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81. 发明授权

CN106662155B 旋转机构及具有该旋转机构的薄膜厚度监控器有权
公开(公告)号：CN106662155B
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201580019561.9
申请日：2015-05-15
申请人：株式会社爱发科
发明人：小高学 , 古濑晴邦 , 前田章弘
IPC分类号： F16C35/067 , F16C19/06
CPC分类号： F16C19/06 , F16C35/067
摘要：本发明涉及一种旋转机构，包括：电机(2)；接收来自电机(2)的动力并旋转驱动被旋转体(7)的输出轴(3)；以及由外部插入输出轴(3)并支撑该输出轴(3)的滚动轴承(6)，输出轴(3)的前端部设置有旋转体(4)，旋转体(4)通过旋转力传递装置(5)与被旋转体(7)连接的同时，滚动轴承的外圈(61)嵌合在设置于旋转力传递装置(8)中的槽部(51a、51b)内。由此，本发明具有滚动轴承抗疲劳的结构，可以延长使用寿命。

82. 发明公开

CN110073484A 升降销及真空处理装置有权
公开(公告)号：CN110073484A
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201880004839.9
申请日：2018-08-06
申请人：株式会社爱发科
发明人：山本良明 , 神保洋介 , 宮谷武尚 , 江藤谦次 , 阿部洋一
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/3065 , H01L21/31
摘要：本发明的升降销为与具有处理面及非处理面的基板接触的升降销，具备：中央部件，具备具有第一表面粗糙度及电绝缘部的第一面和作为导电性部件的主体，所述中央部件与所述基板的所述非处理面相对；和周围部件，具备具有小于所述第一表面粗糙度的第二表面粗糙度及电绝缘部的第二面，所述周围部件包围所述中央部件的周围且与所述基板的所述非处理面相对。

83. 发明公开

CN110023529A 树脂膜的形成方法及树脂膜的成膜装置有权
公开(公告)号：CN110023529A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201880004427.5
申请日：2018-02-20
申请人：株式会社爱发科
发明人：青代信 , 清健介 , 高桥明久
IPC分类号： C23C14/04 , B05B7/16 , B05C9/12 , B05C11/10 , C23C14/12 , H01L51/50 , H05B33/04 , H05B33/10
摘要：本发明的树脂膜的形成方法使用掩模主体由金属材料构成且具备规定的开口部的掩模，在减压气氛下在基板上形成树脂膜，所述树脂膜的形成方法依次具备：第一工序，在减压气氛下，以与载置在经冷却的支撑台上的所述基板相接的方式设置所述掩模，并且经由该掩模供给经气化的树脂材料并在该基板上冷凝，从而在该基板上形成液态的树脂材料膜；第二工序，从所述基板剥离所述掩模；第三工序，对所述掩模上的树脂材料膜进行热处理，从而使该树脂材料膜蒸发；及第四工序，对残留在所述基板上的树脂材料膜照射UV光，使该树脂材料膜硬化而形成树脂膜。

84. 发明公开

CN109952388A 气化器及元件结构体的制造装置审中-实审
公开(公告)号：CN109952388A
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201880004362.4
申请日：2018-02-20
申请人：株式会社爱发科
发明人：青代信 , 清健介 , 高桥明久 , 矢岛贵浩 , 加藤裕子
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/04 , H05B33/10
摘要：本发明的气化器用于对元件结构体的制造装置供给经气化的树脂材料，具备：气化槽，具备用于对液状树脂材料进行气化的内部空间；吐出部，用于在所述内部空间中喷雾出所述液状树脂材料；加热部，在所述内部空间中与所述吐出部相对配置，并且用于对喷雾出的所述液状树脂材料进行加热使之气化；和储存部，在所述内部空间中配设在所述加热部的下方，并且未由该加热部气化的所述液状树脂材料滴落而保管到所述储存部。

85. 发明公开

CN109844168A 溅射装置用阴极单元有权
公开(公告)号：CN109844168A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201880003956.3
申请日：2018-03-06
申请人：株式会社爱发科
发明人：中村真也 , 田代征仁
IPC分类号： C23C14/34
摘要：提供一种具有不使真空室对大气开放而可进行靶交换的构造的溅射装置用阴极单元。具有靶(Tg1，Tg2)并装设在真空室(Vc)内的本发明的溅射装置用阴极单元(CU)，其特征在于，包括：支撑框体(1)，其装设在真空室的外壁上；环形的可动座(2)，其受支撑框体支撑并可相对于真空室接近远离地进退；旋转轴体(3)，其受该可动座枢转支撑以便使可动座的内部空间(23)与靶的溅射面平行地延伸；至少一个靶支架(51，52)，以旋转轴体的轴线方向为X轴方向，以与X轴方向正交的可动座的进退方向为Z轴方向，所述靶支架朝旋转轴体的径向突出地设置在旋转轴体上，靶装卸自如地安装在所述靶支架的前端面上；准备室(Rc)，其设置在支撑框体的从Z轴方向上距离真空室的外壁面规定间隔的部分上，具有开关门(Rd)，且所述准备室独立于真空室并真空排气自如，并设置有使真空气氛的准备室回到大气压的排气阀Vv；以及一对真空波纹管(71，72)，其设置在可动座和准备室之间以及可动座和真空室之间并围绕靶支架；在靶支架上设置隔绝部(51a，51b)，在靶支架位于Z轴上且以靶朝向真空室侧的姿态使可动座在Z轴方向上相对于真空室进行接近移动到成膜位置上，隔绝部与形成在真空室上的第一开口(Vc1)的周边部紧密贴合，隔绝靶所在的真空室内部，并且以靶朝向准备室侧的姿态使可动座在Z轴方向上相对于真空室进行远离移动到更换位置上，隔绝部与形成在准备室上的第二开口(Rc2)的周边部紧密贴合，隔绝靶所在的准备室内部，隔绝部在远离第一开口和第二开口的可动座的中立位置上还具有使旋转轴体绕X轴旋转的旋转机构。

