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61. 发明授权

US07130114B2 Catoptric optical system 有权
标题翻译： Catoptric光学系统
公开(公告)号：US07130114B2
公开(公告)日：2006-10-31
申请号：US10819876
申请日：2004-04-07
申请人： Yoshiaki Kurioka
发明人： Yoshiaki Kurioka
IPC分类号： G02B21/00 , G02B17/00 , G02B23/00
CPC分类号： G02B17/0884 , G02B17/0626 , G02B17/0663 , G02B17/0848
摘要： There is provided a compact, strong and high-performance catoptric optical system. This catoptric optical system has plural optical curved reflective surfaces. A gap between a pair of reflective surfaces, through which light incident upon said catoptric projection optical system passes, is the same gap between a pair of reflective surfaces, through which light exited from the catoptric projection optical system passes.
摘要翻译：提供了一种紧凑，强大和高性能的反射光学系统。该反射光学系统具有多个光学弯曲反射面。通过入射到所述反射投影光学系统的光通过的一对反射表面之间的间隙是从反射投影光学系统退出的光通过的一对反射表面之间的相同的间隙。

62. 发明授权

US2697379A Compound image-forming reflecting mirror optical system 失效
标题翻译：复合成像反射镜光学系统
公开(公告)号：US2697379A
公开(公告)日：1954-12-21
申请号：US38046353
申请日：1953-09-16
申请人： WALKER JOSEPH B
发明人： WALKER JOSEPH B
IPC分类号： G02B17/00 , G02B17/06 , G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0626 , G02B17/008 , G02B17/0816

63. 发明申请

WO2011144389A1 ILLUMINATION OPTICS FOR A METROLOGY SYSTEM FOR EXAMINING AN OBJECT USING EUV ILLUMINATION LIGHT AND METROLOGY SYSTEM COMPRISING AN ILLUMINATION OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：用于使用EUV照明灯检查对象的计量系统的照明光学和包含该类型的照明光学的计量系统
公开(公告)号：WO2011144389A1
公开(公告)日：2011-11-24
申请号：PCT/EP2011/055679
申请日：2011-04-12
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen , HERKOMMER, Alois
发明人： MANN, Hans-Jürgen , HERKOMMER, Alois
IPC分类号： G02B5/10 , G02B17/06 , G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B5/10 , G02B5/0891 , G02B17/0626 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F1/24 , G03F1/84
摘要： A metrology system (2) serves to examine an object (5) arranged in an object field (3) using EUV illumination light (1). An illumination optics (9) of the metrology system (2) has a collector mirror (B1) which is arranged in the beam path directly downstream of an EUV light source (6). Downstream of the collector mirror (B1), less than three additional illumination mirrors (B2, B3) are arranged in the beam path between the collector mirror (B1) and the object field (3). An intermediate focus (11) is arranged in the beam path between the collector mirror (B1) and the additional illumination mirror (B2). The metrology system (2) further includes a magnifying imaging optics (15) for imaging the object field (3) into an image field (13) in an image plane (14). As a result a metrology system is obtained which comprises an illumination optics that ensures an efficient illumination of the object field by means of illumination parameters which are well adapted to the illumination situation of current EUV projection exposure apparatuses.
摘要翻译：计量系统（2）用于检查使用EUV照明光（1）布置在物场（3）中的物体（5）。计量系统（2）的照明光学器件（9）具有收集器反射镜（B1），其被布置在EUV光源（6）的直接下游的光束路径中。在集电镜（B1）的下游，在集光镜（B1）和物场（3）之间的光束路径中布置少于三个附加照明镜（B2，B3）。在聚光镜（B1）和附加照明镜（B2）之间的光束路径中布置有中间焦点（11）。计量系统（2）还包括用于将物场（3）成像成像面（14）中的图像场（13）的放大成像光学器件（15）。结果，获得了一种计量系统，其包括照明光学器件，其通过适合于当前EUV投影曝光设备的照明情况的照明参数来确保对物场的有效照明。

