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1. 发明专利

JP2016516290A 基板を自然に酸化する方法およびシステム有权
标题翻译：的方法和系统自然氧化衬底
公开(公告)号：JP2016516290A
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：JP2015559464
申请日：2014-02-18
申请人：ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag , ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人：ベルトルト・オッカー , ヴォルフラム・マース
IPC分类号： H01L21/316 , C23C14/14 , C23C14/56 , C23C14/58 , H01L21/31 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67376 , C23C16/46 , C23C16/52 , H01L21/0223 , H01L21/02233 , H01L21/02238 , H01L21/67201 , H01L21/67389 , H01L31/18 , H01L31/1868 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要：本発明は、反応チャンバ内で基板を処理するシステムおよび方法に関する。搬送チャンバを、第1のロックと第2のロックとの間に配置し、第2のロックを、搬送チャンバと反応チャンバとの間に備える。本方法を行う際、基板を、第1のロック(12)を通過させて、搬送チャンバ内に搬送し、第1のロックを閉じる。次のステップにおいて、搬送チャンバを、反応チャンバ内と同じ気体で満たし(または、溢れさせ、flooded)、搬送チャンバ内の気体雰囲気の圧力および温度を、反応チャンバ内と同じであるように制御する。次いで、第2のロックを開き、基板を処理するために、基板を、搬送チャンバから、反応チャンバ内に搬送する。本発明はまた、本発明の方法を行うためのコンピュータプログラム製品に関する。
摘要翻译：本发明涉及一种用于处理在反应室中的衬底的系统和方法。传送腔室被布置在第一锁定和第二锁之间，所述第二锁定装置包括输送腔室和反应室之间。执行该方法时，基板通过第一锁（12）被输送到传送室通过，关闭第一锁。在接下来的步骤中，传送腔室，填充有相同的气体作为反应室（或，淹，淹），压力和在传送室中的气体气氛的温度被控制为相同的反应室中。然后，打开第二锁，以便处理所述衬底，所述衬底，所述传送腔室被输送到反应室中。本发明还涉及一种计算机程序产品，用于执行本发明的方法。

4. 发明专利

JP2006088327A Device to hold and transport workpiece having plat face 审中-公开
标题翻译：设备保持和运输具有平面的工作
公开(公告)号：JP2006088327A
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：JP2005276009
申请日：2005-09-22
申请人： Singulus Technologies Ag , ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人： KEMPF STEFAN , ROHRMANN REINER
IPC分类号： B25J15/06
CPC分类号： H01L21/6838 , B65G47/911 , G11B23/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To supply a device for holding a workpiece by utilizing the venturi effect and transporting the workpiece in a holding force direction and/or a direction perpendicular to the holding force direction, and a method for using the same.
SOLUTION: In order to achieve the above purpose, there is provided with a retention plug engaged with an opening on the surface of the workpiece, a retention face that faces the plane on the retention side of the above workpiece, is a plane parallel to the surface, and surrounds the above retention plug and a gas supply means for injecting a gas or a gas mixture into a space to generate a gas flow via a gap arranged in the above retention plug and formed between the above workpiece surface and the flat and parallel area. This invention can lift, hold, and transport the workpiece having the opening by utilizing the venturi effect of the gas flow between the device and the workpiece.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：通过利用文丘里效应并沿与保持力方向垂直的保持力方向和/或方向输送工件来提供用于保持工件的装置及其使用方法。解决方案：为了实现上述目的，提供了一种与工件表面上的开口接合的保持插头，与上述工件的保持侧上的平面相对的保持面是平面平行于表面并且围绕上述保持塞和气体供应装置，用于将气体或气体混合物喷射到空间中，以通过布置在上述保持塞中的间隙产生气流，并形成在上述工件表面和平坦和平行的区域。本发明可利用装置和工件之间的气流的文丘里效应提升，保持和运送具有开口的工件。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

5. 发明专利

JP2013511619A Apparatus and method for coating a substrate 有权
公开(公告)号：JP2013511619A
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：JP2012539335
申请日：2010-11-19
申请人：フラウンホッファー−ゲゼルシャフトツァフェルダールングデァアンゲヴァンテンフォアシュンクエー.ファオ , ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人：シェープカウルリヒ , エシュナーリヒャルト , プフェファーマルクス , マースヴォルフラム , ランガーユルゲン , オッカーベルトルト
IPC分类号： C23C14/34 , G01B11/00
CPC分类号： C23C14/52 , C23C14/34
摘要：本発明は，基板をコーティングする装置に関し，真空チャンバーと，内部がコートされる基板を受ける様に設計された真空チャンバーと，粒子の衝撃により装置の動作の間に除去されるように意図された少なくとも一つのスパッタリングターゲットを有し，少なくとも一つの窓が，前記真空チャンバーの壁に配置され，そして，前記スパッタリングターゲットの摩滅を判定する装置を有し，前記真空チャンバーの外側の少なくとも一つの予め規定されたポイントと，前記スパッタリングターゲットの表面の少なくとも一つの予め規定されたポイントとの間の距離を光学的に測定する側的装置を有し，前記測定装置が，更に視差オフセット及び/又は幾何学的歪みを修正できる評価装置を有する。さらに，本発明は，対応する方法に関する。
【選択図】図１

