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71. 发明专利

JP5953512B2 光配向露光装置及び光配向露光方法有权
标题翻译：光学对准曝光装置和光学对准曝光方法
公开(公告)号：JP5953512B2
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：JP2012151630
申请日：2012-07-05
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：梶山康一 , 橋本和重 , 新井敏成
IPC分类号： G02F1/1337 , G03F7/20
CPC分类号： G02F1/133788 , G02F1/1303 , G02F1/133753 , G03F7/201 , G03F7/70275 , G03F7/70283 , G03F7/70308 , G03F7/70325 , G03F7/70358 , G02F2001/133757

72. 发明专利

JP2016128597A マグネットシート、それを使用する成膜方法及びタッチパネル审中-公开
标题翻译：磁铁片，使用其的膜沉积方法和触摸面板
公开(公告)号：JP2016128597A
公开(公告)日：2016-07-14
申请号：JP2015003393
申请日：2015-01-09
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：水村通伸
IPC分类号： C23C14/04
摘要：【課題】成膜マスクの開口パターンの粗密による密着性のムラを改善する。【解決手段】複数の開口パターン6を備えた磁性金属材料から成る成膜マスク5に磁場を作用させて吸引し、前記成膜マスク5を被成膜基板に密着させて保持するマグネットシートであって、前記成膜マスク5の前記磁性金属材料が占める体積の大きい領域と小さい領域の面内分布に合わせて前記磁場の強度に面内分布を持たせたものである。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提高由于成膜掩模的开口图案的密度而导致的紧密接触的不均匀性。解决方案：磁片将磁场施加到由具有多个打开图案6以吸引成膜掩模并紧密接触并保持要沉积有成膜掩模5的基板。根据膜沉积的磁性金属材料所占据的具有大体积和小体积的区域的面内分布掩模5，磁场的强度具有平面内分布。选择图：图2

73. 发明专利

JP2016126411A タッチパネル及びタッチパネルの製造方法审中-公开
标题翻译：触控面板及其制造方法
公开(公告)号：JP2016126411A
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：JP2014264733
申请日：2014-12-26
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：水村通伸
IPC分类号： G06F3/044 , G06F3/041
摘要：【課題】製造工程を簡素化して製造コストを低減する。【解決手段】透明基材1の同一平面上に、連結部4によって電気的に接続されてX方向に並んだ複数の第1透明電極5を有する複数列の第1透明電極列2と、前記連結部4と電気的に絶縁された状態で該連結部4を前記X方向と交差するY方向に跨ぐ導電体9によって電気的に接続されて前記Y方向に並んだ複数の第2透明電極10を有する複数列の第2透明電極列3と、を備えたものである。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了简化制造步骤，降低制造成本。解决方案：触摸面板包括在透明基板1的同一平面上：多个第一透明电极阵列2，其具有电连接的多个第一透明电极5 通过连接部分4，并沿X方向排列; 以及多个第二透明电极阵列3，具有多个第二透明电极10，该多个第二透明电极10在与连接部分4电绝缘的状态下，在与X方向相交的Y方向上与导体9电连接，并且布置在Y方向。选择图：图1

74. 发明专利

JP2016118719A 偏光光照射装置有权
标题翻译：极化光照射装置
公开(公告)号：JP2016118719A
公开(公告)日：2016-06-30
申请号：JP2014259461
申请日：2014-12-22
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：橋本和重 , 新井敏成
IPC分类号： G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/13 , G02F1/1337
摘要：【課題】光配向処理などを行う偏光光照射装置において、偏光光照射領域に一方向から連続的に基板を供給することで、基板の搬入、偏光光照射、基板の搬出をワンウェイで行い、処理効率の向上を図り、その際、基板の方向を精度良く保って高い処理精度を確保する。【解決手段】偏光光照射装置1は、設定された照射領域2Sに偏光光を照射する光源ユニット2と、照射領域2Sを通過するように、基板Wを一軸方向に沿って移動させるステージ3とを備え、ステージ3は、照射領域2Sの一軸方向一方側で基板Wの方向を一定に保持して照射領域2Sの一軸方向他方側で基板Wの保持を開放する複数の基板保持部30を備え、基板保持部30は、一つの基板保持部30が一つの基板W1の保持を開放する前に、他の基板保持部30が他の基板W2を保持する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了通过从一个方向连续地向偏振光照射区域提供基板来实现加工效率的提高，从而实现基板的携带，偏振光照射和基板的移出进行光学取向处理等的偏振光照射装置，其中准确地保持基板的方向以确保高的加工精度。解决方案：偏振光照射装置1包括：光源单元2，其照射设定的照射区域2S 带偏振光; 以及使基板W沿着单轴方向移动以通过照射区域2S的台架3。阶段3包括多个基板保持单元30，其将基板W的方向保持在照射区域2S的单轴方向的一侧恒定，并且在基板W的单轴方向的另一侧上释放基板W的保持照射区域2S。衬底保持单元30被构造成使得其它衬底保持单元30在一个衬底保持单元30释放一个衬底W1的保持之前保持其它衬底W2。图1

