专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

81. 发明专利

TW201402468A 含有金屬元素之四氧化三錳複合化粒子及其製造方法及使用此粒子之金屬取代鋰錳系複合氧化物之製造方法审中-公开
简体标题：含有金属元素之四氧化三锰复合化粒子及其制造方法及使用此粒子之金属取代锂锰系复合氧化物之制造方法
公开(公告)号：TW201402468A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102111349
申请日：2013-03-29
申请人：東楚股份有限公司 , TOSOH CORPORATION
发明人：岩田英一 , IWATA, EIICHI , 山下三貴 , YAMASHITA, MIKI , 藤井康浩 , FUJII, YASUHIRO
IPC分类号： C01G45/02 , H01M4/505
CPC分类号： H01M4/505 , C01G45/00 , C01G45/02 , C01G45/1214 , C01G45/1242 , C01G53/50 , C01P2002/32 , C01P2002/72 , C01P2002/76 , C01P2004/03 , C01P2004/45 , C01P2004/52 , C01P2004/53 , C01P2004/61 , C01P2006/11 , C01P2006/12 , C01P2006/40 , C25B1/21 , H01M4/525 , Y10T428/2982
摘要：本發明之目的在提供含有金屬元素之四氧化三錳複合化粒子及此粒子之製造方法，其係可得到作為鋰二次電池用正極材料之極優的金屬取代鋰錳系複合氧化物。該粒子為通式AxMn3-xO4(A為Mn以外之金屬元素，x＜1)所示，粒徑1μm以上之金屬取代四氧化三錳。且此類金屬取代四氧化三錳，可以由含錳離子及錳以外金屬離子之錳鹽水溶液不經由金屬取代錳氫氧化物晶析金屬取代四氧化三錳的晶析步驟之製造方法得到。
简体摘要：本发明之目的在提供含有金属元素之四氧化三锰复合化粒子及此粒子之制造方法，其系可得到作为锂二次电池用正极材料之极优的金属取代锂锰系复合氧化物。该粒子为通式AxMn3-xO4(A为Mn以外之金属元素，x＜1)所示，粒径1μm以上之金属取代四氧化三锰。且此类金属取代四氧化三锰，可以由含锰离子及锰以外金属离子之锰盐水溶液不经由金属取代锰氢氧化物晶析金属取代四氧化三锰的晶析步骤之制造方法得到。

82. 发明专利

TW201245494A 電解二氧化錳及其製造方法以及鋰錳系複合氧化物的製造方法审中-公开
简体标题：电解二氧化锰及其制造方法以及锂锰系复合氧化物的制造方法
公开(公告)号：TW201245494A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101105198
申请日：2012-02-17
申请人：東楚股份有限公司
发明人：末次和正 , 三浦比呂志
IPC分类号： C25B , C01G , H01M
CPC分类号： H01M4/50 , C01G45/02 , C01G45/1221 , C01P2002/72 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2006/11 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , C01P2006/16 , C01P2006/80 , C25B1/21 , H01M4/505 , H01M10/0525 , Y02E60/122 , Y02P70/54 , Y02T10/7011 , Y10T428/2982
摘要：本發明，係提供BET比表面積為20~60m 2 /g，細孔直徑為2~200nm之細孔的容積至少為0.023cm 3 /g之電解二氧化錳。又，提供在具有在硫酸-硫酸錳混合溶液中使錳氧化物懸浮之工程之電解二氧化錳之製造方法中，使錳氧化物粒子連續地混合於硫酸-硫酸錳混合溶液，使硫酸-硫酸錳混合溶液中的錳氧化物粒子之濃度為5~200mg/L之電解二氧化錳之製造方法。更且，提供具有將上述的電解二氧化錳與鋰化合物混合熱處理而得到鋰錳系複合氧化物之工程之鋰錳系複合氧化物之製造方法。
简体摘要：本发明，系提供BET比表面积为20~60m 2 /g，细孔直径为2~200nm之细孔的容积至少为0.023cm 3 /g之电解二氧化锰。又，提供在具有在硫酸-硫酸锰混合溶液中使锰氧化物悬浮之工程之电解二氧化锰之制造方法中，使锰氧化物粒子连续地混合于硫酸-硫酸锰混合溶液，使硫酸-硫酸锰混合溶液中的锰氧化物粒子之浓度为5~200mg/L之电解二氧化锰之制造方法。更且，提供具有将上述的电解二氧化锰与锂化合物混合热处理而得到锂锰系复合氧化物之工程之锂锰系复合氧化物之制造方法。

