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1. 发明专利

JP2011053687A Reflective optical element for use in euv system 有权
标题翻译：在EUV系统中使用的反射光学元件
公开(公告)号：JP2011053687A
公开(公告)日：2011-03-17
申请号：JP2010192235
申请日：2010-08-30
申请人： Carl Zeiss Laser Optics Gmbh , カールツァイスレーザーオプティクスゲーエムベーハー
发明人： KIEREY HOLGER , MAIRE MICHEL LE , ANDERL WILLI , HOLDERER HUBERT , LENGEL ANTON
IPC分类号： G02B5/08 , H01L21/027
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B7/181 , G02B7/1815
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflective optical element suitable for use in an EUV wavelength region in a high heat load state. SOLUTION: A reflective optical element (10) for use in an EUV system includes a base body (1) which is produced at least partly from a substrate material, and at least one cooling channel (6) disposed in the base body (1), through which a cooling medium (7) flows. A material having a thermal conductivity of 50 W/mK or greater is provided as the substrate material. The reflective optical element also includes a polishing layer which is applied to the substrate material and includes an amorphous material which can be processed via polishing. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供适用于高热负荷状态的EUV波长区域的反射型光学元件。解决方案：用于EUV系统的反射光学元件（10）包括至少部分地由基底材料制成的基体（1）和设置在基体中的至少一个冷却通道（6）（1），冷却介质（7）通过其流动。提供具有50W / mK以上的导热率的材料作为基板材料。反射光学元件还包括施加到基板材料上的抛光层，并且包括可通过抛光加工的非晶材料。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP2015029092A ＥＵＶ波長帯斜入射用反射光学素子有权
标题翻译：反射光学元件在EUV波长范围内的雷击发生
公开(公告)号：JP2015029092A
公开(公告)日：2015-02-12
申请号：JP2014140047
申请日：2014-07-07
申请人：カールツァイスレーザーオプティクスゲーエムベーハー , Carl Zeiss Laser Optics Gmbh , カールツァイスレーザーオプティクスゲーエムベーハー
发明人： VITALIY SHKLOVER
IPC分类号： H01L21/027 , G02B5/08 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70316 , G02B5/0808 , G02B5/0891 , G03F7/70958
摘要：【課題】可能な限り高い反射率を有する極端紫外波長斜入射用反射光学素子を提供する。【解決手段】EUVリソグラフィー用光学システムのコレクタミラーに使用される反射光学素子において、反射光学素子100の基板110上に、ホウ素を含有し、厚さ50nm以上である反射コーティング120を備える。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于在极紫外波长下进行掠射入射的反射光学元件，其具有尽可能高的反射率。解决方案：用于EUV光刻的光学系统中的聚光镜的反射光学元件100 在反射型光学元件100的基板110上包括含有硼且厚度为50nm以上的反射涂层120。

