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    • 1. 发明专利
    • 主軸裝置
    • 主轴设备
    • TW200916239A
    • 2009-04-16
    • TW097107221
    • 2008-02-29
    • 日本精工股份有限公司 NSK LTD.
    • 岩崎修 IWASAKI, OSAMU稻垣好史 INAGAKI, YOSHIFUMI
    • B23BB23Q
    • B23Q1/0027B23Q1/70B23Q11/1015
    • 相對於殼體11可相對旋轉地配置之旋轉軸12係包括將流體供給至其一端之迴轉接頭21。迴轉接頭21係具有分別與設於旋轉軸12之複數個流體供給路30d、30e連通之複數個流體供給孔45、46、47,並具有與旋轉軸12連結之旋轉連結部44。旋轉連結部44係藉由螺栓37而緊固於迴轉接頭21之旋轉基部29,且可從旋轉基部29在軸方向分離。藉此而提供一種具備有可將切削液或壓縮空氣等之複數種流體供給至設於旋轉軸12之複數個流體供給路30d、30e、維修性佳且可容易組裝之迴轉接頭21之主軸裝置10。
    • 相对于壳体11可相对旋转地配置之旋转轴12系包括将流体供给至其一端之掉头接头21。掉头接头21系具有分别与设于旋转轴12之复数个流体供给路30d、30e连通之复数个流体供给孔45、46、47,并具有与旋转轴12链接之旋转链接部44。旋转链接部44系借由螺栓37而紧固于掉头接头21之旋转基部29,且可从旋转基部29在轴方向分离。借此而提供一种具备有可将切削液或压缩空气等之复数种流体供给至设于旋转轴12之复数个流体供给路30d、30e、维修性佳且可容易组装之掉头接头21之主轴设备10。
    • 4. 发明专利
    • 曝光裝置及曝光方法
    • 曝光设备及曝光方法
    • TW200815935A
    • 2008-04-01
    • TW096118779
    • 2007-05-25
    • 日本精工股份有限公司 NSK LTD.
    • 前田武文 MAEDA, TAKEFUMI
    • G03FH01L
    • 本發明提供一種曝光裝置及曝光方法,其可同時進行基板之曝光轉印及基板對於基板平台之搬入與搬出,謀求製作時間(take time)之縮短,同時可排除基板之搬出入時所產生之振動給曝光精確度帶來之影響,而以高精確度進行曝光轉印。曝光裝置PE包含:光罩平台10,其係用以保持光罩M;主基座 19,其位於光罩平台10之下方;第 1 副基座 15 及第 2 副基座16,其配置於主基座19之側方;第1及第2基板平台11、12,其可在主基座19與第1及第2副基座15、16間移動;照射裝置13,其經由光罩M將圖案曝光用之光照射至保持於位於主基座19上之第1及第2基板平台11、12之基板W;及防振機構,其係用以防止在第1副基座21與第2副基座22所產生之振動傳達至主基座19。
    • 本发明提供一种曝光设备及曝光方法,其可同时进行基板之曝光转印及基板对于基板平台之搬入与搬出,谋求制作时间(take time)之缩短,同时可排除基板之搬出入时所产生之振动给曝光精确度带来之影响,而以高精确度进行曝光转印。曝光设备PE包含:光罩平台10,其系用以保持光罩M;主基座 19,其位于光罩平台10之下方;第 1 副基座 15 及第 2 副基座16,其配置于主基座19之侧方;第1及第2基板平台11、12,其可在主基座19与第1及第2副基座15、16间移动;照射设备13,其经由光罩M将图案曝光用之光照射至保持于位于主基座19上之第1及第2基板平台11、12之基板W;及防振机构,其系用以防止在第1副基座21与第2副基座22所产生之振动传达至主基座19。
    • 6. 发明专利
    • 曝光裝置及曝光方法
    • 曝光设备及曝光方法
    • TW200745790A
    • 2007-12-16
    • TW096111046
    • 2007-03-29
    • 日本精工股份有限公司 NSK LTD.
    • 宮下正弘 MIYASHITA, MASAHIRO富堅工 TOGASHI, TAKUMI
    • G03FH01L
    • 本發明提供一種曝光裝置及曝光方法,其可有效率地進行供給基板至2個基板平台,而縮短已曝光轉印之基板製造之間歇時間。曝光裝置PE包含光罩平台10、可對光罩平台10相對移動之2個基板平台11、12、預對準單元14及對於預對準單元14對向配置之2個基板裝載機15、16。在使一方之基板平台11從待機位置WP1移動至曝光位置EP,以將光罩圖案P曝光轉印於基板W之間,使另一方之基板平台12從曝光位置EP移動至待機位置WP2之後,將已曝光轉印之基板W排出,將已預對準之基板W藉由基板裝載機16搬運至另一方之基板平台12,且藉由基板裝載機15將基板W搬運至預對準單元14。
    • 本发明提供一种曝光设备及曝光方法,其可有效率地进行供给基板至2个基板平台,而缩短已曝光转印之基板制造之间歇时间。曝光设备PE包含光罩平台10、可对光罩平台10相对移动之2个基板平台11、12、预对准单元14及对于预对准单元14对向配置之2个基板装载机15、16。在使一方之基板平台11从待机位置WP1移动至曝光位置EP,以将光罩图案P曝光转印于基板W之间,使另一方之基板平台12从曝光位置EP移动至待机位置WP2之后,将已曝光转印之基板W排出,将已预对准之基板W借由基板装载机16搬运至另一方之基板平台12,且借由基板装载机15将基板W搬运至预对准单元14。
    • 10. 发明专利
    • 線性導引裝置及滾動元件收容帶 LINEAR GUIDE APPARATUS AND ROLLING ELEMENTS ACCOMMODATION BELT
    • 线性导引设备及滚动组件收容带 LINEAR GUIDE APPARATUS AND ROLLING ELEMENTS ACCOMMODATION BELT
    • TW200916668A
    • 2009-04-16
    • TW097105488
    • 2008-02-15
    • 日本精工股份有限公司 NSK LTD.
    • 水村美典 MIZUMURA, YOSHINORI除煒 XU, WEI
    • F16C
    • F16C29/0647F16C33/3825
    • 本發明係關於一種線性導引裝置,其包括:複數個滾動元件,該等滾動元件以預定間隔在一滾動元件循環路徑內循環;複數個間隔件,其設置於滾動元件各自之間;及一滾動元件收容帶,其收容滾動元件、連接該等間隔件之每一者且具有其端部。至少一滾動元件設置於該滾動元件收容帶之該等端部之間,一懸臂狀彈性可變形伸出部分提供於該間隔件位於滾動元件收容帶之端部處之一端面上,該伸出部分自該滾動元件循環路徑之內圓周側朝向外圓周側伸出,且該伸出部分相對於該間隔件在該滾動元件收容帶之端部處之一外部端面而傾斜。
    • 本发明系关于一种线性导引设备,其包括:复数个滚动组件,该等滚动组件以预定间隔在一滚动组件循环路径内循环;复数个间隔件,其设置于滚动组件各自之间;及一滚动组件收容带,其收容滚动组件、连接该等间隔件之每一者且具有其端部。至少一滚动组件设置于该滚动组件收容带之该等端部之间,一悬臂状弹性可变形伸出部分提供于该间隔件位于滚动组件收容带之端部处之一端面上,该伸出部分自该滚动组件循环路径之内圆周侧朝向外圆周侧伸出,且该伸出部分相对于该间隔件在该滚动组件收容带之端部处之一外部端面而倾斜。