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    • 4. 发明专利
    • Interconnecting structure body and forming method therefor
    • 互连结构体及其形成方法
    • JP2013038444A
    • 2013-02-21
    • JP2012223435
    • 2012-10-05
    • Megica Corpメギカ・コーポレイションMegica Corporation
    • M S RIN
    • H01L21/768H01L21/822H01L23/522H01L27/04
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new method for forming an interconnection line.SOLUTION: A thin line interconnection part (60) is provided in a surface of a substrate (10), or in a first dielectrics layer (12), located above a semiconductor circuit (42) formed on it. A passivation layer (18) sticks to the dielectrics layer, and a second thick dielectrics layer (20) is formed on a surface of the passivation layer. A thick and wide interconnection line is formed in the second thick dielectrics layer. The first dielectrics layer may be omitted, so as to form a wide and thick interconnection network on the surface of the passivation layer which sticks to the surface of the substrate.
    • 要解决的问题:提供一种形成互连线的新方法。 解决方案:在衬底(10)的表面或位于其上形成的半导体电路(42)上方的第一电介质层(12)中设置细线互连部分(60)。 钝化层(18)粘附到电介质层,并且在钝化层的表面上形成第二厚电介质层(20)。 在第二厚电介质层中形成厚且宽的互连线。 可以省略第一电介质层,以在钝化层的表面上形成宽而厚的互连网络,其粘附到衬底的表面。 版权所有(C)2013,JPO&INPIT