3. 发明专利

JP2011034965A Optical arrangement in optical system, especially provided in lighting system 有权
标题翻译：光学系统中的光学装置，特别在照明系统中提供
公开(公告)号：JP2011034965A
公开(公告)日：2011-02-17
申请号：JP2010162053
申请日：2010-07-16
申请人： Carl Zeiss Laser Optics Gmbh , カールツァイスレーザーオプティクスゲーエムベーハー
发明人： HOLDERER HUBERT , LIPPERT JOHANNES , SCHOEPPACH ARMIN
IPC分类号： F21V29/00 , F21V17/00 , F21Y101/02 , G02B7/00 , G02B27/09
CPC分类号： G02B7/008 , G02B7/028 , G02B27/0927 , G03F7/70825 , G03F7/70891
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical arrangement provided in an optical system, especially in a lighting system, and to efficiently disperse heat present in the optical system even at a high light emission power density. SOLUTION: The optical arrangement in the optical system, especially in the lighting system, includes at least one optical element (101, 201, 352, 370), and at least one heat dissipation element (120, 130, 220, 220', 351, 360, 380) at least partially dissipating thermal energy generated in the optical element (101, 201, 352, 370) to an external environment of the optical system, wherein the heat dissipation element (120, 130, 220, 220', 351, 360, 380) is arranged out of direct contact with the optical element (101, 201, 352, 370). COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种光学装置，特别是在照明系统中设置的光学装置，并且即使在高发光功率密度下也能有效地分散存在于光学系统中的热量。光学系统中的光学装置，特别是照明系统中的光学装置包括至少一个光学元件（101,201,352,370）和至少一个散热元件（120,130,220,220），所述散热元件（120,130,220,220）至少部分地将所述光学元件（101,201,352,370）中产生的热能消散到所述光学系统的外部环境， '，351,360,380）被布置成与光学元件（101,201,352,370）直接接触。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2011170354A Optical device 审中-公开
标题翻译：光学装置
公开(公告)号：JP2011170354A
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：JP2011031016
申请日：2011-02-16
申请人： Carl Zeiss Laser Optics Gmbh , カールツァイスレーザーオプティクスゲーエムベーハー
发明人： HOLDERER HUBERT , ABELE KLAUS
IPC分类号： G02B7/02
CPC分类号： G02B7/00 , G02B27/0025
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To fix an optical element to a mount with maximum stability and also in a minimum-stressed state. SOLUTION: The optical element 12 is fixed to the mount 16 through compliant support parts 22a, 22b and 22c. Each of the support parts 22a, 22b and 22c has a spring strut arrangement 24 which has a first spring strut 26, a second spring strut 28 and a contact area 30 in which the optical element 12 is fixed at a contact point 32. The first and second spring struts 26 and 28 are respectively connected to: the contact area 30 through first ends 34 and 36; and the outer edge part 42 of the mount through the second ends 38 and 40 located away from the contact area 30. The first and second spring struts 26 and 28 are separated from each other on the same side from the contact area 30 in a compliance direction, extend from the contact area 30, and are parallel to each other substantially. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：将光学元件固定到具有最大稳定性并且处于最小应力状态的安装座上。解决方案：光学元件12通过柔性支撑部分22a，22b和22c固定到安装件16上。每个支撑部分22a，22b和22c具有弹簧支柱装置24，其具有第一弹簧支柱26，第二弹簧支柱28和接触区域30，光学元件12固定在接触点32上。第一并且第二弹簧支柱26和28分别通过第一端34和36连接到接触区域30; 以及安装件的外边缘部分42通过位于远离接触区域30的第二端38和40的位置。第一和第二弹簧支柱26和28在与接触区域30相同的一侧彼此分离，方向，从接触区域30延伸，并且基本上彼此平行。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2003347625A Optical imaging system 有权
标题翻译：光学成像系统
公开(公告)号：JP2003347625A
公开(公告)日：2003-12-05
申请号：JP2003146803
申请日：2003-05-23
申请人： Carl Zeiss Laser Optics Gmbh , カールツァイスレーザーオプティクスゲーエムベーハー
发明人： HERKOMMER ALOIS
IPC分类号： H01S3/00 , G01J1/42
CPC分类号： G01J1/4257
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To form an image of at least two planes of a light beam (12) spaced apart in the beam direction of the light beam (12), especially a laser light beam onto a common target (16), e.g. a detector. SOLUTION: This system has at least one optically imaging element (18) arranged in a beam path of the light beam (12). The at least one element (18) is a light-collecting primary mirror (M 1 ), at least two secondary mirrors (S 1 -S 4 ) which can be alternately introduced into the means path are arranged on the downstream of the mirror (M 1 ) side, and the mirrors (S 1 -S 4 ) are so designed that one secondary mirror (S 1 -S 4 ) enables formation of an image of one plane, and the other secondary mirror (S 1 -S 4 ) enables formation of an image of the other plane of the beam (12) onto the target (16), respectively. COPYRIGHT: (C)2004,JPO
摘要翻译：要解决的问题：为了形成在光束（12）的光束方向上间隔开的光束（12）的至少两个平面的图像，特别是在公共目标（16）上的激光束，，例如检测器解决方案：该系统具有布置在光束（12）的光束路径中的至少一个光学成像元件（18）。至少一个元件（18）是聚光主镜（M SB 1），至少两个次镜（S S 4 < 可以交替地引入装置路径中的反射镜（SBB）布置在反射镜（M 1 ）侧的下游，并且反射镜（S 1 -S 4 ）被设计成使得一个次级反射镜（S S 4 ）能够形成一个平面的图像，并且另一个次级反射镜能够将光束（12）的另一个平面的图像分别形成到目标（16）上。版权所有（C）2004，JPO

