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51. 发明专利

TW200640784A 改良之一氧化碳製造方法 IMPROVED CARBON MONOXIDE PRODUCTION PROCESS 审中-公开
简体标题：改良之一氧化碳制造方法 IMPROVED CARBON MONOXIDE PRODUCTION PROCESS
公开(公告)号：TW200640784A
公开(公告)日：2006-12-01
申请号：TW094143247
申请日：2005-12-07
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：葛拉梅約翰當恩 DUNN, GRAEME JOHN
IPC分类号： C01B , B01D
CPC分类号： C01B3/501 , C01B32/40 , C01B2203/0283 , C01B2203/0405 , C01B2203/047 , Y02C10/10
摘要：本發明提供製造一氧化碳的方法。將氫，一氧化碳和二氧化碳的進料氣流導入一將進料氣流分成兩個氣流的薄膜單元中。包含一氧化碳的氣流被導入第二薄膜單元作進一步的純化，包含二氧化碳和氫的氣流則被導入一逆轉換反應器中以製造更多的一氧化碳。於第三薄膜單元中純化從該逆轉換反應器回收的一氧化碳，爾後將此一氧化碳導回至該第一薄膜單元，作進一步的純化，並且回收成為額外的一氧化碳產物。
简体摘要：本发明提供制造一氧化碳的方法。将氢，一氧化碳和二氧化碳的进料气流导入一将进料气流分成两个气流的薄膜单元中。包含一氧化碳的气流被导入第二薄膜单元作进一步的纯化，包含二氧化碳和氢的气流则被导入一逆转换反应器中以制造更多的一氧化碳。于第三薄膜单元中纯化从该逆转换反应器回收的一氧化碳，尔后将此一氧化碳导回至该第一薄膜单元，作进一步的纯化，并且回收成为额外的一氧化碳产物。

52. 发明专利

TW200622038A 由鋁基材中選擇性移除金屬之溶液 SOLUTION FOR THE SELECTIVE REMOVAL OF METAL FROM ALUMINUM SUBSTRATES 审中-公开
简体标题：由铝基材中选择性移除金属之溶液 SOLUTION FOR THE SELECTIVE REMOVAL OF METAL FROM ALUMINUM SUBSTRATES
公开(公告)号：TW200622038A
公开(公告)日：2006-07-01
申请号：TW093141577
申请日：2004-12-31
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：傑瑞米W 艾波頓 EPTON, JEREMY W. , 約翰迪姆 DEEM, JOHN
IPC分类号： C23G
摘要：本發明係關於一種自基材如含鋁基材選擇性移除金屬如Ta或TaN之溶液。此溶液包含酸如HF或緩衝HF、包含氟離子如氟化銨(NH4F)之成分、乙二醇及水。亦揭示一種使用此溶液自基材選擇性移除金屬之方法。
简体摘要：本发明系关于一种自基材如含铝基材选择性移除金属如Ta或TaN之溶液。此溶液包含酸如HF或缓冲HF、包含氟离子如氟化铵(NH4F)之成分、乙二醇及水。亦揭示一种使用此溶液自基材选择性移除金属之方法。

53. 发明专利

TW200602260A 催化劑組態及合成氣體之製備方法 CATALYST CONFIGURATION AND METHODS FOR SYNGAS PRODUCTION 审中-公开
简体标题：催化剂组态及合成气体之制备方法 CATALYST CONFIGURATION AND METHODS FOR SYNGAS PRODUCTION
公开(公告)号：TW200602260A
公开(公告)日：2006-01-16
申请号：TW094102907
申请日：2005-01-31
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：江偉彬 JIANG, WEIBIN , 亞道拉F 歐裘 OJO, ADEOLA F. , 蘇德哈卡R 傑爾 JALE, SUDHAKAR R. , 莎緹須S 譚翰卡 TAMHANKAR, SATISH S.
IPC分类号： C01B
CPC分类号： B01J21/066 , B01J23/002 , B01J23/464 , B01J23/63 , B01J23/83 , B01J23/894 , B01J23/8993 , B01J35/0006 , B01J35/04 , B01J37/0242 , B01J2523/00 , C01B3/386 , C01B3/40 , C01B2203/0261 , C01B2203/1017 , C01B2203/1023 , C01B2203/1047 , C01B2203/1082 , Y02C20/20 , Y02P20/142 , Y02P20/52 , B01J2523/31 , B01J2523/822
摘要：本發明揭示一種用於將烴類催化性部分氧化以生成氫氣及一氧化碳之改良方法。該方法亦利用一含有至少兩個連續排列層之新穎催化劑組態，該等層含有一種由一載體支撐的貴金屬或過渡金屬催化劑。或者該方法僅採用第一層分散在一惰性載體(carrier support)上之催化活性金屬以部分地氧化烴類
简体摘要：本发明揭示一种用于将烃类催化性部分氧化以生成氢气及一氧化碳之改良方法。该方法亦利用一含有至少两个连续排列层之新颖催化剂组态，该等层含有一种由一载体支撑的贵金属或过渡金属催化剂。或者该方法仅采用第一层分散在一惰性载体(carrier support)上之催化活性金属以部分地氧化烃类

