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    • 81. 发明专利
    • 電漿處理裝置
    • 等离子处理设备
    • TW200644047A
    • 2006-12-16
    • TW095106127
    • 2006-02-23
    • 三菱重工業股份有限公司 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
    • 松田龍一 MATSUDA, RYUICHI井上雅彥 INOUE, MASAHIKO
    • H01LH01J
    • H01L22/20H01J37/32009H01J37/32568H01J37/32935
    • 本發明之電漿處理裝置被指示基板1之尺寸時,讀出根據高密度電漿區域的直徑尺寸Dp與高密度電漿區域之中心與電漿擴散區域下部之間的高度H之關係之可均勻濺擊蝕刻範圍之圖;根據內壓以及來自天線116之電磁波頻率,求出高密度電漿區域之中心與真空反應室111內部上面之間的高度Hp以及上述Dp之值;根據內壓以及基板1之自給偏壓電位大小,求出電漿擴散區域之下部與支撐台113上面之間的高度Hs:根據上述Dp、上述Hp、上述Hs之值,從上述圖中求出可成為均勻濺擊蝕刻範圍的前述H值之後,控制昇降裝置121,以便達到上述H值。
    • 本发明之等离子处理设备被指示基板1之尺寸时,读出根据高密度等离子区域的直径尺寸Dp与高密度等离子区域之中心与等离子扩散区域下部之间的高度H之关系之可均匀溅击蚀刻范围之图;根据内压以及来自天线116之电磁波频率,求出高密度等离子区域之中心与真空反应室111内部上面之间的高度Hp以及上述Dp之值;根据内压以及基板1之自给偏压电位大小,求出等离子扩散区域之下部与支撑台113上面之间的高度Hs:根据上述Dp、上述Hp、上述Hs之值,从上述图中求出可成为均匀溅击蚀刻范围的前述H值之后,控制升降设备121,以便达到上述H值。
    • 86. 发明专利
    • 壓縮機之控制裝置
    • 压缩机之控制设备
    • TWI249002B
    • 2006-02-11
    • TW093125860
    • 2004-08-27
    • 三菱重工業股份有限公司 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
    • 竹下和子 TAKESHITA, KAZUKO武多一浩 TAKEDA, KAZUHIRO河野進 KOUNO, SUSUMU中村淳 NAKAMURA, JUN中村謙一郎 NAKAMURA, KENICHIRO
    • F02C
    • F02C7/236F02C9/38F04D27/0207F04D27/0246
    • 本發明具備有:對壓縮機1調整氣體燃料流入量的流入量調整手段5;可使壓縮機1所吐出的氣體燃料返回壓縮機1入口側的再循環閥7;及對著使壓縮機1以指定運轉點來運轉的控制操作值進行設定,根據該控制操作值對流入量調整手段5及再循環閥7進行控制的控制手段。控制手段,具有:在控制操作值為指定值以上時,是將隨著其操作值的增大而增加的訊號視為流入量調整手段5的控制訊號來產生的第1控制訊號產生手段27;及在控制操作值未滿指定值時,是將隨著其操作值的增大而減少的訊號視為再循環閥7的控制訊號來產生的第2控制訊號產生手段29。
      根據本發明時,於包括有負荷遮斷等全部的運轉狀態中能有良好的控制性。
    • 本发明具备有:对压缩机1调整气体燃料流入量的流入量调整手段5;可使压缩机1所吐出的气体燃料返回压缩机1入口侧的再循环阀7;及对着使压缩机1以指定运转点来运转的控制操作值进行设置,根据该控制操作值对流入量调整手段5及再循环阀7进行控制的控制手段。控制手段,具有:在控制操作值为指定值以上时,是将随着其操作值的增大而增加的信号视为流入量调整手段5的控制信号来产生的第1控制信号产生手段27;及在控制操作值未满指定值时,是将随着其操作值的增大而减少的信号视为再循环阀7的控制信号来产生的第2控制信号产生手段29。 根据本发明时,于包括有负荷遮断等全部的运转状态中能有良好的控制性。