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51. 外观设计

KR3006514740000S 有权
公开(公告)号：KR3006514740000S
公开(公告)日：2012-07-10
申请号：KR3020110001689
申请日：2011-01-14
申请人： 주식회사 테라세미콘
设计人： 강호영 , 박경완

52. 实用新型

KR200459210Y1 배치식 기판처리 장치의 챔버 有权
标题翻译：分批式底物处理装置
公开(公告)号：KR200459210Y1
公开(公告)日：2012-03-22
申请号：KR2020090014116
申请日：2009-10-29
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영 , 김철호
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324
摘要： 복수개의 기판을 동시에 기판처리한 후 챔버의 온도를 전체적으로 균일하게 하여 챔버의 열변형을 방지할 수 있는 배치식 기판처리 장치의 챔버가 개시된다. 본 고안에 따른 배치식 기판처리 장치의 챔버는, 배치형 기판처리 장치에서 복수개의 기판에 대하여 기판처리 공간을 제공하는 배치형 기판처리 장치의 챔버(100)로서, 내판(110)과 외판(120); 내판(110) 및 외판(120) 사이에 배치되는 단열부(200); 및 단열부(200)와 외판(120)에 각각 연결되어 배치되는 제1 및 제2 냉각부(300, 400)를 포함하고, 제1 및 제2 냉각부(300, 400)에 의하여 챔버(100)를 냉각하여 챔버의 열 손상을 방지하는 것을 특징으로 한다.
배치식 기판처리 장치, 기판, 단열, 냉각

53. 发明公开

KR1020120019645A 대형 기판용 배치식 열처리 장치 无效
标题翻译：批量式热处理装置大型基板
公开(公告)号：KR1020120019645A
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：KR1020100082969
申请日：2010-08-26
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영 , 송종호
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/324 , H01L21/687
摘要： PURPOSE: A batch type thermal processing device for a large substrate is provided to remove a back scratch phenomenon of a substrate with regard to a holder by controlling the location arrangement and the number of substrate support pins installed on the holder. CONSTITUTION: A chamber(100) provides a thermal process space of a substrate. A heater(110) is installed in the chamber. A boat(120) is installed in the chamber. A holder is detachably installed in the boat. A plurality of substrate support stands(131) are formed on the holder and support the substrate.
摘要翻译：目的：提供一种用于大型基板的批式热处理装置，通过控制安装在支架上的基板支撑销的位置布置和数量来消除基板相对于支架的背面刮痕现象。构成：室（100）提供衬底的热处理空间。加热器（110）安装在腔室中。船舱（120）安装在舱室内。支架可拆卸地安装在船上。多个基板支撑架（131）形成在支架上并支撑基板。

54. 发明授权

KR101117668B1 증착가스 공급장치 有权
公开(公告)号：KR101117668B1
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：KR1020090093425
申请日：2009-09-30
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 박경완 , 강호영 , 김철호
IPC分类号： H01L21/205
摘要： 반도체소자나평판디스플레이제조를위한박막증착시매 증착공정마다균일한양의증착물질을증착물질증발부로공급할수 있고증착공정수행후 잔류하는증착물질을외부로배출할수 있는증착가스공급장치가개시된다. 본발명에따른증착가스공급장치는, 증착물질이저장되는증착물질저장부(200), 증착물질에열을인가하여증착가스를발생시키는증착물질증발부(300) 및운반가스를공급하는운반가스공급부(600)를포함하는증착가스공급장치(100)로서, 증착물질저장부(200)와증착물질증발부(300) 사이에배치되는증착물질공급부(500); 및증착물질증발부(300)에연결되어배치되는증착물질배출부(400)를더 포함하고, 증착물질공급부(500)는매 증착공정마다증착물질증발부(300)로일정양의증착물질을공급하며, 증착물질배출부(400)는매 증착공정마다증착물질증발부에잔류하는증착물질을배출하는것을특징으로한다.