7. 发明专利

JP2009521066A A method of forming a highly uniform space layer between the two disks 审中-公开
公开(公告)号：JP2009521066A
公开(公告)日：2009-05-28
申请号：JP2008546070
申请日：2006-12-21
申请人：ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人：チェム・ヤファザー , トーマス・プファフ , ベルント・ハインツ
IPC分类号： G11B7/26 , G11B7/24
CPC分类号： B29C65/521 , B29C65/14 , B29C65/1406 , B29C65/1487 , B29C65/4845 , B29C65/76 , B29C66/001 , B29C66/1122 , B29C66/452 , B29C66/72321 , B29C66/73161 , B29C66/82661 , B29C2035/0827 , B29K2105/243 , B29L2017/005 , B32B37/025 , B32B37/12 , B32B2038/0076 , B32B2309/68 , B32B2310/0831 , B32B2429/02 , C09J5/02 , C09J2400/228 , G11B7/24018 , G11B7/26
摘要：本発明に係る方法は、複数のディスク状基板を接合する方法に関し、第１および第２の基板を提供するステップと；第１および第２の接合表面上に液体接着剤を塗布するステップと；ラッカの粘性を増大させるために、第１および第２の基板の少なくとも一方の接着ラッカが塗布された表面に紫外線光を照射するステップと；真空下で基板を接合して接合層を形成するステップと、接合ディスク間にあるラッカの粘性を増大させるために、接合ディスクに紫外線光を照射するステップと；接合基板を回転可能チャック上に配置するステップと；５００ｒｐｍより大きい回転速度で接合基板を回転させるステップと；２つの基板の一方に接合層全体を残した状態で基板を分離するステップとを有する。

8. 发明专利

JP2009514671A A method and apparatus for controlling the film thickness by spin coating 审中-公开
公开(公告)号：JP2009514671A
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：JP2008539391
申请日：2006-10-27
申请人：ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人：ツェム・ヤヴァサー , トーマス・プファフ , ベルント・ハインツ , ヨゼフ・シュタインケラー
IPC分类号： B05D1/40 , B05C9/14 , B05C11/08 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/168 , B05D1/005 , B05D3/067 , G03F7/162 , G11B7/266
摘要：第１工程で基板上の液体を熱的に調整し、例えば半導体ウエハやデータ記憶メディアの上で、粘性のある液体を基板の表面上に所定の領域で均一になるように拡げ、更なる２つの工程で、スピンコートプロセス中またはプロセス前にＵＶ照射を行うための方法および装置が示されている。

9. 发明专利

JP2005200214A Substrate support body adapter system 审中-公开
标题翻译：基板支撑体适配器系统
公开(公告)号：JP2005200214A
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：JP2004344301
申请日：2004-11-29
申请人： Singulus Technologies Ag , ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人： KEMPF STEFAN , MERZ THOMAS , RUNKEL STEFFEN
IPC分类号： B65G49/07 , C23C14/50 , C23C14/56 , C23C16/458 , H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/68728 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/68707
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate support body adapter system holding substrates with different shapes and sizes in a system, carrying them through the system, and used for various purposes. SOLUTION: This ring-shaped substrate support body comprises an internal space for receiving the substrates, a vertical annular wall part limiting the internal space, a projected projecting part present on the outer surface of the annular wall part, and two recessed groove parts engaged with a holding means. Also a device for operating the substrate support body holding and/or capable of holding the substrate support body is provided. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在系统中保持具有不同形状和尺寸的基板的基板支撑体适配器系统，将其运载通过系统，并用于各种目的。解决方案：该环形基板支撑体包括用于接收基板的内部空间，限制内部空间的垂直环形壁部分，存在于环形壁部分的外表面上的突出突出部分和两个凹槽与保持装置接合的零件。还提供了一种用于操作保持和/或能够保持基板支撑体的基板支撑体的装置。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

10. 发明专利

JP2014521296A Method for operating a number of loads in an alternating current network using the phase cutting of the rising edge or falling edge 审中-公开
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP2014521296A
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：JP2014519558
申请日：2012-07-12
申请人：ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人：ヴォルフガング・ベッカー , エドガー・リュート , ベネディクト・クライン
IPC分类号： H02M1/08
CPC分类号： H02J3/00 , H02M1/12 , H02M5/2573 , Y10T307/25
摘要：本発明は、交流ネットワークにおいて第１の及び第２の電気的な負荷もしくは消費装置を動作させるための方法に関する。当該方法は、各負荷に対する正の半波部及び負の半波部が第１の立ち上がりエッジの位相角を用いて制御される選択的な第１の動作モードで動作される。また、第１の負荷に対して正の半波部及び負の半波部の第１の部分が、並びに第２の負荷に対して正の半波部及び負の半波部の第２の部分がそれぞれの第２の立ち上がりエッジの位相角を用いて制御される。本発明はさらに、第１の負荷及び第２の負荷に対する第１の及び第２の立ち上がりエッジの位相角制御手段を有し、当該方法を実行するためのデバイスに関する。
摘要翻译：一种用于在交流网络中操作第一和第二电负载或消耗器的方法。该方法可以在可选的第一操作模式下操作，其中每个负载的正和负半波被以第一前沿相位角控制。此外，提供第二操作模式，其中用于第一负载的正和负半波的第一部分和用于第二负载的正和负半波的第二部分用相应的第二前缘相位角。此外，一种用于执行该方法的装置，具有用于第一和第二负载的第一和第二前缘相位角控制。

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