据存储器；至少一个用以从数据存储设备读出模式数据之读取单元；至少一个用以将读出模式数据从数据存储设备转换为至少一个调制光束之数据转换器；至少一个用以将前述至少一个调制光束发送至前述调制设备之光发送器。

3. 发明专利

TW201834337A 饋通裝置與訊號導體路徑佈置审中-公开
简体标题：馈通设备与信号导体路径布置
公开(公告)号：TW201834337A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106142935
申请日：2017-12-07
申请人：荷蘭商梅帕光刻IP股份有限公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人：史普蘭傑司約翰內思佩楚斯 , SPRENGERS, JOHANNES PETRUS , 歐騰克里斯蒂安 , OTTEN, CHRISTIAAN
IPC分类号： H01R13/74 , H05K1/14 , H01J37/30
摘要：一種饋通裝置（50；150），用於在具有群組寬度的訊號導體群組（60；160）中的訊號導體周圍形成氣封密封。該裝置包含開槽構件（52；152）與底座（62；162）。底座定義沿著饋通方向（X）完全延伸經過底座的通孔（65），並適於容納開槽構件。開槽構件定義與饋通方向相關聯的相對兩側上的第一與第二表面（53、54；153、154），以及定義面向橫向於饋通方向的側表面（55、56；155、156）。開槽構件包含狹槽（58；158），狹槽（58；158）沿著饋通方向延伸經過開槽構件，而通向第一與第二表面，並沿著側表面通向縱向開口（59；159）。狹槽橫向延伸到開槽構件中的一狹槽深度，狹槽深度至少等於訊號導體群組寬度。
简体摘要：一种馈通设备（50；150），用于在具有群组宽度的信号导体群组（60；160）中的信号导体周围形成气封密封。该设备包含开槽构件（52；152）与底座（62；162）。底座定义沿着馈通方向（X）完全延伸经过底座的通孔（65），并适于容纳开槽构件。开槽构件定义与馈通方向相关联的相对两侧上的第一与第二表面（53、54；153、154），以及定义面向横向于馈通方向的侧表面（55、56；155、156）。开槽构件包含狭槽（58；158），狭槽（58；158）沿着馈通方向延伸经过开槽构件，而通向第一与第二表面，并沿着侧表面通向纵向开口（59；159）。狭槽横向延伸到开槽构件中的一狭槽深度，狭槽深度至少等于信号导体群组宽度。

4. 发明申请

WO2018117275A1 FABRICATING UNIQUE CHIPS USING A CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2018117275A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：PCT/JP2017/047416
申请日：2017-12-22
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： VAN KERVINCK, Marcel Nicolaas Jacobus , KUIPER, Vincent Sylvester , WIELAND, Marco Jan-Jaco
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/82
摘要： Method of manufacturing electronic devices using a maskless lithographic exposure system using a maskless pattern writer. The method comprises generating beamlet control data for controlling the maskless pattern writer to expose a wafer for creation of the electronic devices, wherein the beamlet control data is generated based on a feature data set defining features selectable for individualizing the electronic devices, wherein exposure of the wafer according to the beamlet control data results in exposing a pattern having a different selection of the features from the feature data set for different subsets of the electronic devices.

5. 发明申请

WO2018117274A1 SECURE CHIPS WITH SERIAL NUMBERS 审中-公开
公开(公告)号：WO2018117274A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：PCT/JP2017/047415
申请日：2017-12-22
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： DE LANGEN, Johannes, Cornelis, Jacobus , VAN KERVINCK, Marcel, Nicolaas, Jacobus , KUIPER, Vincent, Sylvester
IPC分类号： H01L21/02
摘要： An electronic device comprising a semiconductor chip which comprises a plurality of structures formed in the semiconductor chip, wherein the semiconductor chip is a member of a set of semiconductor chips, the set of semiconductor chips comprises a plurality of subsets of semiconductor chips, and the semiconductor chip is a member of only one of the subsets. The plurality of structures of the semiconductor chip includes a set of common structures which is the same for all of the semiconductor chips of the set, and a set of non-common structures, wherein the non-common structures of the semiconductor chip of the subset is different from a non-common circuit of the semiconductor chips in every other subset. At least a first portion of the non-common structures and a first portion of the common structures form a first non-common circuit, wherein the first non-common circuit of the semiconductor chips of each subset is different from a non-common circuit of the semiconductor chips in every other subset. At least a second portion of the non-common structures is adapted to store or generate a first predetermined value which uniquely identifies the first non-common circuit, wherein the first predetermined value is readable from outside the semiconductor chip by automated reading means.

