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    • 6. 发明专利
    • 製造對二甲苯的方法 PROCESS FOR PRODUCING PARA-XYLENE
    • 制造对二甲苯的方法 PROCESS FOR PRODUCING PARA-XYLENE
    • TW200806619A
    • 2008-02-01
    • TW096112716
    • 2007-04-11
    • 艾克頌美孚化學專利股份有限公司 EXXONMOBIL CHEMICAL PATENTS INC.
    • 約翰 歐 OU, JOHN DI-YI哈洛德 小赫門克 HELMKE, JR., HAROLD W.約翰 波特 PORTER, JOHN R.
    • C07C
    • C07C5/2729C07C5/2732C07C7/13C07C15/08
    • 一種製造富含PX之產物的方法,其包含(a)分離含有C8烴之進料,以製造富含C8烴之流份;(b)分離至少第一部分富含C8烴之流份,以製造第一個富含PX之流份及第一個耗乏PX之流份;(c)異構化至少一部分第一個耗乏PX之流份,以製造具有比第一個耗乏PX之流份更高的PX濃度的第一個異構化流份;(d)分離第二部分富含C8烴之流份及/或至少一部分第一個異構化流份,以製造第二個富含PX之流份及第二個耗乏PX之流份;(e)異構化至少一部分第二個耗乏PX之流份,以製造具有比第二個耗乏PX之流份更高的PX濃度的第二個異構化流份;(f)回收第一個及第二個富含PX之流份中之至少一者的至少一部分成為富含PX之產物;及(g)供給第一個異構化流份、第二個異構化流份、第一個富含PX之流份及第二個富含PX之流份中之至少一者的至少一部分至(a)之分離。
    • 一种制造富含PX之产物的方法,其包含(a)分离含有C8烃之进料,以制造富含C8烃之流份;(b)分离至少第一部分富含C8烃之流份,以制造第一个富含PX之流份及第一个耗乏PX之流份;(c)异构化至少一部分第一个耗乏PX之流份,以制造具有比第一个耗乏PX之流份更高的PX浓度的第一个异构化流份;(d)分离第二部分富含C8烃之流份及/或至少一部分第一个异构化流份,以制造第二个富含PX之流份及第二个耗乏PX之流份;(e)异构化至少一部分第二个耗乏PX之流份,以制造具有比第二个耗乏PX之流份更高的PX浓度的第二个异构化流份;(f)回收第一个及第二个富含PX之流份中之至少一者的至少一部分成为富含PX之产物;及(g)供给第一个异构化流份、第二个异构化流份、第一个富含PX之流份及第二个富含PX之流份中之至少一者的至少一部分至(a)之分离。
    • 8. 发明专利
    • 在連續淤漿環管反應器中製造聚合物之方法 PROCESS FOR PRODUCING POLYMER IN A CONTINUOUS SLURRY LOOP REACTOR
    • 在连续淤浆环管反应器中制造聚合物之方法 PROCESS FOR PRODUCING POLYMER IN A CONTINUOUS SLURRY LOOP REACTOR
    • TWI288757B
    • 2007-10-21
    • TW090127779
    • 2001-11-08
    • 艾克頌美孚化學專利股份有限公司 EXXONMOBIL CHEMICAL PATENTS INC.
    • 詹姆士 凱崔克 KENDRICK, JAMES A.湯瑪士 陶爾斯 TOWLES, THOMAS W.史考特 羅吉 ROGER, SCOTT T.
