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61. 发明授权

US07592118B2 Positive resist composition and pattern forming method using the same 有权
标题翻译：正型抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：US07592118B2
公开(公告)日：2009-09-22
申请号：US12053675
申请日：2008-03-24
申请人： Kazuyoshi Mizutani , Shuji Hirano , Shinichi Sugiyama
发明人： Kazuyoshi Mizutani , Shuji Hirano , Shinichi Sugiyama
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/091 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： A positive resist composition, includes: (B) a resin containing a repeating unit represented by formula (Ia) or (Ib) as defined in the specification, which decomposes under an action of an acid to increase a solubility of the resin (B) in an aqueous alkali solution; and (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, and a pattern forming method uses the composition.
摘要翻译：正型抗蚀剂组合物包括：（B）含有本说明书中定义的由式（Ia）或（Ib）表示的重复单元的树脂，其在酸的作用下分解以增加树脂（B）的溶解度，在碱性水溶液中; 和（A）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，并且图案形成方法使用该组合物。

62. 发明申请

US20080241743A1 POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 有权
标题翻译：正极性组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：US20080241743A1
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：US12053675
申请日：2008-03-24
申请人： Kazuyoshi Mizutani , Shuji Hirano , Shinichi Sugiyama
发明人： Kazuyoshi Mizutani , Shuji Hirano , Shinichi Sugiyama
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/091 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： A positive resist composition, includes: (B) a resin containing a repeating unit represented by formula (Ia) or (Ib) as defined in the specification, which decomposes under an action of an acid to increase a solubility of the resin (B) in an aqueous alkali solution; and (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, and a pattern forming method uses the composition.
摘要翻译：正型抗蚀剂组合物包括：（B）含有本说明书中定义的由式（Ia）或（Ib）表示的重复单元的树脂，其在酸的作用下分解以增加树脂（B）的溶解度，在碱性水溶液中; 和（A）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，并且图案形成方法使用该组合物。

63. 发明授权

US07344821B2 Positive resist composition for use with electron beam, EUV light or X ray, and pattern formation method using the same 有权
标题翻译：用于电子束，EUV光或X射线的正性抗蚀剂组合物，以及使用其的图案形成方法
公开(公告)号：US07344821B2
公开(公告)日：2008-03-18
申请号：US11090864
申请日：2005-03-28
申请人： Kazuyoshi Mizutani
发明人： Kazuyoshi Mizutani
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , Y10S430/115 , Y10S430/122 , Y10S430/167 , Y10S430/168
摘要： A positive resist composition for use with an electron beam, an EUV light or an X ray, the positive resist composition comprising: (A) at least one compound that generates an acid upon treatment with one of an actinic ray and radiation; and (B) a resin that increases a solubility of the resin (B) in an alkaline developer by an action of an acid, wherein the resin (B) comprises a repeating unit having an alicyclic group connected with a fluorine-substituted alcohol residue; and a pattern formation method using the composition.
摘要翻译：一种用于电子束，EUV光或X射线的正性抗蚀剂组合物，所述正性抗蚀剂组合物包含：（A）至少一种在通过光化学射线和辐射之一处理后产生酸的化合物; 和（B）通过酸作用增加树脂（B）在碱性显影剂中的溶解度的树脂，其中树脂（B）包含具有与氟取代的醇残基相连的脂环基的重复单元; 以及使用该组合物的图案形成方法。

64. 发明授权

US07335454B2 Positive resist composition 失效
标题翻译：正抗蚀剂组成
公开(公告)号：US07335454B2
公开(公告)日：2008-02-26
申请号：US10317110
申请日：2002-12-12
申请人： Shinichi Kanna , Kazuyoshi Mizutani , Kunihiko Kodama , Tomoya Sasaki
发明人： Shinichi Kanna , Kazuyoshi Mizutani , Kunihiko Kodama , Tomoya Sasaki
IPC分类号： G03C1/00
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/115
摘要： A positive resist composition comprising (A) a fluorine group-containing resin, which has a structure substituted with a fluorine atom in the main chain and/or side chain of polymer skeleton and a group that is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (B) an acid generator capable of generating an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation, and the acid generator of (B) is a compound selected from a sulfonium salt containing no aromatic ring and a compound having a phenacylsulfonium salt structure.
摘要翻译：一种正型抗蚀剂组合物，其包含（A）在聚合物骨架的主链和/或侧链中具有被氟原子取代的结构的含氟基树脂和通过酸的作用而分解的基团以增加在碱显影剂中的溶解度和（B）能够在光化射线或辐射照射时能产生酸的酸发生剂，（B）的酸产生剂是选自不含芳环的锍盐和具有苯甲酰锍盐结构。

65. 发明授权

US07232640B1 Positive resist composition 有权
标题翻译：正抗蚀剂组成
公开(公告)号：US07232640B1
公开(公告)日：2007-06-19
申请号：US10812092
申请日：2004-03-30
申请人： Kazuyoshi Mizutani , Shoichiro Yasunami
发明人： Kazuyoshi Mizutani , Shoichiro Yasunami
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0392
摘要： A positive resist composition comprising a polymer capable of increasing its solubility in an alkali developer under action of an acid, wherein the resin comprises repeating units containing at least two special types of acetal structures separately, a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and a solvent.
摘要翻译：一种正性抗蚀剂组合物，其包含能够在酸的作用下增加其在碱显影剂中的溶解度的聚合物，其中所述树脂包含分别含有至少两种特殊类型的缩醛结构的重复单元，能够在以下情况下产生酸的化合物：光化射线或辐射，以及溶剂。

