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1. 发明专利

JP2014197706A ＥＵＶマイクロリソグラフィ用の投影露光装置の照明光学系に使用するための視野ファセットミラー有权
标题翻译：用于EUV微观计算的投影曝光装置的照明光源的场面反射镜
公开(公告)号：JP2014197706A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：JP2014137934
申请日：2014-07-03
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー , Carl Zeiss Smt Gmbh
发明人： ADRIAN STAICU , MARTIN ENDRES
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/207
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0875 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , Y10T29/49826
摘要：【課題】均一な物体視野照明を高いEUVスループットと同時に保証することが高い要求を満たすように、視野ファセットミラーを開発すること。【解決手段】視野ファセットミラーは、EUVマイクロリソグラフィのための投影露光装置の照明光学系における使用において、物体視野に配置された物体の構造を像視野へと伝達するように機能する。視野ファセットミラー(6)は、反射面(22)を有する複数の視野ファセット(18x)を有する。互いに隣接する視野ファセット(18x)の装置は、基部平面(xy)を張っている。視野ファセット(18x)のうちの少なくとも2つの反射面(22)の基部平面(x,y)上への投影は、サイズ、形状、向きというパラメータのうちの少なくとも1つに関して異なる。均一な物体視野照明と同時の高いEUVスループットの保証が高い要件を満たす視野ファセットミラーがもたらされる。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：开发场面反射镜，以满足高度确保均匀的对象场照明的要求，同时具有高的EUV吞吐量。解决方案：场面反射镜用于将布置在物场中的物体的结构传输到当用于EUV微光刻的投影曝光装置的照明光学元件时，该图像场。场面反射镜（6）包括多个场面（18），每个场面具有反射面（22）。彼此相邻的场面（18）的装置跨越基面（x，y）。至少两个场面（18）到基面（x，y）上的反射面（22）的投影相对于尺寸，形状和取向中的至少一个而不同。因此，可以获得满足高度确保同时具有高EUV吞吐量的均匀物场照明的要求的场分面镜。

2. 发明专利

JP2014167660A Method for manufacturing projection objective appliance and projection objective appliance manufactured by this method 有权
标题翻译：本方法制作投影目标器具和投影方法的方法
公开(公告)号：JP2014167660A
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：JP2014117797
申请日：2014-06-06
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： HEIKO FELDMANN , TORALF GRUNER , EPPLE ALEXANDER
IPC分类号： G02B13/14 , G02B13/18 , G02B13/24 , G03F7/20 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a projection objective appliance and the projection objective appliance manufactured by this method.SOLUTION: A method for manufacturing a projection objective appliance includes a step of defining an initial design for a projection objective appliance and a step of optimizing the design using a merit function having a plurality of merit function components AB, IRRAD EFP, each of which reflects a specific quality parameter. One of that merit function components defines a maximum irradiance requirement requiring that a normalized effective irradiance value representing an effective irradiance AB, IRRAD EFF normalized to an effective irradiance in an image surface of the projection objective appliance does not exceed a predefined irradiance threshold value IRR TV on each optical surface of the projection objective appliance except for a last optical surface directly adjacent to an image surface of the projection objective appliance. Optical surfaces positioned within caustic regions and/or critically small effective sub-apertures on optical surfaces are thereby systematically avoided.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于制造投射物镜的方法以及通过该方法制造的投影物镜装置。解决方案：一种用于制造投射物镜的装置的方法包括：对投射物镜的初始设计和使用具有多个优点函数分量AB，IRRAD EFP的优值函数来优化设计的步骤，每个功能分量反映特定的质量参数。其中一个优点功能组件定义了最大辐照度要求，要求表示在投影物镜设备的图像表面中归一化为有效辐照度的有效辐照度AB，IRRAD EFF的归一化有效辐照度值不超过预定辐照度阈值IRR TV 在投影物镜设备的每个光学表面上，除了与投影物镜设备的图像表面直接相邻的最后光学表面。因此系统地避免了位于苛性区域内的光学表面和/或光学表面上的临界小的有效子孔。