54. 发明专利

TW200538641A 相結合之真空泵與負荷固定組 COMBINED VACUUM PUMP LOAD-LOCK ASSEMBLY 审中-公开
简体标题：相结合之真空泵与负荷固定组 COMBINED VACUUM PUMP LOAD-LOCK ASSEMBLY
公开(公告)号：TW200538641A
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：TW094111200
申请日：2005-04-08
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：葛拉梅杭特利 HUNTLEY, GRAEME , 尼爾潔佛瑞貝列尼 BELLENIE, NEIL GEOFFREY
IPC分类号： F04C
CPC分类号： F04D23/008 , F04D17/168 , F04D19/044 , F04D29/601
摘要：一種負荷固定件與乾式真空泵總成，其包括一具有一負荷固定件殼體的負荷固定件，該負荷固定件殼體包括一匹配系統，該匹配系統具有一突緣狀汽缸及一相對於該突緣狀汽缸而呈同心式定位之汽缸；一乾式真空泵，包括一軸、一轉子、自該轉子朝外延伸之一第一同心式汽缸及一第二同心式汽缸，且其一體地連接於該匹配系統，該第一及第二同心式汽缸、該突緣狀汽缸、及該相對於該突緣而呈同心式定位之汽缸係相關於該軸而沿軸向配置；及一分子拖曳式壓縮段，其係由複數個突緣構成，該等突緣具有複數個選擇性提供於該第一及第二同心式汽缸、該突緣狀汽缸、及該相對於該突緣而呈同心式定位之汽缸上之螺旋形結構。該第一及第二同心式汽缸係相對於該突緣狀汽缸及該相對於該突緣而呈同心式定位之汽缸而旋轉。
简体摘要：一种负荷固定件与干式真空泵总成，其包括一具有一负荷固定件壳体的负荷固定件，该负荷固定件壳体包括一匹配系统，该匹配系统具有一突缘状汽缸及一相对于该突缘状汽缸而呈同心式定位之汽缸；一干式真空泵，包括一轴、一转子、自该转子朝外延伸之一第一同心式汽缸及一第二同心式汽缸，且其一体地连接于该匹配系统，该第一及第二同心式汽缸、该突缘状汽缸、及该相对于该突缘而呈同心式定位之汽缸系相关于该轴而沿轴向配置；及一分子拖曳式压缩段，其系由复数个突缘构成，该等突缘具有复数个选择性提供于该第一及第二同心式汽缸、该突缘状汽缸、及该相对于该突缘而呈同心式定位之汽缸上之螺旋形结构。该第一及第二同心式汽缸系相对于该突缘状汽缸及该相对于该突缘而呈同心式定位之汽缸而旋转。

55. 发明专利

TW200535276A 於沉積製程中維持副產物揮發性之方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR MAINTAINING BY-PRODUCT VOLATILITY IN DEPOSITION PROCESS 审中-公开
简体标题：于沉积制程中维持副产物挥发性之方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR MAINTAINING BY-PRODUCT VOLATILITY IN DEPOSITION PROCESS
公开(公告)号：TW200535276A
公开(公告)日：2005-11-01
申请号：TW093141584
申请日：2004-12-31
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：克里斯多夫M 拜利 BAILEY, CHRISTOPHER M. , 理察A 侯枸 HOGLE, RICHARD A. , 西門普敦 PURDON, SIMON , 雷瓦蒂普拉德翰-凱斯茂卡 PRADHAN-KASMALKAR, REVATI , 亞隆蘇利文 SULLIVAN, AARON , 榭馬 MA, CE , 王清民 WANG, QING MIN
IPC分类号： C23C , H01L
摘要：本發明係關於一種用於將一含氟流體流引入一沈積製程，以維持製程副產物揮發性並減少或消除副產物之形成及／或干擾之方法及裝置。
简体摘要：本发明系关于一种用于将一含氟流体流引入一沉积制程，以维持制程副产物挥发性并减少或消除副产物之形成及／或干扰之方法及设备。

56. 发明专利

TW200531931A 工業廢流之處理方法 TREATMENT PROCESS FOR INDUSTRIAL WASTE STREAM 审中-公开
简体标题：工业废流之处理方法 TREATMENT PROCESS FOR INDUSTRIAL WASTE STREAM
公开(公告)号：TW200531931A
公开(公告)日：2005-10-01
申请号：TW093141581
申请日：2004-12-31
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：詹姆斯羅柏特柯拉克 CLARK, JAMES ROBERT
IPC分类号： C02F
CPC分类号： C02F1/725 , C02F1/26 , C02F2103/16 , C02F2103/346 , C23G1/36 , Y10S210/908
摘要：一種處理包含硼烷化合物之工業廢流之方法，其包括用具有可將硼烷化合物氧化成硼酸之載有氧化觸媒之樹脂接觸工業廢流。
简体摘要：一种处理包含硼烷化合物之工业废流之方法，其包括用具有可将硼烷化合物氧化成硼酸之载有氧化触媒之树脂接触工业废流。