64. 发明申请

WO2011029634A2 METHOD FOR PRODUCING AN OPTICAL ASSEMBLY HAVING AT LEAST TWO OPTICAL FUNCTIONAL SURFACES, AN OPTICAL DEVICE AND UNIT FOR CARRYING OUT THE METHOD 审中-公开
标题翻译：工艺生产具有至少两个光学功能区域光学设备和设备的光学装置用于实施过程
公开(公告)号：WO2011029634A2
公开(公告)日：2011-03-17
申请号：PCT/EP2010005691
申请日：2010-09-13
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG , UNIV SCHILLER JENA , SCHEIDING SEBASTIAN , RISSE STEFAN , GEBHARDT ANDREAS , DAMM CHRISTOPH , PESCHEL THOMAS , STEINKOPF RALF
发明人： SCHEIDING SEBASTIAN , RISSE STEFAN , GEBHARDT ANDREAS , DAMM CHRISTOPH , PESCHEL THOMAS , STEINKOPF RALF
IPC分类号： B24B13/00
CPC分类号： B29D11/00596 , G02B7/182 , G02B17/0626 , Y10T82/10
摘要： The invention relates to a method for producing an optical assembly, comprising at least two optical functional surfaces (5, 6) arranged in a fixed positional relationship to one another on a common supporting structure (9), wherein by means of a processing machine (15), in various process steps, at least two optical functional surfaces (5, 6) and at least one reference structure (13) having a defined and measurable relative position to the optical functional surfaces (5, 6) are produced. The supporting structure (9) remains rigidly connected to the processing machine (15) until said process steps have been completed, and wherein the optical functional surfaces (5, 6) are then measured relative to the at least one reference structure (13), and any deviation from a target shape and target position is determined, after which said process steps are repeated at least once with modified actuation of the processing machine (15). The invention further relates to an optical device comprising an optical assembly produced in this way and to a unit for carrying out such a method.
摘要翻译：本发明涉及一种在共同的支撑结构具有至少两个固定位置关系的制造光学装置彼此的方法（9）布置在所述光学功能表面（5,6），其中，通过加工机（15），至少两个光学表面（在不同的工艺步骤5 ，6）和至少一个参考结构（13）具有限定的和可测量的相对位置的光学功能面（5,6制造），其中所述支撑结构（9）保持高达牢固地连接到加工机（15上述处理步骤完成）和在此之后，光学功能面（5,6）被测量相对于所述至少一个参考结构（13），并从所希望的形状的偏差，并且所希望的位置被确定，在此之后的处理步骤的上方与所述加工机（15）的修正后的控制重复至少一次。本发明还涉及一种具有这样制造的光学组件，以及用于执行这种方法的装置的光学装置。

65. 发明申请

WO1995034840A1 UNIVERSAL TWO-MIRROR CORRECTOR FOR CASSEGRAIN-TYPE MIRROR SYSTEMS 审中-公开
标题翻译： UNIVERSAL两个镜像整改CASSEGRAINARTIGE反射镜系统
公开(公告)号：WO1995034840A1
公开(公告)日：1995-12-21
申请号：PCT/DE1994000728
申请日：1994-06-15
申请人： GALLERT, Frank
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G02B17/0652 , G02B17/0626 , G02B23/06
摘要： A mirror system has four mirrors with a common optical axis, i.e. a first collecting mirror (1), a second smaller dispersing mirror (2), a third collecting mirror (3) and a fourth collecting mirror (4), seen in the direction of light incidence. Mirror (1) reflects incident light on mirror (2) that forms an intermediate image (5) of the light. The dispersed light then reaches mirror (3) that acts as a collimator and reflects parallel light on mirror (4), that in turn reflects the light on image field (6) in which a detector (7) is arranged. Mirror (1) has a central bore (10). Flat mirrors (8) fold the path of the light and are preferably arranged in the plane of intermediate image (5). An image field flattening lens (9) can flatten image field (6). Both classical Cassegrain systems and Ritchey-Chretien systems that consist of mirrors (1) and (2) may be aplanatically and anastigmatically corrected with a flat image field (6) by means of the disclosed two-mirror corrector made of mirrors (3) and (4).
摘要翻译：本发明涉及一种反射镜系统，具有共同的光轴，四个反射镜，其在光的入射从第一聚光镜（1），第二，较小的，分散镜（2），第三，收集反射镜的顺序（3）和一第四，收集反射镜（4）。镜（1）反射入射光在反射镜（2），这反映了它的中间图像（5）英寸然后将其传递到发散反射镜（3），其充当准直器和平行光在反射镜（4）反射，它反映了在像场（6），其中，检测器（7）布置的光。反射镜（1）具有中心孔（10）。平面反射镜（8）用于折叠光路，并在中间图像（5）的平面是优选。的像场平坦化透镜（9）可以铺像场（6）。古典Cassegrainsysteme和里奇 - 克雷蒂安系统，由反射镜（1和2），可与本发明的双镜校正的辅助下从反射镜的被校正的（3和4）消球差和消像散用平像场（6）。

66. 发明专利

JP2018132684A ヘッドアップディスプレイ装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018132684A
公开(公告)日：2018-08-23
申请号：JP2017026715
申请日：2017-02-16
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：川名正直
IPC分类号： G02B17/00 , B60K35/00 , G02B27/01
CPC分类号： G02B27/0101 , B60K37/02 , B60K2350/1072 , B60K2350/2052 , B60K2350/2065 , G02B17/023 , G02B17/0605 , G02B17/0621 , G02B17/0626 , G02B17/0642 , G02B27/0149 , G02B2027/015
摘要：【課題】小型で、かつ高画質なヘッドアップディスプレイ装置を提供する。【解決手段】ヘッドアップディスプレイ装置10について、光路偏向手段2と、パワーを有する第1ミラー3と、パワーを有する第2ミラー4と、開口5が設けられた遮光部材とを有し、画像表示面1から射出された表示光が、光路偏向手段2、第1ミラー3、第2ミラー4の順に反射し、開口5を通過して、画像反射面に到達し、画像表示面1および光路偏向手段2が、第2ミラー4から開口5へ向かう光束に対して、観察者と同じ側かつ第1ミラー3と逆側に配置され、画像表示面1が、光路偏向手段2から第1ミラー3へ向かう光束に対して、第2ミラー4と逆側に配置されているものとする。【選択図】図2