6. 发明专利

JP2010085408A Method of measuring spectrum of narrow band light source and spectrometer arrangement 有权
标题翻译：测量窄带光源和光谱仪布置的方法
公开(公告)号：JP2010085408A
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：JP2009224922
申请日：2009-09-29
申请人： Carl Zeiss Laser Optics Gmbh , カールツァイスレーザーオプティクスゲーエムベーハー
发明人： CLAUS JOHANNES , HERKOMMER ALOIS , WEIGL BERNHARD , MAIRE MICHEL LE , MUENZ HOLGER
IPC分类号： G01J3/26
CPC分类号： G01J3/26 , G01J3/36
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To measure a spectrum of a narrowband light source, particularly a narrow bandwidth laser device in a high resolution. SOLUTION: This spectrometer arrangement (10) for measuring a spectrum of a light beam (64) emitted from a narrow bandwidth laser device includes: a single etalon (16); a beam splitter (18) for splitting the light beam (64) into a first partial beam (66) and a second partial beam (68); and an optical directing element (20) for directing the first partial beam (66) n times and the second partial beam (68) (n+k) times through the etalon (16), wherein n and k are integers of one or more. This spectrometer arrangement (10) further includes: a light sensitive detector (22); and a spectrum evaluation device (28) that evaluates the spectra, recorded by the detector (22), of the first partial beam that has passed through the etalon (16) n times and of the second partial beam that has passed through the etalon (16) (n+k) times so as to determine the light spectrum corrected with respect to a device function of the etalon (16). COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：以高分辨率测量窄带光源，特别是窄带宽激光器件的光谱。解决方案：用于测量从窄带激光器件发射的光束（64）的光谱的该光谱仪装置（10）包括：单个标准具（16）; 用于将光束（64）分裂成第一部分光束（66）和第二部分光束（68）的分束器（18）; 以及用于将所述第一部分光束（66）n次和所述第二部分光束（68）（n + k）引导通过所述标准具（16）的光导向元件（20），其中n和k是一个或多个。该光谱仪装置（10）还包括：光敏检测器（22）; 以及光谱评估装置（28），其评估由检测器（22）记录的已经通过标准具（16）的第一部分光束的光谱和经过标准具的第二部分光束的光谱（28） 16）（n + k）倍，以便确定相对于标准具（16）的器件功能校正的光谱。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

7. 发明专利

TWI465775B 照明系統有权
简体标题：照明系统
公开(公告)号：TWI465775B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW097117481
申请日：2008-05-12
申请人：卡爾塞斯雷射光學有限公司 , CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH
发明人：拉斐爾埃格爾 , RAFAEL EGGER
IPC分类号： G02B27/48
CPC分类号： B23K26/0738 , G02B13/08 , G02B27/0966

