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81. 发明授权

KR101082515B1 포토레지스트 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 박리방법 有权
标题翻译：用于光电子的剥离器组合物和剥离光刻胶的方法
公开(公告)号：KR101082515B1
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：KR1020090028471
申请日：2009-04-02
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 박민춘 , 민성준 , 김경준 , 한희 , 권혁준
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , G03F7/426
摘要： 본발명은포토레지스트용스트리퍼조성물에관한것이다. 보다구체적으로, 본발명은포토레지스트박리능력이우수하여비교적소량으로도많은양의포토레지스트를박리할수 있고, 고온공정조건에도적용가능하며, 조성물내 다른성분들과반응하지않고, 불필요한부산물을발생시키지않는포토레지스트스트리퍼조성물및 이를이용한포토레지스트박리방법에관한것이다.

82. 发明公开

KR1020100090628A 절연된 도전성 패턴의 제조 방법 无效
标题翻译：绝缘导电图案的制备方法
公开(公告)号：KR1020100090628A
公开(公告)日：2010-08-16
申请号：KR1020090127756
申请日：2009-12-21
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 황지영 , 민성준 , 황인석 , 이동욱 , 전상기
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/28
CPC分类号： H05K1/0296 , C23F1/02 , G03F7/40 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , H01L31/022425 , H05K3/0079 , H05K3/061 , H05K3/10 , H05K2203/0108 , H05K2203/0143 , H05K2203/0537 , H05K2203/0571 , H05K2203/1105 , H05K2203/1184 , Y02E10/50 , Y10T29/49155 , Y10T29/49156 , G03F7/0035
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing an insulated conductive pattern is provided to reduce manufacturing processes by forming the conductive pattern without a separate photo-resist material and a delamination solution. CONSTITUTION: A conductive film is formed on a substrate. An insulating pattern is formed on the conductive film. The conductive film is etched using the insulating pattern as a mask in order to form a conductive pattern. Undercut is formed on the lower side of the frame of the insulating pattern. The insulating pattern is re-formed to cover the conductive pattern.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造绝缘导电图案的方法，以通过形成导电图案以减少制造工艺，而不需要单独的光致抗蚀剂材料和分层溶液。构成：在基板上形成导电膜。在导电膜上形成绝缘图案。使用绝缘图案作为掩模蚀刻导电膜，以形成导电图案。在绝缘图案的框架的下侧形成底切。重新形成绝缘图案以覆盖导电图案。

83. 发明公开

KR1020070114038A 포토레지스트용 스트리퍼 조성물 无效
标题翻译：剥离器组合物
公开(公告)号：KR1020070114038A
公开(公告)日：2007-11-29
申请号：KR1020070050852
申请日：2007-05-25
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 한희 , 박민춘 , 김경준 , 서성우 , 권혁준 , 안경호 , 최병규 , 민성준 , 황지영
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/306
CPC分类号： G03F7/425 , G03F7/422 , H01L21/0273 , H01L21/0274 , H01L21/30608 , H01L21/30617
摘要： A photoresist stripper composition, a method for stripping a photoresist containing aluminum copper or aluminum and copper on a substrate by using the composition, and a method for preparing a liquid crystal display device and a semiconductor device by using the stripping method are provided to improve the corrosion resistance to an under conductive metallic layer or insulating layer and to allow a photoresist to be removed clearly within a short time. A photoresist stripper composition comprises 1-95 wt% of a polar aprotic solvent. Preferably the polar aprotic solvent is N-methyl formamide, or a polar aprotic solvent mixture containing N-methyl formamide. Optionally the photoresist stripper composition comprises further at least one selected from 1-60 wt% of a water-soluble organic amine compound, 0.01-5 wt% of a corrosion inhibitor, and a water-soluble nonionic surfactant.
摘要翻译：提供光致抗蚀剂剥离剂组合物，通过使用该组合物在基材上剥离含有铝铜或铝和铜的光致抗蚀剂的方法，以及通过使用剥离法制备液晶显示装置和半导体装置的方法，对导电金属层或绝缘层具有耐腐蚀性，并允许在短时间内清除光致抗蚀剂。光致抗蚀剂剥离剂组合物包含1-95重量％的极性非质子溶剂。优选极性非质子溶剂是N-甲基甲酰胺，或含有N-甲基甲酰胺的极性非质子溶剂混合物。任选地，光致抗蚀剂剥离剂组合物还包含选自1-60重量％的水溶性有机胺化合物，0.01-5重量％的腐蚀抑制剂和水溶性非离子表面活性剂中的至少一种。

84. 发明授权

KR102162502B1 액정 배향제용 중합체, 이를 포함하는 액정 배향제, 그리고 이를 이용한 액정배향막 및 액정표시소자 有权
公开(公告)号：KR102162502B1
公开(公告)日：2020-10-06
申请号：KR1020170150898
申请日：2017-11-13
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 권순호 , 조정호 , 민성준 , 이상미 , 구기철 , 윤준영 , 윤형석 , 임윤빈 , 김성구
IPC分类号： C09K19/56 , G02F1/1337 , C08G73/10

85. 发明授权

KR102161675B1 액정 배향제용 중합체, 이를 포함하는 액정 배향제, 그리고 이를 이용한 액정배향막 및 액정표시소자 有权
公开(公告)号：KR102161675B1
公开(公告)日：2020-10-05
申请号：KR1020170150899
申请日：2017-11-13
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 권순호 , 구기철 , 조정호 , 민성준 , 이상미 , 윤준영 , 윤형석 , 임윤빈
IPC分类号： C09K19/56 , G02F1/1337 , C08G73/10

86. 发明授权

KR102129572B1 액정 배향제 조성물, 이를 이용한 액정 배향막의 제조 방법, 및 이를 이용한 액정 배향막 有权
公开(公告)号：KR102129572B1
公开(公告)日：2020-07-02
申请号：KR1020160167036
申请日：2016-12-08
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 박항아 , 조정호 , 한희 , 민성준 , 이상미 , 권순호 , 윤준영 , 윤형석
IPC分类号： C09K19/56 , C08G73/10 , C08L79/08 , C08L77/06 , C08K5/1515 , G02F1/1337

87. 发明授权

KR102118377B1 액정 소자 有权
公开(公告)号：KR102118377B1
公开(公告)日：2020-06-03
申请号：KR1020160001431
申请日：2016-01-06
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김진홍 , 유정선 , 오동현 , 민성준 , 김정운 , 임은정
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/1334 , G02F1/137 , G02F1/1337

88. 发明授权

KR102065718B1 액정 배향막 및 이를 이용한 액정표시소자 有权
公开(公告)号：KR102065718B1
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：KR1020180113253
申请日：2018-09-20
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 윤형석 , 민성준 , 윤준영 , 조정호
IPC分类号： G02F1/1337 , C08G73/10

89. 发明授权

KR101973192B1 액정 배향제 조성물, 이를 이용한 액정 배향막의 제조 방법, 및 이를 이용한 액정 배향막 有权
公开(公告)号：KR101973192B1
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：KR1020170082776
申请日：2017-06-29
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 조정호 , 한희 , 민성준 , 박항아 , 이상미 , 권순호 , 윤준영 , 윤형석 , 김성구
IPC分类号： C09K19/56 , C08L79/08 , C08G59/50 , C08K5/3435 , C08L63/00 , G02F1/1337

90. 发明授权

KR101959488B1 광학 소자의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101959488B1
公开(公告)日：2019-03-18
申请号：KR1020150126802
申请日：2015-09-08
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 유정선 , 민성준 , 오동현 , 김진홍 , 김정운 , 임은정
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/1339 , G02F1/1333

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