83. 发明专利

TW201204767A 含有典型金屬之聚矽氧烷組成物、其製造方法以及其用途审中-公开
简体标题：含有典型金属之聚硅氧烷组成物、其制造方法以及其用途
公开(公告)号：TW201204767A
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：TW100120661
申请日：2011-06-14
申请人：東楚股份有限公司
发明人：原大治 , 清水真鄉
IPC分类号： C08G , C08L , C09K , H01L
CPC分类号： C08G77/18 , C08G77/12 , C08G77/20 , C08L83/04 , C09D183/04 , H01L23/296 , H01L33/56 , H01L2924/0002 , H01L2924/12044 , C08L83/00 , H01L2924/00
摘要：本發明提供適於LED元件之密封或樹脂構件的氣體阻隔層的材料，並提供使用其之LED裝置、FPD裝置及半導體裝置等。係一種聚合物組成物之製造方法，其特徵在於：將成分(A)、成分(B)、成分(C)及成分(D)混合並使反應，成分(A)，為下列通式(1)之含不飽和基之矽氧烷化合物
(式中，R 1 表示氫原子或或碳數1~20的烴基。m表示3以上的整數，a表示0~10的整數。矽氧烷構造為鏈狀或環狀。)成分(B)，為下列通式(2)之具有氫直接鍵結於矽之構造的矽氧烷化合物
(式中，R 2 表示碳數1~20的烴基。n表示3以上的整數。矽氧烷構造為鏈狀或環狀。)成分(C)，係選自由周期表的第1族金屬、第2族金屬、第12族金屬、第13族金屬或第14族金屬之有機金屬化合物構成的群組當中至少1種，成分(D)，係周期表的第8族金屬、第9族金屬、或第10族金屬的金屬觸媒。
简体摘要：本发明提供适于LED组件之密封或树脂构件的气体阻隔层的材料，并提供使用其之LED设备、FPD设备及半导体设备等。系一种聚合物组成物之制造方法，其特征在于：将成分(A)、成分(B)、成分(C)及成分(D)混合并使反应，成分(A)，为下列通式(1)之含不饱和基之硅氧烷化合物 (式中，R 1 表示氢原子或或碳数1~20的烃基。m表示3以上的整数，a表示0~10的整数。硅氧烷构造为链状或环状。)成分(B)，为下列通式(2)之具有氢直接键结于硅之构造的硅氧烷化合物 (式中，R 2 表示碳数1~20的烃基。n表示3以上的整数。硅氧烷构造为链状或环状。)成分(C)，系选自由周期表的第1族金属、第2族金属、第12族金属、第13族金属或第14族金属之有机金属化合物构成的群组当中至少1种，成分(D)，系周期表的第8族金属、第9族金属、或第10族金属的金属触媒。

84. 发明专利

TW201137154A 釕複雜混合物、其製造方法、成膜用組成物、含釕膜以及其製造方法 RUTHENIUM COMPLEX MIXTURE, METHOD OF PRODUCING THE MIXTURE, COMPOSITION FOR FILM FORMATION, RUTHENIUM-CONTAINING FILM, AND METHOD OF PRODUCING THE FILM 审中-公开
简体标题：钌复杂混合物、其制造方法、成膜用组成物、含钌膜以及其制造方法 RUTHENIUM COMPLEX MIXTURE, METHOD OF PRODUCING THE MIXTURE, COMPOSITION FOR FILM FORMATION, RUTHENIUM-CONTAINING FILM, AND METHOD OF PRODUCING THE FILM
公开(公告)号：TW201137154A
公开(公告)日：2011-11-01
申请号：TW099144148
申请日：2010-12-16
申请人：東楚股份有限公司
发明人：摩庭篤 , 大島憲昭 , 河野和久 , 古川泰志 , 千葉洋一 , 山本俊樹
IPC分类号： C23C , C07F , H01L
CPC分类号： C07F17/02 , C23C16/18 , H01L21/28088 , H01L21/28556 , H01L21/31695 , H01L21/32051 , H01L29/4966
摘要：為使用CVD法來使良質之釕薄膜形成，須在低溫使薄膜形成，對於熱具有高反應性之釕化合物已被期待許久。本發明，係與使用(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基環戊二烯基)釕及對於(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基環戊二烯基)釕含有0.1~100重量%之雙(2,4-二甲基戊二烯基)釕之釕複雜混合物做為原料，藉由CVD法等之製造含釕膜的方法等有關。
简体摘要：为使用CVD法来使良质之钌薄膜形成，须在低温使薄膜形成，对于热具有高反应性之钌化合物已被期待许久。本发明，系与使用(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)钌及对于(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)钌含有0.1~100重量%之双(2,4-二甲基戊二烯基)钌之钌复杂混合物做为原料，借由CVD法等之制造含钌膜的方法等有关。