3. 发明专利

JP2014160257A Optical module 有权
标题翻译：光学模块
公开(公告)号：JP2014160257A
公开(公告)日：2014-09-04
申请号：JP2014060303
申请日：2014-03-24
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： JENS KUGLER , ULRICH WEBER , NICOLAI WENGERT
IPC分类号： G02B7/02
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/003 , G02B7/02 , G03F7/70825
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a support element and a method for supporting an optical element which allow in a simple manner a high accuracy and a high control bandwidth in positioning and orienting the optical element and extension of the lifetime of the support element.SOLUTION: An optical module comprises: a support unit; and at least one bipod 109.1 for holding and/or positioning an optical element 106.1 of a microlithographic projection exposure system relative to the support unit. The bipod 109.1 includes two bipod braces, for each of which a brace foot is directly or indirectly connected to the support unit 110 at a first end and a brace head is directly or indirectly connected to an optical element 106.1 at a second end, and which can be adjusted by at least one lever 113. At least one direction of motion of the lever is outside of the bipod plane, and a connection unit has at least one flexure with precisely one bending plane.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种支撑元件和支撑光学元件的方法，其允许以简单的方式在定位和定向光学元件以及延长支撑元件的寿命的同时具有高精度和高控制带宽。光模块包括：支撑单元; 以及至少一个双头109.1，用于保持和/或定位相对于支撑单元的微光刻投影曝光系统的光学元件106.1。双脚架109.1包括两个双脚架，其中支撑脚在第一端处直接或间接地连接到支撑单元110，并且支架头在第二端处直接或间接地连接到光学元件106.1，并且哪个可以通过至少一个杠杆113进行调节。杠杆的至少一个运动方向在双脚架平面之外，并且连接单元具有至少一个具有精确的一个弯曲平面的挠曲。

4. 发明专利

JP2014160241A Mechanism for operating element of microlithographic projection exposure device 有权
标题翻译：用于操作微波投影曝光装置元件的机构
公开(公告)号：JP2014160241A
公开(公告)日：2014-09-04
申请号：JP2014010360
申请日：2014-01-23
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： SASCHA BLEIDISTEL , ULRICH SCHOENHOFF , FISCHER JUERGEN
IPC分类号： G02B7/198 , G02B7/185 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B5/0891 , G02B7/005 , G02B7/181 , G02B7/185 , G02B26/0825 , G02B27/0068 , G03F7/7015 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/70825 , G03F7/709
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mechanism for operating an element of a microlithographic exposure device, enabling active position control of the element with high control quality.SOLUTION: A mechanism for operating an element of a microlithographic projection exposure device includes degree of freedom of a first number ncapable of transmitting adjustable force to an optical element respectively, and actuators 111, 112, 113, 114, ... of a second number nconnected to the optical element 100 respectively through a mechanical joint in order to transmit the force to the optical element 100. The second number nis larger than the first number n. At least one of the actuators 111, 112, 113, 114, ... is arranged to at least one of the nodes of a natural vibration mode in the optical element 100.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于操作微光刻曝光装置的元件的机构，能够实现具有高控制质量的元件的主动位置控制。解决方案：用于操作微光刻投影曝光装置的元件的机构包括分别向光学元件传输可调节力的第一数量以及分别通过机械接头连接到光学元件100的第二数量的致动器111,112,113,114，...，以便将力传递到光学元件100.第二数量n大于第一数量n。致动器111,112,113,114，...中的至少一个被布置到光学元件100中的固有振动模式的至少一个节点。

5. 发明专利

JP2014146814A Illumination system for illuminating mask in microlithography projection exposure apparatus 有权
标题翻译：用于在微观投影曝光装置中照射掩模的照明系统
公开(公告)号：JP2014146814A
公开(公告)日：2014-08-14
申请号：JP2014042644
申请日：2014-03-05
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： MARKUS DEGUNTHER , MICHAEL LAI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an illumination system for illuminating a mask in a microlithography projection exposure apparatus, especially, a system including an array of reflection elements that can be achieved as a micro electromechanical system (MEMS).SOLUTION: An illumination system for illuminating a mask 16 in a scanning microlithography projection exposure apparatus has an objective system 52 including an object plane 50, at least one pupil plane 60, and an image plane 54 on which the mask 16 can be arranged. A beam deflection array 40 of reflection or transmission beam deflection elements Mis provided, and each beam deflection element Mdeflects an incident light beam by a variable deflection angle in response to a control signal. The beam deflection element Mis arranged on the object plane 50 of the objective system 52 or in close vicinity thereof.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于在微光刻投影曝光装置中照明掩模的照明系统，特别是包括可作为微机电系统（MEMS）实现的反射元件阵列的系统。解决方案：在扫描微光刻投影曝光装置中照射掩模16具有包括物平面50，至少一个光瞳平面60和可以布置掩模16的图像平面54的物镜系统52。反射或透射束偏转元件Mis的光束偏转阵列40被提供，并且每个光束偏转元件M响应于控制信号将入射光束偏转可变偏转角。光束偏转元件Mis布置在物镜系统52的物平面50上或其附近。