66. 发明申请

US20070128547A1 POSITIVE RESIST COMPOSITION 有权
标题翻译：积极抵抗组成
公开(公告)号：US20070128547A1
公开(公告)日：2007-06-07
申请号：US10812092
申请日：2004-03-30
申请人： Kazuyoshi Mizutani , Shoichiro Yasunami
发明人： Kazuyoshi Mizutani , Shoichiro Yasunami
IPC分类号： G03C1/00
CPC分类号： G03F7/0392
摘要： A positive resist composition comprising a polymer capable of increasing its solubility in an alkali developer under action of an acid, wherein the resin comprises repeating units containing at least two special types of acetal structures separately, a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and a solvent.
摘要翻译：一种正性抗蚀剂组合物，其包含能够在酸的作用下增加其在碱显影剂中的溶解度的聚合物，其中所述树脂包含分别含有至少两种特殊类型的缩醛结构的重复单元，能够在以下情况下产生酸的化合物：光化射线或辐射，以及溶剂。

67. 发明授权

US07214467B2 Photosensitive resin composition 有权
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：US07214467B2
公开(公告)日：2007-05-08
申请号：US10455459
申请日：2003-06-06
申请人： Shinichi Kanna , Kazuyoshi Mizutani , Tomoya Sasaki
发明人： Shinichi Kanna , Kazuyoshi Mizutani , Tomoya Sasaki
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/114 , Y10S430/115
摘要： The photosensitive resin composition of the present invention is an excellent photosensitive resin composition: exhibiting significant transmissibility at the use of an exposure light source of 160 nm or less, more specifically F2 excimer laser light, where line edge roughness and development time dependence are small and a problem of footing formation is improved; and comprising a resin which decomposes by an action of acid to increase the solubility in alkali developer, in which the resin contains a specific repeat unit; a compound capable of generating an acid upon irradiation with one of an actinic ray and a radiation, in which the compound includes at least two kinds of compounds selected from the group consisting of specific compounds (B1), (B2), (B3) and (B4).
摘要翻译：本发明的感光性树脂组合物是优异的感光性树脂组合物，其在使用160nm以下的曝光光源，更具体地是2/2准分子激光的情况下显示显着的透射性，其中线边粗糙度和开发时间依赖性小，基础形成问题得到改善; 并且包含通过酸的作用分解以提高在碱性显影剂中的溶解度的树脂，其中树脂含有特定的重复单元; 其中化合物包括选自特定化合物（B1），（B2），（B3）和（B3）中的至少两种化合物，（B4）。

68. 发明授权

US07202015B2 Positive photoresist composition and pattern making method using the same 有权
标题翻译：正光致抗蚀剂组合物和使用其的图案制造方法
公开(公告)号：US07202015B2
公开(公告)日：2007-04-10
申请号：US10921962
申请日：2004-08-20
申请人： Shinichi Kanna , Kazuyoshi Mizutani , Tomoya Sasaki
发明人： Shinichi Kanna , Kazuyoshi Mizutani , Tomoya Sasaki
IPC分类号： G03F7/004 , G03C5/00
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , Y10S430/108
摘要： A positive photoresist composition containing: (A) a resin which contains at least one of a repeating unit represented by the formula (IA) defiend herein and a repeating unit represented by the formula (IB) defined herein, and is decomposed by an action of an acid and shows an increase in a solubility in an alkali developer; and (B) as compounds capable of generating an acid upon irradiation with one of an actinic ray and a radiation, at least two compounds selected from the compounds (B1), (B2), (B3) and (B4) as defiend herein.
摘要翻译：一种正性光致抗蚀剂组合物，其含有：（A）含有本文所述的由式（IA）表示的重复单元和本文定义的式（IB）表示的重复单元中的至少一种的树脂，并且通过酸显示出在碱性显影剂中的溶解度的增加; 和（B）作为能够在用光化学射线和辐射之一照射时产生酸的化合物，至少两种选自化合物（B1），（B2），（B3）和（B4）的化合物，如本文所述。

69. 发明授权

US07163776B2 Positive-working resist composition 有权
标题翻译：正面抗蚀剂组成
公开(公告)号：US07163776B2
公开(公告)日：2007-01-16
申请号：US10417209
申请日：2003-04-17
申请人： Tomoya Sasaki , Kazuyoshi Mizutani , Shinichi Kanna
发明人： Tomoya Sasaki , Kazuyoshi Mizutani , Shinichi Kanna
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/122
摘要： A positive-working resist composition comprising (A1) a resin containing a repeating unit represented by the specific general formula, wherein the resin increases the solubility in an alkali developing solution by the action of an acid.
摘要翻译：一种正性抗蚀剂组合物，其包含（A1）含有由特定通式表示的重复单元的树脂，其中所述树脂通过酸的作用增加了在碱性显影液中的溶解度。

70. 发明申请

US20060210919A1 Photosensitive composition and pattern-forming method using the same 有权
标题翻译：光敏组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：US20060210919A1
公开(公告)日：2006-09-21
申请号：US11373188
申请日：2006-03-13
申请人： Kazuyoshi Mizutani , Yasutomo Kawanishi
发明人： Kazuyoshi Mizutani , Yasutomo Kawanishi
IPC分类号： G03C1/76
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , Y10S430/123
摘要： A photosensitive composition comprises (A) a specific compound, which is excellent in sensitivity, resolution, and defocus latitude (DOF), and a pattern-forming method using the photosensitive composition is provided.
摘要翻译：光敏组合物包含（A）灵敏度，分辨率和散焦纬度（DOF）优异的特定化合物，以及使用该感光性组合物的图案形成方法。

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