6. 发明申请

WO2018047984A1 METHOD AND SYSTEM FOR FABRICATING UNIQUE CHIPS USING A CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
标题翻译：使用带电粒子多光栅光刻系统制作独特芯片的方法和系统
公开(公告)号：WO2018047984A1
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：PCT/JP2017/033370
申请日：2017-09-08
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： VAN KERVINCK, Marcel Nicolaas Jacobus , KUIPER, Vincent Sylvester
IPC分类号： G03F7/20
摘要： A method of creating electronic devices such as semiconductor chips using a maskless lithographic exposure system such as a charged particle multi-beamlet lithography system (301A-301D). The maskless lithographic exposure system comprises a lithography subsystem (316) including a maskless pattern writer such as a charged particle multi-beamlet lithography machine (1) or ebeam machine. The method comprises introducing unique chip design data (430) or information related thereto into pattern data comprising common chip design data before streaming the pattern data to the maskless pattern writer.
摘要翻译：使用诸如带电粒子多小射束光刻系统（301A-301D）之类的无掩模光刻曝光系统来产生诸如半导体芯片之类的电子器件的方法。无掩模光刻曝光系统包括光刻子系统（316），光刻子系统包括诸如带电粒子多小射束光刻机（1）或电子束机的无掩模图案写入器。该方法包括在将图案数据流传送到无掩模图案写入器之前，将唯一芯片设计数据（430）或与其相关的信息引入包括常见芯片设计数据的图案数据中。

7. 发明申请

WO2018047981A1 SECURE CHIPS WITH SERIAL NUMBERS 审中-公开
标题翻译：带有序列号的安全芯片
公开(公告)号：WO2018047981A1
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：PCT/JP2017/033175
申请日：2017-09-08
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： DE LANGEN, Johannes Cornelis Jacobus , VAN KERVINCK, Marcel Nicolaas Jacobus , KUIPER, Vincent Sylvester
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G06F17/5072 , G06F17/5077 , G06F21/73 , G06F2217/12 , H01L23/544 , H01L2223/5444 , H01L2223/5448
摘要： An electronic device comprises a semiconductor chip (100) which comprises a plurality of structures. The chip (100) is a member of a set of chips. The set of chips comprises a plurality of subsets of chips. The chip is a member of only one of the subsets. The structures of the chip include a set of common structures (101) which is the same for all of the chips of the set, and a set of non-common structures (102). The non-common structures (102) of the subset are different from the non-common structures (102) in every other subset. A first portion of the non-common structures (102) is adapted to store or generate a first predetermined value. The first predetermined value is readable from outside of the semiconductor chip (100) by automated reading means. The first portion of the non-common structures (102) is functionally independent from the common structures (101).
摘要翻译：电子设备包括具有多个结构的半导体芯片（100）。芯片（100）是一组芯片的成员。该组芯片包括多个芯片子集。该芯片只是其中一个子集的成员。芯片的结构包括一组共同结构（101），其对于该组的所有芯片和一组非共同结构（102）是相同的。子集的非公共结构（102）与每个其他子集中的非公共结构（102）不同。非公共结构（102）的第一部分适于存储或生成第一预定值。第一预定值可通过自动读取装置从半导体芯片（100）的外部读取。非公共结构（102）的第一部分在功能上与公共结构（101）无关。

8. 发明申请

WO2017183980A2 METHOD AND SYSTEM FOR THE REMOVAL AND/OR AVOIDANCE OF CONTAMINATION IN CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEMS 审中-公开
标题翻译：在带电粒子束系统中去除和/或避免污染的方法和系统
公开(公告)号：WO2017183980A2
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：PCT/NL2017/050256
申请日：2017-04-21
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： SMITS, Marc , KONING, Johan Joost , LODEWIJK, Chris Franciscus Jessica , MOOK, Hindrik Willem , LATTARD, Ludovic
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/02
摘要： A charged particle beam system is disclosed, comprising: -a charged particle beam generator for generating a beam of charged particles; -a charged particle optical column arranged in a vacuum chamber, wherein the charged particle optical column is arranged for projecting the beam of charged particles onto a target, and wherein the charged particle optical column comprises a charged particle optical element for influencing the beam of charged particles; -a source for providing a cleaning agent; -a conduit connected to the source and arranged for introducing the cleaning agent towards the charged particle optical element; wherein the charged particle optical element comprises: -a charged particle transmitting aperture for transmitting and/or influencing the beam of charged particles, and -at least one vent hole for providing a flow path between a first side and a second side of the charged particle optical element, wherein the vent hole has a cross section which is larger than a cross section of the charged particle transmitting aperture. Further, a method for preventing or removing contamination in the charged particle transmitting apertures is disclosed, comprising the step of introducing the cleaning agent while the beam generator is active.
摘要翻译：公开了带电粒子束系统，其包括： - 用于产生带电粒子束的带电粒子束发生器; - 设置在真空室中的带电粒子光学镜筒，其中，所述带电粒子光学镜筒布置成用于将所述带电粒子束投射到目标上，并且其中，所述带电粒子光学镜筒包括带电粒子光学元件，用于影响所述带电粒子束粒子; - 提供清洁剂的来源; - 连接到源的导管，用于将清洁剂引向带电粒子光学元件; 其中所述带电粒子光学元件包括： - 用于传输和/或影响所述带电粒子束的带电粒子传输孔径，以及 - 至少一个通风孔，用于在所述带电粒子的第一侧和第二侧之间提供流动路径光学元件，其中所述通气孔具有比所述带电粒子发射孔的横截面大的横截面。此外，公开了一种用于防止或去除带电粒子透射孔中的污染的方法，包括在束发生器处于活动状态时引入清洁剂的步骤。