55. 发明授权

KR101117662B1 증착가스 공급장치 有权
标题翻译：供应沉积气体的设备
公开(公告)号：KR101117662B1
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：KR1020090079432
申请日：2009-08-26
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이병일 , 강호영 , 김철호 , 송종호
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
摘要： 반도체소자나평판디스플레이제조를위한박막증착시매 증착공정마다균일한양의증착물질을증착물질증발부로공급되도록하는증착가스공급장치가개시된다. 본발명에따른증착가스공급장치는, 증착물질이저장되는증착물질저장부(200), 증착물질을증착가스화시키는증착물질증발부(300) 및운반가스를공급하는운반가스공급부(400)를포함하는증착가스공급장치로서, 증착물질저장부(200)와증착물질증발부(300) 사이에설치되는증착물질공급부(500)를더 포함하고, 증착물질공급부(500)는매 증착공정마다증착물질증발부(300)로일정양의증착물질을공급하는것을특징으로한다.

56. 发明公开

KR1020110121407A 기판 처리 장치 有权
标题翻译：用于处理基板的配件
公开(公告)号：KR1020110121407A
公开(公告)日：2011-11-07
申请号：KR1020100040990
申请日：2010-04-30
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/324 , H01L21/67379 , H01L21/67742
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to improve the productivity of a substrate processing process by simultaneously processing a plurality of substrates. CONSTITUTION: A substrate cassette(100) keeps a substrate. A preheated section(200) preheat a substrate to a predetermined temperature. The substrate is preheated in the preheated section while being separated from a substrate holder. A substrate transfer unit(300) transfers the substrate. A substrate processing unit(400) processes the substrate at a higher temperature than a preheated temperature by heat. A cooling unit(500) cools the substrate which is processed at the substrate processing unit.
摘要翻译：目的：提供一种基板处理装置，通过同时处理多个基板来提高基板处理工艺的生产率。构成：衬底盒（100）保持衬底。预热段（200）将衬底预热至预定温度。衬底在预热部分中被预热，同时与衬底保持器分离。衬底转移单元（300）传送衬底。基板处理单元（400）通过加热在比预热温度高的温度下处理基板。冷却单元（500）冷却在基板处理单元处理的基板。

57. 发明公开

KR1020110060646A 다결정 실리콘 형성 장치 및 방법 有权
标题翻译：用于制造聚晶硅的装置及其相关方法
公开(公告)号：KR1020110060646A
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：KR1020090117289
申请日：2009-11-30
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영 , 허관선 , 박경완
IPC分类号： C30B33/02
摘要： PURPOSE: A device and method for forming polycrystalline silicon are provided to improve productivity by shorting the time to thermally process and crystallize amorphous silicon on a substrate. CONSTITUTION: A preheating unit(200) pre-heats a substrate to a preset temperature. A thermal processing unit(300) forms polycrystalline silicon by thermally processing and crystallizing amorphous silicon that is pre-heated in the preheating unit. A cooling unit(400) cools the polycrystalline silicon formed on the thermal process unit. A first transfer unit(500) includes a robot arm which moves up, down, left and right. A second transfer unit(600) transfers the substrate between the preheating unit and the cooling unit.
摘要翻译：目的：提供一种用于形成多晶硅的器件和方法，以通过短时间热处理和结晶衬底上的非晶硅来提高生产率。构成：预热单元（200）将基底预热到预设温度。热处理单元（300）通过热处理和结晶在预热单元中被预热的非晶硅来形成多晶硅。冷却单元（400）冷却在热处理单元上形成的多晶硅。第一传送单元（500）包括上，下，左，右移动的机器人臂。第二传送单元（600）在预热单元和冷却单元之间传送基板。