    • C08FB01JB01D
    • 一種方法/設備經揭示用於從包括稀釋劑,未反應單體和聚合物固體的聚合流出物中連續分離出包括稀釋劑和未反應單體的液體介質,該方法包括將聚合流出物從淤漿反應器中經由排料閥和傳送導管進入第一中等壓力的閃蒸罐和出口密封室的連續排料,其中由平直側面所限定的該第一閃蒸罐的圓錐狀底部傾斜到使之與水平面的夾角等於或大於淤漿/聚合物固體的滑動角度。出口密封室的直徑(d)和長度(l)剛好能在出口密封室內維持合適的濃縮聚合物固體/淤漿體積以形成壓力密封,同時將第一閃蒸罐的濃縮聚合物固體/淤漿底部產物活塞流從出口密封室經由一出口密封室減壓器連續排放到低壓環境下的第二閃蒸罐,其中該出口密封室減壓器的傾斜底面係由平直側面所限定,其與水平面的夾角等於或大於移走50-100%惰性稀釋劑後的聚合物固體的的滑動角度。
    • 一种方法/设备经揭示用于从包括稀释剂,未反应单体和聚合物固体的聚合流出物中连续分离出包括稀释剂和未反应单体的液体介质,该方法包括将聚合流出物从淤浆反应器中经由排料阀和发送导管进入第一中等压力的闪蒸罐和出口密封室的连续排料,其中由平直侧面所限定的该第一闪蒸罐的圆锥状底部倾斜到使之与水平面的夹角等于或大于淤浆/聚合物固体的滑动角度。出口密封室的直径(d)和长度(l)刚好能在出口密封室内维持合适的浓缩聚合物固体/淤浆体积以形成压力密封,同时将第一闪蒸罐的浓缩聚合物固体/淤浆底部产物活塞流从出口密封室经由一出口密封室减压器连续排放到低压环境下的第二闪蒸罐,其中该出口密封室减压器的倾斜底面系由平直侧面所限定,其与水平面的夹角等于或大于移走50-100%惰性稀释剂后的聚合物固体的的滑动角度。
    • 9. 发明专利
    • 烷基苯類之選擇性氧化作用 SELECTIVE OXIDATION OF ALKYLBENZENES
    • 烷基苯类之选择性氧化作用 SELECTIVE OXIDATION OF ALKYLBENZENES
    • TW200736206A
    • 2007-10-01
    • TW095146692
    • 2006-12-13
    • 艾克頌美孚化學專利股份有限公司 EXXONMOBIL CHEMICAL PATENTS INC.
    • 杜倫 拉分 LEVIN, DORON吉哈德 達卡 DAKKA, JIHAD瓊恩 史丹特 STANAT, JON E.
    • C07C
    • C07C409/08C07C37/08C07C45/53C07C407/00C07C409/10C07C49/08C07C49/10C07C39/04
    • 一種製造苯酚與具有通式R^1COCH2R^2(I)的酮之方法,其中R^1和R^2各自獨立地表具有從1至4個碳原子的烷基,該方法包括:(a)提供烷基苯原料,其包含:(i)通式(II)烷基苯
      095146692-p01.bmp
      其中R^1和R^2具有與式(I)中相同的意義;和(ii)至少一種該式(II)烷基苯的結構異構物,其含量為該式(II)烷基苯重量的至少0.7%,(b)對該烷基苯原料在氧和(b1)式(III)環狀醯亞胺的存在中
      095146692-p02.bmp
      其中X表羰基(CO)或磺醯基(SO2),n為0、1、2、3或4,R^3為一或數個選自下列之原子或基:氫原子、鹵素原子、烷基、烷氧基、和胺基;且R^4為氫原子、鹼金屬陽離子或鹼土金屬陽離子;或在(b2)N,N',N"-三羥基異氰酸(THICA)的存在中,施以氧化條件,而製成包含通式(IV)氫過氧化物之產物
      095146692-p03.bmp
      其中R@
      sP!1和R^2具有與式(I)中相同的意義;及(c)將該式(IV)氫過氧化物轉化成為苯酚與式(I)酮。
    • 一种制造苯酚与具有通式R^1COCH2R^2(I)的酮之方法,其中R^1和R^2各自独立地表具有从1至4个碳原子的烷基,该方法包括:(a)提供烷基苯原料,其包含:(i)通式(II)烷基苯 095146692-p01.bmp 其中R^1和R^2具有与式(I)中相同的意义;和(ii)至少一种该式(II)烷基苯的结构异构物,其含量为该式(II)烷基苯重量的至少0.7%,(b)对该烷基苯原料在氧和(b1)式(III)环状酰亚胺的存在中 095146692-p02.bmp 其中X表羰基(CO)或磺酰基(SO2),n为0、1、2、3或4,R^3为一或数个选自下列之原子或基:氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、和胺基;且R^4为氢原子、碱金属阳离子或碱土金属阳离子;或在(b2)N,N',N"-三羟基异氰酸(THICA)的存在中,施以氧化条件,而制成包含通式(IV)氢过氧化物之产物 095146692-p03.bmp 其中R@ sP!1和R^2具有与式(I)中相同的意义;及(c)将该式(IV)氢过氧化物转化成为苯酚与式(I)酮。