9. 发明申请

WO2015170972A1 ENCLOSURE FOR A TARGET PROCESSING MACHINE 审中-公开
标题翻译：目标加工机的外壳
公开(公告)号：WO2015170972A1
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：PCT/NL2015/050303
申请日：2015-05-01
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： VIJVERBERG, Joep Gerard , PLANDSOEN, Laurens Vincent , VAN GELDER, Bas , DE BOER, Guido , DANSBERG, Michel Pieter
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B25J11/00 , G03F7/7075 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F9/7096 , H01J37/16 , H01J37/3177 , H01J2237/024 , H01J2237/166 , H01L21/6719 , H01L21/67225 , H01L21/67775
摘要： The invention relates to an assembly (1) for enclosing a target processing machine. The assembly comprises an enclosure (2) and a transfer unit (3). The enclosure comprises a base plate (21) for arranging said target processing machine thereon, side wall panels (22), which are fixed to said base plate, and a top wall panel (23) which is fixed to said side wall panels. In addition, the enclosure comprises an access opening (24) in a side wall of the enclosure. The transfer unit comprising one or more transfer elements (31) for moving the transfer unit with respect to the base plate. The transfer unit further comprises a door panel (32) which is arranged for closing the access opening, wherein the door panel is movably mounted to the transfer unit by means of a flexible coupling (33) which allows a movement of the door panel with respect to the transfer unit at least in a direction towards and/or away from the enclosure.
摘要翻译：本发明涉及一种用于封闭目标加工机器的组件（1）。组件包括外壳（2）和传送单元（3）。所述外壳包括用于在其上布置所述目标加工机的基板（21），固定到所述基板的侧壁板（22）和固定到所述侧壁板上的顶壁板（23）。此外，外壳包括在外壳的侧壁中的进入开口（24）。传送单元包括用于相对于基板移动传送单元的一个或多个传送元件（31）。传送单元还包括门板（32），其被设置成关闭进入开口，其中门板通过柔性联接件（33）可移动地安装到传送单元上，该柔性联接器允许门板相对于至少在朝向和/或远离外壳的方向上传送到传送单元。

10. 发明申请

WO2015110527A1 ELECTRICAL CHARGE REGULATION FOR A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE DURING CHARGED PARTICLE BEAM PROCESSING 审中-公开
标题翻译：充电粒子束处理期间半导体基板的电荷调节
公开(公告)号：WO2015110527A1
公开(公告)日：2015-07-30
申请号：PCT/EP2015/051248
申请日：2015-01-22
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： BRANDT, Pieter, Lucas
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： H01L21/0277 , H01J2237/0041 , H01J2237/20 , H01J2237/3175 , H01L21/32051 , H01L23/48 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： A method for preparing a semiconductor target (10), the method comprising providing a semiconductor substrate (12) including a main substrate surface (14) which defines a substrate periphery (20) along an outer edge. The semiconductor substrate (12) further has an structure layer (30) arranged on the main substrate surface, and comprising a structure layer periphery (32) that is located inwards with respect to the substrate periphery, so as to leave exposed a peripheral substrate region (22) along the substrate periphery. The method further comprises applying an electrically conductive layer (38) on the structure layer, wherein the electrically conductive layer extends beyond the structure layer periphery to establish electrical contact in a contacting portion (23) of the peripheral substrate region.
摘要翻译：一种制备半导体靶（10）的方法，所述方法包括提供半导体衬底（12），所述半导体衬底（12）包括沿着外边缘限定衬底周边（20）的主衬底表面（14）。半导体衬底（12）还具有布置在主衬底表面上的结构层（30），并且包括相对于衬底周边位于内部的结构层周边（32），以使外围衬底区域（22）。所述方法还包括在所述结构层上施加导电层（38），其中所述导电层延伸超过所述结构层周边以在所述外围基底区域的接触部分（23）中建立电接触。

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