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热词
    • 83. 发明公开
    • 나노임프린트 방식을 이용한 3차원 구조체의 제조방법
    • 使用纳米压印法制造三维结构的方法
    • KR1020170119022A
    • 2017-10-26
    • KR1020160046280
    • 2016-04-15
    • 한국기계연구원
    • 정준호전소희최준혁최대근이지혜정주연이응숙
    • G03F7/00G03F7/20G03F9/00
    • G03F7/00G03F7/20G03F9/00G03F7/0002G03F7/0037G03F7/70G03F9/7042
    • 본발명은나노임프린트방식으로수 나노미터내지수십나노미터크기로패터닝된기능층을다수적층시킴으로써, 고강도이고, 초경량이며, 고기능성인 3차원구조체를쉽고용이하게형성할수 있는나노임프린트방식을이용한 3차원구조체의제조방법에관한것이다. 이를위해나노임프린트방식을이용한 3차원구조체의제조방법은요철부가가공된스탬프를준비하는스탬프준비단계와, 요철부를포함한스탬프에이형층을형성하는이형층형성단계와, 이형층형성단계를거친요철부에기능층을형성하기위해하나이상의재료를수십나노미터내지수백나노미터의크기로형성하는재료형성단계와, 기판상에요철부에형성된재료를적층하는재료적층단계및 재료에압력, 열과압력, 빛과압력중 어느하나를가하여재료를하단의재료에접합시키는기능층고정단계를포함하고, 상술한단계를순차적으로반복실시하여내부에다수의기공이형성되는 3차원구조체를제조할수 있다.
    • 通过本发明的一些使用纳米压印法层压用的银纳米压印法图案化,几纳米到几十在尺寸,强度高,重量轻纳米的功能层,和所述三维结构,其能够容易地且容易地形成一个高性能的成人的三维结构 及其制造方法。 使用纳米压印方法来完成这一任务的三维结构的制造方法进行盖章准备阶段,释放层形成工序中,形成含有凹凸的部分的印模eyihyeong层的剥离层形成工序制备冲压凹凸部加工的凹凸 为了形成层叠形成于一种或多种材料数十个方纳米的凸部材料形成工序的材料在材料中,热和压力,光功能层材料层叠工序,和在基板至几百尺寸纳米,并且所述压力 并且它可通过上升到所述三维结构,其包括所述材料结合到底的材料中,通过重复序列中的压力的​​一个步骤的上述实施方式在其中形成的多个孔中的一个功能层设置步骤来制备。
    • 86. 发明公开
    • 심리스 롤마스터 제작방법
    • 无缝滚筒主机的制作方法
    • KR1020150014755A
    • 2015-02-09
    • KR1020130090395
    • 2013-07-30
    • 한국기계연구원
    • 이응숙최준혁이지혜정주연정준호
    • C23C2/00C23C2/02C23C2/26
    • 본발명은심리스롤마스터제작방법에관한것이며, 본발명의심리스롤마스터제작방법은, 롤형태의기판외주면에박막층을형성하는박막층형성단계와, 박막층의자기조립(self assembly)을유도하는자기조립유도단계와, 박막층을현상하여제1패턴을형성하는제1패턴형성단계를포함하고, 박막층형성단계는, 박막층의소재가되는코팅액이수용된코팅액수용조에기판을담근상태에서기판을회전시키며, 박막층의두께가조절되도록기판을제1 속도범위에서회전시키는제1 두께조절단계를구비하는제1처리단계와, 기판을코팅액수용조로부터이탈시킨상태에서기판을회전시키며, 제1 두께조절단계에서조절된박막층의두께가재조절되도록기판을제2 속도범위에서회전시키는제2 두께조절단계를구비하는제2처리단계를포함하며, 제2 속도범위에서의기판의회전속도는제1 속도범위에서의기판의회전속도보다크며, 코팅액은, 은나노입자현탁액(suspensions) 또는은 이온용액(solution)으로이루어진다.
    • 本发明涉及一种无缝辊母机的制造方法。 本发明的无缝辊轧机的制造方法包括:在辊状基板的外周面上沉积薄膜的沉积步骤; 诱导薄膜自组装的自组装感应步骤; 以及通过显影薄膜层来形成第一图案的第一图案形成步骤。 因此,根据本发明,提供了一种通过使用自组装感应能够容易地制造无缝辊母版的无缝辊母版的制造方法。
    • 89. 发明公开
    • 나노임프린트를 이용한 고결정성 나노구조 제조방법 및 이를 이용한 트랜지스터의 제조방법 및 센서의 제조방법
    • 使用纳米印刷和晶体管制造高结晶纳米结构的方法,使用其进行纳米工艺的传感器
    • KR1020140115070A
    • 2014-09-30
    • KR1020130029674
    • 2013-03-20
    • 한국기계연구원
    • 정유진이지혜정준호최대근최준혁정주연이응숙
    • H01L29/786H01L21/336
    • H01L29/0665H01L29/04H01L29/78696
    • Provided are a method for fabricating a high crystalline nanostructure using nanoimprint lithography and a transistor and a sensor using the nanostructure fabricated thereby. The method for fabricating a high crystalline nanostructure using nanoimprint lithography comprises a preparation step of preparing a substrate; a thin film formation step of forming a thin film on the substrate; an imprinting step of forming a nanostructure by imprinting a patterned stamp on the thin film; a residues removal step of removing residues remaining on the nanostructure to improve growth of crystals in the nanostructure; and a growth step of growing the nanostructure from which the residues have been removed through a hydrothermal process. According to the present invention, since the nanostructure is grown in a non-vacuum low-temperature state, the costs can be saved. Also, the growth of the crystals in the nanostructure can be improved by removing the residues in the nanostructure.
    • 提供了使用纳米压印光刻制造高结晶纳米结构的方法,以及使用由其制造的纳米结构的晶体管和传感器。 使用纳米压印光刻制造高结晶纳米结构的方法包括制备基底的制备步骤; 在所述基板上形成薄膜的薄膜形成步骤; 通过在薄膜上压印图案化的印模来形成纳米结构的压印步骤; 去除残留在纳米结构上的残留物以改善纳米结构晶体生长的残余物去除步骤; 以及生长步骤,其中通过水热法除去残余物的纳米结构。 根据本发明,由于纳米结构在非真空低温状态下生长,因此可以节省成本。 此外,通过去除纳米结构中的残余物,可以改善纳米结构中晶体的生长。