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    • 85. 发明专利
    • Herstellungsverfahren einer Halbleitersolarzelle
    • DE102010016122A1
    • 2011-09-29
    • DE102010016122
    • 2010-03-24
    • CELLS SE Q
    • ENGELHART PETERSEGUIN ROBERTERDMANN MATTHIAS
    • H01L31/18
    • Die Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren einer Halbleitersolarzelle (1), umfassend die folgenden Verfahrensschritte: Bereitstellen eines Halbleitersubstrats (2) der Halbleitersolarzelle (1); Erzeugen einer Passivierungsdoppelschicht (3, 4) auf einer Oberfläche (22) des Hableitersubstrats (2), indem eine erste Dielektrikschicht (3) aus einem ersten Dielektrikmaterial auf die Oberfläche (22) des Hableitersubstrats (2) aufgebracht wird und auf die erste Dielektrikschicht (3) eine zweite Dielektrikschicht (4) aus einem vom ersten Dielektrikmaterial verschiedenen, zweiten Dielektrikmaterial aufgebracht wird; und einen weiteren Herstellungsschritt umfassend mindestens einen, zwei oder drei aus den folgenden Prozessschritten: ein Texturschritt; ein Diffusionsschritt; und ein Ätzschritt, wobei die Passivierungsdoppelschicht (3, 4) während des weiteren Herstellungsschrittes als Barriereschicht wirkt und das unmittelbar darunter liegende Halbleitersubstrat (2) schützt und wobei die Passivierungsdoppelschicht (3, 4) in der fertigen Halbleitersolarzelle (1) als Passivierungsschicht dient.
    • 90. 发明专利
    • Dünnschicht-Solarmodul mit verbesserter Zusammenschaltung von Solarzellen sowie Verfahren zu dessen Herstellung
    • DE102009027852A1
    • 2011-01-27
    • DE102009027852
    • 2009-07-20
    • CELLS SE Q
    • VERDUGO VICTOR
    • H01L31/05H01L31/0392H01L31/18
    • Die Erfindung betrifft ein Dünnschicht-Solarmodul 1, welches mehrere zusammengeschaltete Solarzellen 2 enthält, umfassend in der angegebenen Reihenfolge die Schichten (a) ein Substrat 3; (b) eine erste Elektrodenschicht 4; (c) eine Halbleiterschicht 5 und (d) eine zweite Elektrodenschicht 6; wobei in der ersten Elektrodenschicht 4 mindestens eine erste nichtlineare Ausnehmung 7 angeordnet ist und in der zweiten Elektrodenschicht 6 und in der Halbleiterschicht 5 eine zweite nichtlineare Ausnehmung 8 angeordnet ist, wobei sich eine erste Projektion 9 der ersten nichtlinearen Ausnehmung 7 auf das Substrat 3 und eine zweite Projektion 10 der zweiten nichtlinearen Ausnehmung 8 auf das Substrat 3 in mindestens zwei Projektionspunkten 14, 15 schneindestens einen inselförmigen Kontaktbereich 11 aufweist, der sich in einer zum Substrat 3 vertikalen Richtung über die Schichten (a) bis (d) 3, 4, 5, 6 erstreckt und in einer zum Substrat 3 parallelen Richtung durch die erste Projektion 9 und die zweite Projektion 10 begrenzt ist, und wobei sich in der Halbleiterschicht 5 innerhalb des inselförmigen Kontaktbereichs 11 eine dritte Ausnehmung 12 befindet, die mit einem elektrisch leitfähigen Material gefüllt ist, und sich eine vierte Ausnehmung 20 durch die erste Elektrodenschicht 4, die Halbleiterschicht 5 und die zweite Elektrodenschicht 6 zwischen mindestens zwei inselförmigen Kontaktbereichen 11 erstreckt. Die ...