75. 发明专利

JP2016108620A メタルマスク、タッチパネル及びタッチパネルの製造方法审中-公开
标题翻译：金属掩模，触控面板和制造触控面板的方法
公开(公告)号：JP2016108620A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014247608
申请日：2014-12-08
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：水村通伸 , 工藤修二
IPC分类号： G06F3/041 , C23C14/04
CPC分类号： C23C14/04 , G06F3/041
摘要：【課題】被成膜基板に均一に密着させて成膜パターンのぼやけの発生を抑制する。【解決手段】磁性金属細線7により仕切られた複数の開口パターンを有する磁性金属シート3と、該磁性金属シート3の一面側に前記開口パターン6を横断して設けられたサポートライン5と、を備えたメタルマスクであって、前記磁性金属細線7は、その配置密度に高い領域と低い領域とを有しており、前記配置密度の低い領域の前記開口パターン6の内部に該開口パターン6の周縁部から離隔すると共に、前記サポートライン5に支持されて設けられた磁性金属材料から成る孤立パターン4を備えたものである。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：为了均匀地紧密接触要沉积金属掩模的基板以抑制膜沉积图案模糊的发生。解决方案：金属掩模包括：具有多个开口图案的磁性金属片3，薄磁性金属线7具有高度和低排列密度的区域; 支撑线5，设置成与磁性金属片3的一个表面侧上的开口图案6交叉; 以及由磁性金属材料形成的隔离图案4，其在开口图案6的内部的开口图案6的周边边缘部分中以低排列密度区域被支撑线5支撑。选择的图示：图2

76. 发明专利

JP5935179B2 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法有权
标题翻译：一种制造沉积掩模和沉积掩模的方法
公开(公告)号：JP5935179B2
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：JP2011271856
申请日：2011-12-13
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：杉本重人
IPC分类号： C23C14/04
CPC分类号： C23C14/042 , H01L51/0011

77. 发明专利

JP5928032B2 キャリブレーション用マスクおよびキャリブレーション方法有权
标题翻译：掩模和用于校准的校准方法
公开(公告)号：JP5928032B2
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：JP2012059481
申请日：2012-03-15
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：野村義昭 , 松本隆徳 , 竹下琢郎
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F1/42 , G03F9/7019

78. 发明专利

JP2016085439A 露光方法及び露光装置审中-公开
标题翻译：曝光方法和曝光装置
公开(公告)号：JP2016085439A
公开(公告)日：2016-05-19
申请号：JP2015091798
申请日：2015-04-28
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：佐治伸仁
IPC分类号： H01L21/683 , H05K3/00 , G03F7/20
摘要：【課題】基板及びマスクに傷が発生することを抑制しつつ、基板に所望の曲率を持たせることが可能な露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】基板3を複数のベローズ17上に載置する工程と、ベローズ17の内部を真空引きすることによって、ベローズ17の上端17aを基板3の下面3aに吸着させるとともに収縮させて、支持部材19の支持面19aに基板3を押し付けることにより、複数の支持面19aの位置関係に対応した曲率を、基板3に持たせる工程と、を備える。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制基板和掩模上产生划痕并且达到所需基板的所需曲率的曝光方法和曝光装置。曝光方法包括：安装基板3的步骤多个波纹管17; 以及用于对波纹管17内部进行真空拉拔的步骤，从而将波纹管17的上端部17a吸附到基板3的下表面3a并收缩波纹管，并将基板3按压到支撑部件19的支撑面19a 从而实现与多个支撑面19a的位置关系对应的基板3的曲率

79. 发明专利

JP5895275B2 アライメントマーク及び露光装置有权
标题翻译：对准标记和曝光装置
公开(公告)号：JP5895275B2
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：JP2011241634
申请日：2011-11-02
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：橋本和重
IPC分类号： G03F7/20

80. 发明专利

JP5884147B2 レーザアニール装置及びレーザアニール方法有权
标题翻译：激光退火装置和激光退火方法
公开(公告)号：JP5884147B2
公开(公告)日：2016-03-15
申请号：JP2010274659
申请日：2010-12-09
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：水村通伸 , 齋藤雄二
IPC分类号： H01L21/268 , B23K26/00 , B23K101/40 , H01L21/20
CPC分类号： H01L21/67115 , B23K26/066 , B23K26/0676 , H01L21/02532 , H01L21/0268 , H01L21/02691 , H01L21/477 , B23K2201/40

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