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    • 71. 发明申请
    • マイクロ波加熱装置
    • 微波加热装置
    • WO2017081852A1
    • 2017-05-18
    • PCT/JP2016/004764
    • 2016-10-31
    • パナソニック株式会社
    • 大森 義治吉野 浩二橋本 修須賀 良介
    • H05B6/74F24C7/02F27B17/00F27D11/12H05B6/64
    • F24C7/02F27B17/00F27D11/12H05B6/64H05B6/74
    • マイクロ波加熱装置は、被加熱物(4)を収容する加熱室(1)と、マイクロ波を生成するマイクロ波生成部(2)と、マイクロ波を加熱室(1)に供給する給電部(3、8)と、加熱室(1)の壁面の少なくとも一部の二次元領域に設けられた電磁界分布調整装置(5)とを有する。電磁界分布調整装置(5)は、上記二次元領域に設けられた接地導体と、接地導体に平行に二次元的かつ周期的に配列された複数の金属片と、複数の金属片における隣り合う二つの金属片の間にそれぞれ設けられた複数のスイッチとを有する。電磁界分布調整装置(5)はさらに、隣り合う二つの金属片の一方から他方への方向が、加熱室(1)に供給されたマイクロ波の励振方向(6)と異なるように構成される。本構成によれば、より安価な構成で加熱むらを低減することができる。
    • 微波加热装置包括用于容纳对象的加热室的被加热(4)(1),一微波发生器,用于产生微波(2),加热室的微波( 1);以及设置在加热室(1)的壁面的至少一部分的二维区域的电磁场分布调整装置(5)。 的电磁场分布调节装置(5)包括金属片设置在所述二维区域中的接地导体,多个金属片,其平行于二维和周期性地排列在接地导体,邻近所述多个 以及分别设置在两个金属片之间的多个开关。 的电磁场分布调节装置(5)进一步,从邻近于所述两个金属片的一个方向被配置为不同的加热室和提供到所述(1)微波激励方向(6)的 。 根据该结构,能够以更便宜的结构降低不均匀的加热。

    • 78. 发明申请
    • エッチングシステム
    • 蚀刻系统
    • WO2016084871A1
    • 2016-06-02
    • PCT/JP2015/083143
    • 2015-11-26
    • 株式会社NSCパナソニック株式会社
    • 三好 雄三山崎 銀兵石垣 暢規島田 和哉家田 智之西川 晴香
    • H01L21/306B08B3/08B08B3/14G02F1/1333
    • B08B3/08B08B3/14G02F1/1333H01L21/306
    • 【課題】循環ラインにて加圧式濾過装置を効率的に使用し、コストを抑えつつエッチング液の清浄化を行うことが可能なエッチングシステムを提供する。 【解決手段】エッチングシステムは、エッチング装置、循環ライン、膜式濾過装置、および加圧式濾過装置を備える。エッチング装置は、少なくともエッチング液槽を備え、エッチング液槽に収容されたエッチング液をガラス基板に接触させることによりエッチング処理を行うように構成される。循環ラインは、エッチング液槽のエッチング液を外部に取り出すとともに、濾過してエッチング液槽に返送するように構成される。膜式濾過装置は、循環ラインに配置され、導入されたエッチング液を濾過する浸漬膜を備える。加圧式濾過装置は、循環ラインにおける膜式濾過装置の後段に配置され、浸漬膜にて捕捉されたスラリーを受け入れて固液分離するように構成される。
    • (问题)为了提供一种在循环管线中有效地使用加压过滤装置的蚀刻系统,蚀刻系统可以净化蚀刻剂同时最小化成本。 (溶液)蚀刻系统设置有蚀刻装置,循环管线,膜式过滤装置和加压过滤装置。 蚀刻装置至少设置有蚀刻剂槽,并且被配置为通过使包含在蚀刻剂槽中的蚀刻剂与玻璃基板接触来进行蚀刻。 循环管线被配置为在蚀刻槽内抽出蚀刻剂,过滤蚀刻剂,并将蚀刻剂返回到蚀刻剂槽。 膜式过滤装置设置在循环管线上,并设置有用于过滤引入的蚀刻剂的浸没膜。 加压过滤装置沿着循环管线布置在膜式过滤装置的后部,并且被配置为接收被浸入膜捕获的浆料并进行固液分离。