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71. 发明专利

DE10314929B4 未知
公开(公告)号：DE10314929B4
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：DE10314929
申请日：2003-04-02
申请人： CEMECON AG
发明人： CREMER RAINER , ERKENS GEORG , LEYENDECKER ANTONIUS
IPC分类号： C23C30/00 , C23C14/00 , C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/34 , C23C14/35 , C23C28/00

72. 发明专利

DE112007001228A5 未知
公开(公告)号：DE112007001228A5
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：DE112007001228
申请日：2007-06-01
申请人： CEMECON AG
发明人： GUSSONE JOACHIM
IPC分类号： C23C16/02 , C23C16/27

73. 发明专利

DE60001666T3 未知
公开(公告)号：DE60001666T3
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：DE60001666
申请日：2000-05-29
申请人： CEMECON AG
发明人： LEYENDECKER ANTONIUS , FUSS HANS-GERD , WENKE RAINER , ERKENS GEORG , ESSER STEFAN , KUENZEL INGO
IPC分类号： B24C11/00 , C23C14/58 , B24C1/08 , B24C1/10 , C23C30/00
摘要： The invention relates to a process for producing a hard-material-coated component, comprising the following steps: application of a layer of hard material to the component in a PVD coating unit; and structural further processing of the outer surface of the layer of hard material, and to a component produced using the process. Particularly in the case of thick coatings or coatings with a columnar structure, such processes have a problem producing a sufficiently smooth surface on the coating. The problem is solved by the fact that for the structural further processing, the surface of the layer is blasted in a blasting device in order to improve this surface, an inorganic blasting agent with a grain size in the range from 1 mum to 100 mum and a sharp-edged grain shape being used.

74. 发明专利

DE102006021994A1 Method for coating bodies by magnetron sputtering for forming protective layers on tools comprises feeding an electric power through power sources to the magnetron so that a specified maximum peak height of the power is reached 未知
公开(公告)号：DE102006021994A1
公开(公告)日：2007-11-15
申请号：DE102006021994
申请日：2006-05-10
申请人： CEMECON AG
发明人： CREMER RAINER
IPC分类号： C23C14/35
摘要： Method for coating bodies by magnetron sputtering comprises feeding an electric power through power sources to the magnetron so that the maximum peak height of the power is more than 500 W/cm2> based on the surface of the target.

75. 发明专利

DE10393375D2 未知
公开(公告)号：DE10393375D2
公开(公告)日：2005-09-15
申请号：DE10393375
申请日：2003-09-26
申请人： CEMECON AG
发明人： GUSSONE JOACHIM , LEMMER OLIVER , BREIDT DIRK
IPC分类号： C23C16/02 , C23C16/27 , C23C30/00

76. 发明专利

DE10314932A1 Device, for coating a body, comprises a coating chamber containing a substrate holder, and electrodes forming the targets from material to be sputtered 未知
公开(公告)号：DE10314932A1
公开(公告)日：2003-11-06
申请号：DE10314932
申请日：2003-04-02
申请人： CEMECON AG
发明人： CREMER RAINER , ERKENS GEORG , HAMOUDI TAHA , LEYENDECKER ANTONIUS
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/35
摘要： Device comprises a coating chamber (12) having units for evacuating the chamber and units for introducing gaseous components and containing a substrate holder (18), and electrodes forming the targets (26) from material to be sputtered. Device for coating a body comprises a coating chamber (12) having units for evacuating the chamber and units for introducing gaseous components and containing a substrate holder (18), and electrodes forming the targets (26) from material to be sputtered. One electrode is formed as a magnetron cathode (14) and the other electrode as a diode cathode. The electrode pair are electrically controlled so that an alternating voltage is applied between both electrodes. The electrodes are periodically operated as anode and cathode of a plasma discharge in which ions are accelerated onto the targets and sputtered there.

77. 发明专利

DE60001666D1 未知
公开(公告)号：DE60001666D1
公开(公告)日：2003-04-17
申请号：DE60001666
申请日：2000-05-29
申请人： CEMECON AG
发明人： LEYENDECKER ANTONIUS , FUSS HANS-GERD , WENKE RAINER , ERKENS GEORG , ESSER STEFAN , KUENZEL INGO
IPC分类号： B24C11/00 , B24C1/08 , B24C1/10 , C23C14/58 , C23C30/00
摘要： The invention relates to a process for producing a hard-material-coated component, comprising the following steps: application of a layer of hard material to the component in a PVD coating unit; and structural further processing of the outer surface of the layer of hard material, and to a component produced using the process. Particularly in the case of thick coatings or coatings with a columnar structure, such processes have a problem producing a sufficiently smooth surface on the coating. The problem is solved by the fact that for the structural further processing, the surface of the layer is blasted in a blasting device in order to improve this surface, an inorganic blasting agent with a grain size in the range from 1 mum to 100 mum and a sharp-edged grain shape being used.