67. 发明专利

JP4516114B2 Imaging optical system 有权
公开(公告)号：JP4516114B2
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：JP2007509190
申请日：2006-03-08
申请人：三菱電機株式会社
发明人：貴敬中野 , 恭久玉川
IPC分类号： G02B17/00
CPC分类号： G02B17/0626

68. 发明公开

KR1020140024813A 노광 장치 및 물품 제조방법 有权
标题翻译：曝光装置及其制造方法
公开(公告)号：KR1020140024813A
公开(公告)日：2014-03-03
申请号：KR1020130097627
申请日：2013-08-19
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 모치주키신야 , 메하라유지
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/025 , G03F7/70825 , H01L21/0274 , G02B17/0626 , G03F7/2022
摘要： An exposing device includes an optical system for exposing a substrate. The optical system includes an optical member, a holding part holding the optical member, a pressing part pressing the holding part and the optical member each other, and a sealed adhesive placed in a space made by the optical member and the holding part which are pressed to each other and bonding the optical member and the holding part.
摘要翻译：曝光装置包括用于曝光衬底的光学系统。该光学系统包括光学构件，保持光学构件的保持部件，将保持部件和光学构件相互按压的按压部件和位于由光学构件和保持部件制成的空间中的密封粘合剂，该空间被按压并且将光学构件和保持部件接合。

69. 发明专利

JP2013504775A Optical device and a device to perform the method and the method for producing an optical component having at least two optically functional surfaces 审中-公开
公开(公告)号：JP2013504775A
公开(公告)日：2013-02-07
申请号：JP2012528282
申请日：2010-09-13
申请人：フラウンホッファー−ゲゼルシャフトツァーフェーデルングデアアンゲバンテンフォルシュングエーファー , フリードリッヒ−シラー−ユニバーシタッタジーナ
发明人：シャイドイング、セバスチャン , リッセ、ステファン , ゲバート、アンドリアス , ダム、クリシュトフ , ペシェル、トーマス , シュタインコップフ、ラルフ
IPC分类号： G02B23/02 , B23B1/00 , B23B5/00 , B23Q17/00
CPC分类号： B29D11/00596 , G02B7/182 , G02B17/0626 , Y10T82/10
摘要：共通支持構造（９）上に互いに固定された位置関係で配置される規定された形状の少なくとも２つの光学機能面（５，６）を有する光学部品を製造する方法であって、工作機械（１５）を使用して、様々な加工工程により、少なくとも２つの光学機能面（５，６）及び光学機能面（５，６）を基準とした規定された測定可能な相対位置を有する少なくとも１つの参照構造（１３）が製造され、全ての加工工程が完了するまで、支持構造（９）は、工作機械（１５）と固定して接続された状態を保ち、少なくとも１つの参照構造（１３）を基準として前記光学機能面（５，６）が測定され、所望の形状又は所望の位置からの光学機能面（５，６）のずれを決定した後で、工作機械の修正された動作を使用して加工工程を少なくとも１回繰り返す製造方法に関する。本発明は更に、このような方法で製造された光学部品を備える光学デバイス及びこのような方法を実行するユニットに関する。
【選択図】図５

70. 发明专利

JP2004309765A Reflecting optical system and projector using reflecting optical system 有权
公开(公告)号：JP2004309765A
公开(公告)日：2004-11-04
申请号：JP2003102805
申请日：2003-04-07
申请人： Canon Inc , キヤノン株式会社
发明人： KURIOKA YOSHIAKI
IPC分类号： G02B17/08 , G02B17/06 , G03B21/00
CPC分类号： G02B17/0884 , G02B17/0626 , G02B17/0663 , G02B17/0848
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflecting optical system in which an optical system is made compact by reducing the number of aperture parts of the reflecting optical system to reduce the whole size, the strength of a holding mechanism is easily secured and high performance is easily secured in an imaging optical system including optical reflection surfaces having a plurality of curvatures. SOLUTION: In the imaging optical system including the optical reflection surface having a plurality of curvatures, the gap between a pair of optical reflection surfaces through which an incident beam is passed at the time of incidence of the incident beam into the reflecting optical system 102 is made the same as the gap between a pair of optical reflection surfaces through which a projecting beam is passed at the time of projection the projecting beam. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

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