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    • 62. 发明申请
    • 화학기상증착장치 및 화학기상증착장치의 온도제어방법
    • 化学蒸气沉积装置和化学蒸气沉积装置的温度控制方法
    • WO2011052832A1
    • 2011-05-05
    • PCT/KR2009/006389
    • 2009-11-02
    • 엘아이지에이디피 주식회사홍성재
    • 홍성재
    • H01L21/205
    • H01L21/67248C23C16/46C23C16/52H01L21/68792
    • 별도의 복잡하거나 고가의 장비 없이도 서셉터 표면과 웨이퍼 표면의 온도차이를 파악할 수 있는 방법이 요구된다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 화학기상증착장치는 챔버와, 챔버 내측에 회전가능하도록 위치하며 상면에 웨이퍼가 적재되는 서셉터와, 챔버 내측에 마련되어 웨이퍼를 향하여 가스를 분사하는 가스공급부와, 서셉터 내측에 마련되어 웨이퍼를 가열하는 히터와, 챔버에 마련되어 서셉터의 온도를 측정하는 온도센서와, 서셉터와 일체로 회전하는 위치에 마련된 회전인지표식과, 서셉터의 회전상태를 판단할 수 있도록 챔버에 마련되어 회전인지표식을 탐지하는 회전인지센서 및 회전인지센서와 온도센서를 이용하여 서셉터 상면의 온도분포를 산출하고, 온도분포를 기준으로 히터를 제어하는 제어부를 포함한다.
    • 需要能够感知基座表面和晶片表面之间的温度差异的方法,即使没有特殊的复杂或高价格的设备。 为了实现这一目的,本发明提供一种化学气相沉积装置,其包括:室; 位于所述室的内侧以允许其中旋转的感受体,其中晶片被堆叠在上侧; 气体供给器,其设置在所述室的内侧,并向所述晶片喷射气体; 加热器,其设置在所述基座的内侧,并加热所述晶片; 温度传感器,其位于所述室中,并测量所述基座的温度; 旋转识别标记,其设置在所述标记与所述基座整体​​旋转的位置处; 旋转识别传感器,其位于所述室中,以确定所述基座的旋转状态,并且检测所述旋转识别标记; 以及控制器,其通过使用旋转识别传感器和温度传感器来计算基座的上侧的温度分布,并且基于温度分布来控制加热器。