6. 发明专利

JP2014116609A Projection exposure apparatus comprising actuator system 有权
标题翻译：包括执行器系统的投影曝光装置
公开(公告)号：JP2014116609A
公开(公告)日：2014-06-26
申请号：JP2013267424
申请日：2013-12-25
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： SIGEL BENJAMIN , ANDREAS BERTELE , PETER KLOESCH , MARTIN MAHLMANN , WEBER JOCHEN
IPC分类号： H01L21/027 , G02B7/04
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/008 , G02B13/16 , G03F7/70266 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/709
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To disclose a projection exposure apparatus for semiconductor lithography indicating improvement of heat management.SOLUTION: A projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprises a projection objective lens. The projection objective lens includes a projection objective lens housing and an actuator system 1 for mechanical actuation of at least one optical component 7 disposed within the projection objective lens. The actuator system 1 includes at least one of means 60, 6, 2, 4 for reducing heat transfer into at least one optical component 7 caused by heat generated during operation of the actuator system 1. The actuator system includes an attenuation system, the attenuation system comprises a vibration-proof mass body including a damper, and the mass body is disposed outside of the objective lens housing.
摘要翻译：要解决的问题：公开一种用于半导体光刻的投影曝光装置，指示热管理的改进。解决方案：用于半导体光刻的投影曝光装置包括投影物镜。投影物镜包括投影物镜壳体和用于机械致动设置在投影物镜内的至少一个光学部件7的致动器系统1。致动器系统1包括装置60,6,2,4中的至少一个，用于减少由致动器系统1的操作期间产生的热量导致的至少一个光学部件7的传热。致动器系统包括衰减系统，衰减系统该系统包括具有阻尼器的防振质量体，并且质量体设置在物镜壳体的外侧。

7. 发明专利

JP2014075610A Projection objective system for microlithography, projection aligner, projection exposure method, and optical correction plate 有权
标题翻译：投影对准系统，投影对准器，投影曝光方法和光学校正板
公开(公告)号：JP2014075610A
公开(公告)日：2014-04-24
申请号：JP2014004447
申请日：2014-01-14
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： ULRICH LORING , GERD REISINGER , FRANZ-JOSEF STICKEL , SONJA SCHNEIDER , JOHANN TRENKLER , KRAUS STEFAN , GORDON DOERING , GENELMAYER AXEL
IPC分类号： H01L21/027 , G02B13/18 , G02B13/24
CPC分类号： G03F7/70983 , G03F1/62 , G03F7/70308 , Y10T428/24612
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a projection objective system for microlithography, a projection aligner, a method for manufacturing a semiconductor element and other kinds of micro device by utilizing a projection objective system, and an optical correction plate which can be used as a replaceable element for the projection objective system.SOLUTION: An optical correction plate has a body made of a material transmitting the working radiation, and the body has a first optical surface, a second optical surface, a plate normal substantially perpendicular to the first and second optical surfaces, and a thickness profile. The first optical surface has a first non-rotationally symmetric aspherical surface profile having a first peak-to-valley value PV1>λ, and the second optical surface has a second non-rotationally symmetric aspherical surface profile having a second peak-to-valley value PV2>λ. They are similar in that the plate thickness varies smaller than 0.1*(PV1+PV2)/2 over the optical correction plate.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于微光刻的投影物镜系统，投影对准器，半导体元件的制造方法和利用投影物镜系统的其他微型器件的方法，以及可用作可更换的光学校正板用于投影物镜系统的元件。解决方案：光学校正板具有由透射工作辐射的材料制成的主体，并且主体具有第一光学表面，第二光学表面，基本上垂直于第一和第二光学表面和厚度分布。第一光学表面具有具有第一峰谷值PV1>λ的第一非旋转对称非球面表面轮廓，并且第二光学表面具有第二非旋转对称非球面表面轮廓，其具有第二峰 - 谷值PV2>λ。它们类似于板厚度在光学校正板上变化小于0.1 *（PV1 + PV2）/ 2。

