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    • 65. 发明授权
    • Planarized TCO-based anode for OLED devices, and/or methods of making the same
    • 用于OLED器件的平面化的基于TCO的阳极和/或制造其的方法
    • US08497155B1
    • 2013-07-30
    • US13488947
    • 2012-06-05
    • Vijayen S. VeerasamyJens-Peter MullerTukaram K. Hatwar
    • Vijayen S. VeerasamyJens-Peter MullerTukaram K. Hatwar
    • H01L51/52H01L51/56
    • H01L51/5262C03C17/3417H01L51/5206H01L51/56
    • Certain example embodiments relate to organic light emitting diode (OLED)/polymer light emitting diode (PLED) devices, and/or methods of making the same. A first transparent conductive coating (TCC) layer is disposed, directly or indirectly, on a glass substrate. An outermost major surface of the TCC layer is planarized by exposing the outermost major surface thereof to an ion beam. Following said planarizing, the first TCC layer has an arithmetic mean value RMS roughness (Ra) of less than 1.5 nm. A hole transporting layer (HTL) and an electron transporting and emitting layer (ETL) are disposed, directly or indirectly, on the planarized outermost major surface of the first TCC layer. A second TCC layer is disposed, directly or indirectly, on the HTL and the ETL. One or both TCC layers may include ITO. The substrate and/or an optional optical out-coupling layer stack system may be planarized using an ion beam.
    • 某些示例实施例涉及有机发光二极管(OLED)/聚合物发光二极管(PLED)器件,和/或制造其的方法。 第一透明导电涂层(TCC)层直接或间接设置在玻璃基板上。 通过将其最外面的主表面暴露于离子束,使TCC层的最外面的主表面平坦化。 在所述平坦化之后,第一TCC层具有小于1.5nm的算术平均值RMS粗糙度(Ra)。 空穴传输层(HTL)和电子传输和发射层(ETL)直接或间接设置在第一TCC层的平坦化最外主表面上。 第二个TCC层直接或间接设置在HTL和ETL上。 一个或两个TCC层可以包括ITO。 基板和/或可选的光输出耦合层堆叠系统可以使用离子束进行平面化。