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    • 62. 发明专利
    • 接合装置及び接合システム
    • 连接装置和连接系统
    • JP2015095579A
    • 2015-05-18
    • JP2013234793
    • 2013-11-13
    • 東京エレクトロン株式会社
    • 杉原 紳太郎古家 元古谷 悟郎岩本 康信
    • H01L21/683B23K20/00H01L21/02
    • B32B38/1858H01L21/67092H01L21/681H01L21/6875B32B2038/0056B32B2038/1891B32B2309/10B32B2457/14B32B37/10Y10T156/1744
    • 【課題】基板同士を接合する際に基板を適切に保持して、当該基板同士の接合処理を適切に行う。 【解決手段】接合装置41は、下面に上ウェハW U を真空引きして吸着保持する上チャック140と、上チャック140の下方に設けられ、上面に下ウェハW L を真空引きして吸着保持する下チャック141と、を有する。下チャック141は、下ウェハW L の全面を真空引きする本体部190と、本体部190上に設けられ、下ウェハW L の裏面に接触する複数のピン191と、本体部190上であって複数のピン191の外側に設けられ、下チャック141が下ウェハW L の外周部を真空引きする際に当該下ウェハW L の外周部を支持するように、下ウェハW L の外周部に対して小さい接触面積を備えた支持部192と、を有する。 【選択図】図12
    • 要解决的问题:在将基板接合时适当地保持基板,并适当地进行基板的接合处理。解决方案:接合装置41包括:上部卡盘140,其将真空吸附,吸附和保持上部晶片Won 其下表面; 以及设置在上卡盘140下方的下卡盘141,并且将下晶片真空吸附,吸取和保持在其上表面。 下卡盘141包括:主体部分190,对下晶片W的整个表面进行真空拉伸; 多个销191设置在主体部分190上并与下晶片W的后表面接触; 以及设置在主体部分190上并且在多个销191外部的支撑部分192,并且具有小于下晶片Wso的外周部分的接触面积以支撑下晶片W的外周部分, 吸盘141真空吸取下晶片W的外周部分。
    • 65. 发明公开
    • 접합 장치 및 접합 시스템
    • 连接装置和连接系统
    • KR1020150055551A
    • 2015-05-21
    • KR1020140151864
    • 2014-11-04
    • 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
    • 스기하라,신타로후루야,하지메후루타니,고로이와모토,야스노부
    • H01L21/683B23Q3/08
    • B32B38/1858B32B37/10B32B2038/0056B32B2038/1891B32B2309/10B32B2457/14H01L21/67092H01L21/681H01L21/6875Y10T156/1744
    • 기판끼리접합할때에기판을적절하게보유지지하여, 당해기판끼리의접합처리를적절하게행한다. 접합장치(41)는, 하면에상측웨이퍼(W)를진공화하여흡착보유지지하는상부척(140)과, 상부척(140)의하방에설치되고, 상면에하측웨이퍼(W)를진공화하여흡착보유지지하는하부척(141)을갖는다. 하부척(141)은, 하측웨이퍼(W)의전체면을진공화하는본체부(190)와, 본체부(190) 위에설치되고, 하측웨이퍼(W)의이면에접촉하는복수의핀(191)과, 본체부(190) 위이며복수의핀(191)의외측에설치되고, 하부척(141)이하측웨이퍼(W)의외주부를진공화할때에당해하측웨이퍼(W)의외주부를지지하도록, 하측웨이퍼(W)의외주부에대하여작은접촉면적을구비한지지부(192)를갖는다.
    • 在基板之间接合时,本发明适当地保持基板,并适当地执行基板之间的接合工艺。 接合装置(41)包括:上卡盘(140),用于通过在下表面上抽真空来吸收和保持上晶片(W_U);以及下卡盘(141),安装在上卡盘(140)的下侧, ,通过在上表面上排空吸收并保持下晶片(W_L)。 下卡盘(141)安装在主体部分(190)中,排空下部晶片(W_L)的整个表面,在主体部分(190)上方并与多个与后表面接触的销(191)上方 的下晶片(WL)和主体部分(190)之间以及多个引脚(191)之外。 下卡盘(141)具有相对于下晶片(WL)的外周具有小的接触面积的支撑部分(192),以在下夹盘(141)处支撑下晶片(W_L)的外周部分 )排出下晶片的外周部分(W_L)。