85. 发明专利

TWI251609B 乙烯共聚物膠粒 ETHYLENE COPOLYMER PELLETS 有权
简体标题：乙烯共聚物胶粒 ETHYLENE COPOLYMER PELLETS
公开(公告)号：TWI251609B
公开(公告)日：2006-03-21
申请号：TW093103297
申请日：2004-02-12
申请人：東楚股份有限公司 TOSOH CORPORATION
发明人： 野博英 HIROHIDE SAKANO , 雪岡聰 SATOSHI YUKIOKA
IPC分类号： C08L , C08J , C08K
摘要：本發明提供一種乙烯共聚物膠粒，以針對阻塞(blocking)提高其不易受影響性(unsusceptibility)，此乙烯共聚物膠粒包括一混合物(mixture)：
(a) 100重量份的一乙烯共聚物；
(b) 0.01~0.5重量份的一不飽和脂肪酸雙醯胺(bisamide)具有一100~180℃的融點；以及
(c) 0.01~0.5重量份的一潤滑劑(lubricant)具有一60~90℃的融點，當用於與成分(b)化合時，可降低成分(b)的融點至少20℃。
简体摘要：本发明提供一种乙烯共聚物胶粒，以针对阻塞(blocking)提高其不易受影响性(unsusceptibility)，此乙烯共聚物胶粒包括一混合物(mixture)： (a) 100重量份的一乙烯共聚物； (b) 0.01~0.5重量份的一不饱和脂肪酸双酰胺(bisamide)具有一100~180℃的融点；以及 (c) 0.01~0.5重量份的一润滑剂(lubricant)具有一60~90℃的融点，当用于与成分(b)化合时，可降低成分(b)的融点至少20℃。

86. 发明专利

TWI671206B 層積體與該層積體所構成之包裝體有权
简体标题：层积体与该层积体所构成之包装体
公开(公告)号：TWI671206B
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：TW104135048
申请日：2015-10-26
申请人：日商東楚股份有限公司 , TOSOH CORPORATION
发明人：川戶大輔 , KAWATO, DAISUKE , 幸田真吾 , KOUDA, SHINGO , 岩本繁樹 , IWAMOTO, SHIGEKI
IPC分类号： B32B7/12 , B32B27/32 , B32B27/08 , B32B15/085 , B32B9/04 , B65D65/40

87. 发明专利

TWI642481B 非均相觸媒及１，２－二氯乙烷的製造用觸媒系統有权
简体标题：非均相触媒及１，２－二氯乙烷的制造用触媒系统
公开(公告)号：TWI642481B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW103123894
申请日：2014-07-11
申请人：東楚股份有限公司 , TOSOH CORPORATION
发明人：淺川哲夫 , 染谷紗衣 , 大橋知一 , 今富伸哉 , 浜地秀之 , 森嘉彥 , 小栗元宏
IPC分类号： B01J35/02 , B01J27/10 , B01J21/04 , C07C17/35 , C07C19/045

88. 发明专利

TWI628217B 樹脂組合物、使用該組合物之光學補償膜以及其製造方法有权
简体标题：树脂组合物、使用该组合物之光学补偿膜以及其制造方法
公开(公告)号：TWI628217B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW103119667
申请日：2014-06-06
申请人：日商東楚股份有限公司 , TOSOH CORPORATION
发明人：伊藤正泰 , ITO, MASAYASU , 豊增信之 , TOYOMASU, SHINSUKE , 北川貴裕 , KITAGAWA, TAKAHIRO
IPC分类号： C08L1/26 , C08L35/02 , C08L33/06 , C08L33/24 , G02F1/13363 , C08J5/18