58. 发明公开

KR1020110021564A 증착가스 공급장치 有权
标题翻译：提供沉积气体的装置
公开(公告)号：KR1020110021564A
公开(公告)日：2011-03-04
申请号：KR1020090079432
申请日：2009-08-26
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이병일 , 강호영 , 김철호 , 송종호
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
CPC分类号： C23C16/4481 , C23C16/45561
摘要： PURPOSE: A deposition gas supplying apparatus is provided to keep the pressure of the deposition gas constant and improve the reproductivity and the yield rate of the thin film by uniformly supplying the deposition material. CONSTITUTION: A deposition material storage(200) stores the deposition material. A deposition material evaporator(300) evaporates the deposition material as the deposition gas. A carrier gas supplying unit(400) supplies the carrier gas. A deposition material supplying unit(500) is installed between the deposition material storage and the deposition material evaporator.
摘要翻译：目的：提供沉积气体供给装置，以通过均匀地供应沉积材料来保持沉积气体的压力恒定并提高薄膜的再现性和屈服率。构成：沉积材料储存（200）存储沉积材料。沉积材料蒸发器（300）蒸发沉积材料作为沉积气体。载气供给单元（400）供给载气。沉积材料供应单元（500）安装在沉积材料储存器和沉积材料蒸发器之间。

59. 发明授权

KR101016048B1 배치식 열처리 장치 有权
标题翻译：批量式热处理系统
公开(公告)号：KR101016048B1
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：KR1020080069329
申请日：2008-07-16
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 허관선 , 강호영
IPC分类号： H01L21/324
摘要： 복수개의 기판을 동시에 열처리할 수 있으며 각 기판은 상기 각 기판에 대응하는 복수개의 히터에 의해 가열되는 배치식 열처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 배치식 열처리 장치는 복수개의 기판(10)에 대하여 열처리 공간을 제공하는 챔버(100); 복수개의 기판(10)이 로딩되어 지지되는 보트(120); 및 기판(10)의 적층 방향을 따라 일정 간격을 가지면서 배치되는 복수개의 메인 히터 유닛(200) - 메인 히터 유닛(200)은 복수개의 단위 메인 히터(210)를 포함함 - 을 포함하고, 기판(10)은 복수개의 메인 히터 유닛(200) 사이에 배치되는 것을 특징으로 한다.
배치식 열처리 장치
摘要翻译：本发明提供一种能够同时对多个基板进行加热处理的间歇式热处理装置，其中，各基板通过与各基板对应的多个加热器而被加热。根据本发明的分批式热处理设备包括：腔室100，用于为多个基板10提供热处理空间; 其中装载并支撑多个基板10的舟皿120; 以及沿基板（10）的堆叠方向以规则间隔布置的多个主加热器单元（200），其中主加热器单元（200）包括多个单元主加热器（10）布置在多个主加热器单元（200）之间。

60. 发明公开

KR1020110009358A 보트 失效
标题翻译：船
公开(公告)号：KR1020110009358A
公开(公告)日：2011-01-28
申请号：KR1020090066721
申请日：2009-07-22
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영 , 김철호
IPC分类号： B65G49/06 , B65D85/48 , G02F1/13
摘要： PURPOSE: A boat for substrate treatment is provided to ensure uniform cooling of a substrate by supplying cooling gas through a support rod supporting the substrate after treatment. CONSTITUTION: A boat in which a plurality of substrates are placed is loaded in a chamber. The boat comprises a first main body and a second main body which include lower frames(210a,210b), upper frames(220a,220b), a plurality of vertical frames(230a,230b), and support rods. The vertical frames are connected to the lower frames and the upper frames. The support rods support the substrates. A gas lines is formed in the vertical frames or/and the support rods in order to supply cooling gas to be sprayed onto the substrates.
摘要翻译：目的：提供用于基板处理的船，以通过在处理后通过支撑基板的支撑杆供应冷却气体来确保基板的均匀冷却。构成：将放置有多个基板的船装载到室内。船包括第一主体和第二主体，其包括下框架（210a，210b），上框架（220a，220b），多个垂直框架（230a，230b）和支撑杆。垂直框架连接到下框架和上框架。支撑杆支撑基板。在垂直框架或/和支撑杆中形成气体管线，以供应待喷射到基板上的冷却气体。

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