78. 发明专利

DE102020124032A1 Beschichtungsvorrichtung und Beschichtungsverfahren mit unterteilten Pulsen 未知
公开(公告)号：DE102020124032A1
公开(公告)日：2022-03-17
申请号：DE102020124032
申请日：2020-09-15
申请人： CEMECON AG
发明人： MAY WALTER , KÖLKER WERNER , BOLZ STEPHAN
IPC分类号： C23C14/35
摘要： Die Erfindung betrifft ein Beschichtungsverfahren und eine Beschichtungsvorrichtung zum Beschichten eines Körpers 40. Eine Magnetron-Kathode 22a, 22b, 22c, 22d mit einem Target 24a, 24b, 24c, 24d ist in der Vakuumkammer 12 angeordnet. Der Magnetron-Kathode 22a, 22b, 22c, 22d wird elektrische Leistung zugeführt, so dass ein Plasma generiert und das Target 24a, 24b, 24c, 24d zerstäubt wird, um eine Beschichtung 44 auf dem Körper 40 abzuscheiden. Dabei wird die elektrische Leistung gemäß dem HIPIMS-Verfahren als Kathodenpulse 60 periodisch innerhalb einer Periodendauer T zugeführt, wobei jeder Kathodenpuls 60 mindestens zwei Kathodensubpulse 62 und eine dazwischenliegende Kathodensubpulspause 64 umfasst. Um unter Nutzung des chopped HIPIMS Verfahrens auf besonders günstige Weise Beschichtungen 44 mit günstigen Eigenschaften abscheiden zu können, wird gemäß verschiedener Aspekte am zu beschichtenden Substrat 40 eine Bias-Spannung mit einer speziellen Pulsform angelegt, Sequenzen von Kathodensubpulsen 62 unterschiedlicher Dauer vorgegeben, das Verfahren mit einer kurzen Periodendauer T bzw. hohen Frequenz ausgeführt und/oder mit einer vorteilhaften Anlagetechnik unter Nutzung einer geladenen Kapazität 48.

79. 发明专利

DE102008021912C5 Beschichtungsverfahren 未知
公开(公告)号：DE102008021912C5
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：DE102008021912
申请日：2008-05-01
申请人： CEMECON AG
发明人： BROITMAN ESTEBAN DR , HULTMAN LARS PROF , CREMER RAINER PROF DR
IPC分类号： C23C14/35
摘要： Ein Verfahren zum Vorbehandeln und Beschichten von Körpern unter Verwendung von Magnetronsputtern mit mindestens zwei HIPIMS-Leistungsversorgungen in einer Beschichtungskammer, dadurch gekennzeichnet, dass – eine erste HIPIMS-Leistungsversorgung (1) an eine Magnetronsputterquelle (3) angeschlossen wird, – eine zweite HIPIMS-Leistungsversorgung (2) als Versorgung an die vorzubehandelnden und zu beschichtenden Körper angeschlossen wird, und – die HIPIMS-Leistungsversorgungen synchronisiert werden, – wobei zunächst eine Übergangschicht erzeugt wird, indem Metallionen aus der Magnetronsputterquelle (3) in die Körper implantiert werden – und anschließend eine Haftschicht aufgebracht wird, die ebenfalls Metallionen aus dem Magnetron (3) enthält. – und anschließend eine kohlenstoffbasierte Schicht erzeugt wird, die Wasserstoff und/oder Stickstoff enthält.

80. 发明专利

DE102006021994B4 Beschichtungsverfahren 未知
公开(公告)号：DE102006021994B4
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：DE102006021994
申请日：2006-05-10
申请人： CEMECON AG
发明人： CREMER RAINER
IPC分类号： C23C14/35
摘要： Verfahren zum Beschichten von Körpern durch Magnetronzerstäuben, dadurch gekennzeichnet, dass einem Magnetron (1) mit einem Target (2) elektrische Leistung durch zwei Leistungsversorgungen (10, 11) entweder parallel oder nacheinander und im ständigen Wechsel zugeführt wird, – wobei eine erste Leistungsversorgung (10) gepulst ist und die maximale Peakhöhe der Leistung bezogen auf die Oberfläche des Targets (2) größer ist als 500 W/cm2, – und wobei eine zweite Leistungsversorgung (11) dem Magnetron (1) die Leistung konstant oder gepulst zuführt, aber mit maximalen Peakhöhen kleiner als 500 W/cm2, – wobei die zeitlich gemittelte Leistung der ersten Leistungsversorgung (10) im Verhältnis zur zeitlich gemittelten Gesamtleistung 0,3 bis 0,7 beträgt.

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