8. 发明专利

JP2014022739A Lithography apparatus and method 有权
标题翻译：平面设备和方法
公开(公告)号：JP2014022739A
公开(公告)日：2014-02-03
申请号：JP2013147694
申请日：2013-07-16
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： MATEIASU SHIYUUMATSUHAA , BURKHARD CORVES , JENS KUGLER , MARKUS KNUEFERMANN , BERNHARD GEUPPERT , STEPHEN SALTER , GELLRICH BERNHARD
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70825 , F16M11/20 , G03F7/70725 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithography apparatus in which damage to components of the lithography apparatus is avoided when a floor on which the lithography apparatus stands moves.SOLUTION: There is disclosed a lithography apparatus 202 which comprises: a first component 204; a second component 206; a coupling device 222 configured to couple the first component 204 and the second component 206 to one another; a capture device 230 for capturing a movement Z of a floor 200 on which the lithography apparatus 202 stands; and a control device 232 configured to actuate the coupling device 222 depending on the captured movement Z of the floor 200 in order to restrict a movement of the second component 206 relative to the first component 204.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种光刻设备，其中当光刻设备所处的地面移动时，避免对光刻设备的部件造成损坏。解决方案：公开了一种光刻设备202，其包括：第一部件204; 第二部件206; 被配置为将第一组件204和第二组件206彼此耦合的耦合设备222; 用于捕获光刻设备202所在的地面200的移动Z的捕获装置230; 以及控制装置232，其被配置为根据所捕获的地板200的移动Z致动联接装置222，以便限制第二部件206相对于第一部件204的移动。

9. 发明专利

JP2014006553A Imaging optical system 审中-公开
标题翻译：成像光学系统
公开(公告)号：JP2014006553A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：JP2013202509
申请日：2013-09-27
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： MANN HANS-JUERGEN
IPC分类号： G02B17/00 , G02B13/18 , G02B17/06 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/702 , G02B17/06 , G02B17/0647 , G02B17/0663 , G03F7/70191 , G03F7/70233
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a projection exposure device for a micro lithography with a plurality of mirrors (M1 to M6) and an imaging optical system, and thereby image an object field in an object plane (4) on an image field in an image plane (8).SOLUTION: One (M6) of these mirrors is configured to include a through-hole (23) through which imaging light (3) passes. A reflection surface of at least one mirror (M1 to M6) has a form of a free-curved surface unable to be described by a rotationally symmetrical function. The projection exposure device comprises: a light source for illumination light and the imaging light (3); and a lens system for projecting the illumination light (3) onto the object field of the imaging optical system (6). By providing a reticle and a wafer, and by projecting a structure on the reticle onto a photosensitive layer of the wafer or by forming a fine structure on the wafer, a fine structure composition element is formed by the projection exposure device. A corresponding imaging optical system in which the object plane and the image plane are turned over can be used as a microscope lens.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于具有多个反射镜（M1至M6）和成像光学系统的微光刻的投影曝光装置，从而在物体平面（4）中对物体平面（4）中的物体场进行成像图像平面（8）。解决方案：这些反射镜中的一个（M6）被配置为包括成像光（3）通过的通孔（23）。至少一个反射镜（M1至M6）的反射表面具有不能由旋转对称功能描述的自由曲面的形式。投影曝光装置包括：用于照明光的光源和成像光（3）; 以及用于将照明光（3）投影到成像光学系统（6）的物场上的透镜系统。通过提供掩模版和晶片，并且通过将掩模版上的结构投影到晶片的感光层上或通过在晶片上形成精细结构，由投影曝光装置形成精细的结构组成元件。对象平面和图像平面翻转的对应的成像光学系统可以用作显微镜。

10. 发明专利

JP2013239709A Optical assembly for euv lithography 有权
标题翻译：光电组件
公开(公告)号：JP2013239709A
公开(公告)日：2013-11-28
申请号：JP2013100482
申请日：2013-05-10
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： RALF SCHARNWEBER
IPC分类号： H01L21/027 , G02B5/08 , G02B17/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G02B19/0023 , G02B19/0095 , G02B26/0816 , G03F7/70091 , G03F7/70133 , G03F7/7085
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical assembly capable of performing a measuring process for measuring illumination parameters or image formation parameters of EUV projection exposure equipment.SOLUTION: An optical assembly includes: an output coupling mirror emitting and coupling EUV light 3 from an illumination beam path; a diffusing mirror 23 provided in a beam path of a diffusing assembly 21 in a downstream of the output coupling mirror; and an input coupling mirror provided in a beam path of the diffusing assembly 21 in a downstream of the diffusing mirror 23 for coupling the EUV light diffused and reflected on to the illumination beam path. Accordingly, the optical assembly can be used for illuminating an object in an illumination angle distribution varying according to a diffusion function of the diffusing mirror.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够执行用于测量EUV投影曝光设备的照明参数或图像形成参数的测量过程的光学组件。解决方案：光学组件包括：输出耦合镜，其发射并耦合来自照明的EUV光3 光束路径设置在输出耦合镜的下游的扩散组件21的光束路径中的漫射镜23; 以及设置在漫射镜23的下游的扩散组件21的光束路径中的输入耦合镜，用于耦合扩散并反射到照明光束路径上的EUV光。因此，光学组件可以用于根据漫射镜的漫射功能而变化的照明角度分布中的物体照明。

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