86. 发明公开

CN109844165A 树脂膜形成方法以及掩膜有权
公开(公告)号：CN109844165A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201880003976.0
申请日：2018-02-20
申请人：株式会社爱发科
发明人：青代信 , 清健介 , 高桥明久
IPC分类号： C23C14/12 , B05D1/32 , C23C14/04 , C23C14/58 , H01L51/50 , H05B33/04
摘要：本发明的树脂膜形成方法为在基板上形成图案化的树脂膜的方法，至少按顺序具备：第一工序，使用掩膜主体具有可挠性支撑部与粘结部重叠的结构的掩膜，以使所述粘结部相对于所述基板相接的方式来设置所述掩膜；第二工序，通过设置在所述掩膜主体的开口部，将汽化的树脂材料供给到所述基板并使其在该基板上凝缩，当在该基板上形成液状的树脂材料膜之后，对该树脂材料膜和所述掩膜照射UV光；以及第三工序，将所述掩膜从所述基板剥离。

87. 发明公开

CN109563616A 成膜装置有权
公开(公告)号：CN109563616A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201880002935.X
申请日：2018-06-28
申请人：株式会社爱发科
发明人：金子俊则 , 大野哲宏
IPC分类号： C23C14/50 , H01L21/363 , H01L21/683
摘要：本发明的成膜装置为对被处理基板进行成膜的成膜装置，包括：供给装置，配置在能够真空排气的腔室内且用于供给成膜材料；和保持装置，用于在成膜时保持所述被处理基板。所述保持装置具有：防着板，用于覆盖所述保持装置中所述成膜材料所附着的区域；保持部，用于保持所述被处理基板；和位置设定部，在由所述防着板和所述保持部夹持并保持所述被处理基板时设定所述被处理基板的位置。所述位置设定部具有与所述被处理基板的周边端面部抵接的辊。

88. 发明公开

CN109496350A 基板导向件及载体有权
公开(公告)号：CN109496350A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201880002934.5
申请日：2018-06-07
申请人：株式会社爱发科
发明人：金子俊则 , 大野哲宏
IPC分类号： H01L21/673 , B65G49/06 , C23C14/50 , C23C16/458 , H01L21/683
摘要：本发明的基板导向件以基板的面沿大致铅直方向的方式设置于大致垂直保持所述基板的载体的载体框架上，并且与所述基板的至少周边端面部相接而支撑所述基板。基板导向件包括：安装在所述载体上的基座；基板支撑部，与保持在所述载体上的所述基板的所述周边端面部接触，并且以能够在沿所述基板的所述面的方向上沿所述周边端面部的法线方向移动的方式安装在所述基座上；和相对于所述基座朝向所述基板对所述基板支撑部施力的施力部件。

89. 发明公开

CN109415800A 真空蒸镀装置有权
公开(公告)号：CN109415800A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780039108.3
申请日：2017-07-19
申请人：株式会社爱发科
发明人：北泽僚也 , 中村寿充 , 朝比奈伸一 , 斋藤一也
IPC分类号： C23C14/24
摘要：本发明提供一种可尽量减少粒子的影响的所谓向下沉积方式的真空蒸镀装置。其具有配置在真空室(1)内的蒸镀源(3)，蒸镀源具有容置蒸镀物质(Vm)的容置箱(31)和加热蒸镀物质使其升华或气化的加热装置(33)；容置箱中设置有升华或气化了的蒸镀物质的喷出部(32)，喷出部相对于真空室内的被成膜物(S)位于垂直方向上方，喷出部具有相对于垂直方向斜向下的喷出口(32b)，从该喷出口向被成膜物喷出蒸镀物质，容置箱偏移设置在远离被成膜物的端部的位置上。

90. 发明授权

CN106715749B 溅射装置有权
公开(公告)号：CN106715749B
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201580047418.0
申请日：2015-07-15
申请人：株式会社爱发科
发明人：山本弘辉 , 难波隆宏 , 神井正敦 , 小梁慎二 , 近藤智保 , 森本直树
IPC分类号： C23C14/34 , H01L43/12
摘要：本发明提供一种能够以良好的薄膜厚度分布均匀性形成结晶性进一步提高的绝缘材料膜的溅射装置。本发明的溅射装置(SM)具有在设置了绝缘材料靶(4)的真空室(1)内保持待处理基板(W)与该绝缘材料靶相对的台架(2)，设置有旋转驱动台架的驱动装置(3)，向绝缘材料靶施加高频电力的溅射电源(E1)，以及向真空室内导入稀有气体的气体导入装置(13，14)，在该溅射装置(SM)中，基板与绝缘材料靶的溅射面之间的间隔(d3)设置在40mm～150mm的范围内。

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