8. 发明专利

TW200745607A 用於產生經成形為線形光束之雷射光的系統及方法 SYSTEMS AND METHODS FOR GENERATING LASER LIGHT SHAPED AS A LINE BEAM 审中-公开
简体标题：用于产生经成形为线形光束之激光光的系统及方法 SYSTEMS AND METHODS FOR GENERATING LASER LIGHT SHAPED AS A LINE BEAM
公开(公告)号：TW200745607A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW095138973
申请日：2006-10-23
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC. , 卡爾蔡司雷射光學股份有限公司 CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH
发明人：達斯帕拉斯P DAS, PALASH P. , 斯法洛亞伯特 CEFALO, ALBERT P. , 諾利斯大衛S KNOWLES, DAVID S. , 希可羅弗維達利 SHKLOVER, VITALIY , 瑪恩茲哈爾傑 MUENZ, HOLGER
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B19/0009 , G02B7/004 , G02B19/0028 , G02B19/0052 , G02B27/095 , G02B27/0977 , G02B27/0988
摘要：本發明係揭露將一雷射光束成形用以與一薄膜交互作用之系統及方法,其中雷射光束沿著一光束路徑移行且界定一短軸線及一長軸線。一態樣中,該系統可包括一第一短軸線元件,其具有一定位為沿著光束路徑相距薄膜呈一距離d1之邊緣,及一第二短軸線元件,其具有一定位為沿著光束路徑相距薄膜呈一距離d2之邊緣,其中d2
简体摘要：本发明系揭露将一激光光束成形用以与一薄膜交互作用之系统及方法,其中激光光束沿着一光束路径移行且界定一短轴线及一长轴线。一态样中,该系统可包括一第一短轴线组件,其具有一定位为沿着光束路径相距薄膜呈一距离d1之边缘,及一第二短轴线组件,其具有一定位为沿着光束路径相距薄膜呈一距离d2之边缘,其中d2

9. 发明专利

TW200641394A 用以產生線焦點之光學系統,用以產生掃瞄光束焦點之掃瞄系統,及用於基底之雷射處理的方法 OPTICAL SYSTEM FOR CREATING A LINE FOCUS, A SCANNING SYSTEM FOR PRODUCING A SCANNING BEAM FOCUS AND A METHOD FOR LASER PROCESSING OF A SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：用以产生线焦点之光学系统,用以产生扫瞄光束焦点之扫瞄系统,及用于基底之激光处理的方法 OPTICAL SYSTEM FOR CREATING A LINE FOCUS, A SCANNING SYSTEM FOR PRODUCING A SCANNING BEAM FOCUS AND A METHOD FOR LASER PROCESSING OF A SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200641394A
公开(公告)日：2006-12-01
申请号：TW094142813
申请日：2005-12-05
申请人：卡爾蔡司雷射光學有限公司 CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH
发明人：亞洛斯賀柯莫 HERKOMMER, ALOIS , 賀格穆茲 MUENZ, HOLGER
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B27/0983 , B23K26/0738 , B23K26/082 , G02B19/0028 , G02B19/0047 , G02B26/105
摘要：一種用以自輸入光束產生線焦點之光學系統包含一光源，其發射於傳導方向中傳導之該輸入光束，該輸入光束具有於與該傳導方向橫向之第一維中之延伸以及於與該第一維和與該傳導方向橫向之第二維中的延伸，以及於該第二維中彎曲之至少一第一鏡子，使該輸入光束於該第二維中聚焦至該線焦點。
简体摘要：一种用以自输入光束产生线焦点之光学系统包含一光源，其发射于传导方向中传导之该输入光束，该输入光束具有于与该传导方向横向之第一维中之延伸以及于与该第一维和与该传导方向横向之第二维中的延伸，以及于该第二维中弯曲之至少一第一镜子，使该输入光束于该第二维中聚焦至该线焦点。

10. 发明专利

TWI431321B 形塑雷射光束的輪廓的光學系統及方法失效
简体标题：形塑激光光束的轮廓的光学系统及方法
公开(公告)号：TWI431321B
公开(公告)日：2014-03-21
申请号：TW095148563
申请日：2006-12-22
申请人：卡爾塞斯雷射光學有限公司 , CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH
发明人：維塔利許克洛維 , SHKLOVER, VITALIY , 賀格穆茲 , MUENZ, HOLGER , 麥克勒梅瑞 , LE MAIRE, MICHEL , 克里斯汀荷斯 , HOESS, CHRISTIAN
IPC分类号： G02B27/09 , H01S3/16
CPC分类号： G02B27/0927 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0652 , G02B27/0972 , G02B27/0977

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