89. 发明专利

TWI609841B 含有金屬元素之四氧化三錳複合化粒子及其製造方法及使用此粒子之金屬取代鋰錳系複合氧化物之製造方法有权
简体标题：含有金属元素之四氧化三锰复合化粒子及其制造方法及使用此粒子之金属取代锂锰系复合氧化物之制造方法
公开(公告)号：TWI609841B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW102111349
申请日：2013-03-29
申请人：東楚股份有限公司 , TOSOH CORPORATION
发明人：岩田英一 , IWATA, EIICHI , 山下三貴 , YAMASHITA, MIKI , 藤井康浩 , FUJII, YASUHIRO
IPC分类号： C01G45/02 , H01M4/505
CPC分类号： H01M4/505 , C01G45/00 , C01G45/02 , C01G45/1214 , C01G45/1242 , C01G53/50 , C01P2002/32 , C01P2002/72 , C01P2002/76 , C01P2004/03 , C01P2004/45 , C01P2004/52 , C01P2004/53 , C01P2004/61 , C01P2006/11 , C01P2006/12 , C01P2006/40 , C25B1/21 , H01M4/525 , Y10T428/2982

90. 发明专利

TW201538602A 透明絕緣膜用樹脂溶液以及透明膜之製造方法审中-公开
简体标题：透明绝缘膜用树脂溶液以及透明膜之制造方法
公开(公告)号：TW201538602A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW103141730
申请日：2014-12-02
申请人：東楚股份有限公司 , TOSOH CORPORATION
发明人：藤島崇 , FUJISHIMA, TAKASHI , 牧田健一 , MAKITA, KENICHI
IPC分类号： C08L35/02 , C08L33/14 , C08K5/54 , H01B3/44 , C08J5/18 , C08J3/24 , B41J2/01
CPC分类号： H01B3/447 , C08K5/0025 , C08K5/5435 , H01B3/422
摘要：本發明係提供透明性、ITO密著性優異，且僅以成膜即可作為透明絕緣膜操作的透明絕緣膜用樹脂溶液。本發明之透明絕緣膜用樹脂溶液的特徵在於含有富馬酸酯系樹脂、反應性矽烷化合物、反應起始劑及透明絕緣膜製造用溶劑，該富馬酸酯系樹脂包含下述通式(1)所示之富馬酸二酯殘基單位50至99莫耳%、下述通式(2)所示之具有氧雜環丁烷基之(甲基)丙烯酸酯殘基單位及/或下述通式(3)所示之具有四氫糠基之(甲基)丙烯酸酯殘基單位1至50莫耳%。 (式中，R1及R2各自獨立地表示碳數3至12的直鏈狀烷基或支鏈狀烷基、碳數3至6的環狀烷基) (式中，R3表示氫或甲基，R4表示氫、碳數1至4的直鏈狀烷基或支鏈狀烷基，n表示1或2) (式中，R5表示氫或甲基，R6表示氫、碳數1至4的直鏈狀烷基或支鏈狀烷基。)
简体摘要：本发明系提供透明性、ITO密着性优异，且仅以成膜即可作为透明绝缘膜操作的透明绝缘膜用树脂溶液。本发明之透明绝缘膜用树脂溶液的特征在于含有富马酸酯系树脂、反应性硅烷化合物、反应起始剂及透明绝缘膜制造用溶剂，该富马酸酯系树脂包含下述通式(1)所示之富马酸二酯残基单位50至99莫耳%、下述通式(2)所示之具有氧杂环丁烷基之(甲基)丙烯酸酯残基单位及/或下述通式(3)所示之具有四氢糠基之(甲基)丙烯酸酯残基单位1至50莫耳%。 (式中，R1及R2各自独立地表示碳数3至12的直链状烷基或支链状烷基、碳数3至6的环状烷基) (式中，R3表示氢或甲基，R4表示氢、碳数1至4的直链状烷基或支链状烷基，n表示1或2) (式中，R5表示氢或甲基，R6表示氢、碳数1至4的直链状烷基或支链状烷基。)

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式