57. 发明专利

TW200523349A 濃縮氨之方法及裝置 PROCESS AND APPARATUS FOR ENRICHING AMMONIA 审中-公开
简体标题：浓缩氨之方法及设备 PROCESS AND APPARATUS FOR ENRICHING AMMONIA
公开(公告)号：TW200523349A
公开(公告)日：2005-07-16
申请号：TW093124425
申请日：2004-08-13
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：紀文章 JI, WENCHANG , 亞瑟I 雪利 SHIRLEY, ARTHUR I. , 皮歐特J 沙德考斯基 SADKOWSKI, PIOTR J.
IPC分类号： C10G
CPC分类号： B01D61/362 , B01D61/364 , C01C1/024
摘要：本發明係一種濃縮於其中具有水分及／或金屬雜質及／或氣體雜質之粗氨流之方法。該粗氨流係冷凝以生成粗液體氨流。以該粗液體氨流接觸蒸餾膜或全蒸發膜(pervaporation membrane)以生成經濃縮之氨蒸氣流，其係如滲透物(permeate)移出。當該粗氨流自製造器具產生時，該經濃縮之氨蒸氣流可係再循環至該製造器具。本發明亦係一種濃縮粗氨流之裝置。
简体摘要：本发明系一种浓缩于其中具有水分及／或金属杂质及／或气体杂质之粗氨流之方法。该粗氨流系冷凝以生成粗液体氨流。以该粗液体氨流接触蒸馏膜或全蒸发膜(pervaporation membrane)以生成经浓缩之氨蒸气流，其系如渗透物(permeate)移出。当该粗氨流自制造器具产生时，该经浓缩之氨蒸气流可系再循环至该制造器具。本发明亦系一种浓缩粗氨流之设备。

58. 发明专利

TWI232895B 物體鍍覆方法及系統 OBJECT PLATING METHOD AND SYSTEM 失效
简体标题：物体镀覆方法及系统 OBJECT PLATING METHOD AND SYSTEM
公开(公告)号：TWI232895B
公开(公告)日：2005-05-21
申请号：TW090125924
申请日：2001-10-19
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：奧莉維J. 布萊齊爾 OLIVIER J. BLACHIER , 法蘭克耶森 FRANK JANSEN , 柯林約翰迪克森 COLIN JOHN DICKINSON , 彼得M. 波斯奈克 PETER M. POZNIAK
IPC分类号： C25D
CPC分类号： C25D7/12 , C23C18/1617 , C25D17/001 , C25D21/12 , C25D21/14
摘要：揭露一種鍍覆物體方法及系統。與物件鍍覆相結合之至少一面向係監控以決定在鍍覆期間產生之至少一副產物量和/或至少一鍍覆成分量之減少。根據該監控之面向，調整物質加入鍍覆槽之流率和/或使用過之鍍覆物質從鍍覆槽排放之流率。純化該使用過之鍍覆物質以移除至少一些副產物且之後該純化過之鍍覆物質在傳回鍍覆槽之前與至少一成分結合以重複使用至少一些鍍覆物質。在以銅鍍覆半導體晶圓期間可以使用本方法及系統。
简体摘要：揭露一种镀覆物体方法及系统。与对象镀覆相结合之至少一面向系监控以决定在镀覆期间产生之至少一副产物量和/或至少一镀复成分量之减少。根据该监控之面向，调整物质加入镀覆槽之流率和/或使用过之镀覆物质从镀覆槽排放之流率。纯化该使用过之镀覆物质以移除至少一些副产物且之后该纯化过之镀覆物质在传回镀覆槽之前与至少一成分结合以重复使用至少一些镀覆物质。在以铜镀覆半导体晶圆期间可以使用本方法及系统。

59. 发明专利

TW200419665A 對於半導體處理室之氟之次大氣壓供給 SUB-ATMOSPHERIC SUPPLY OF FLUORINE TO SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER 审中-公开
简体标题：对于半导体处理室之氟之次大气压供给 SUB-ATMOSPHERIC SUPPLY OF FLUORINE TO SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER
公开(公告)号：TW200419665A
公开(公告)日：2004-10-01
申请号：TW092128866
申请日：2003-10-17
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：理查A. 霍格 RICHARD A. HOGLE , 葛蘭A. 麥克法蘭 GRAHAM A. MCFARLANE , 葛蘭豪德森 GRAHAM HODGSON , 彼得哈洛德巴克利 PETER HAROLD BUCKLEY
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C23C16/45593 , C23C16/4402 , C23C16/4405
摘要：本發明是關於製程裝置的變通性操作之一種方法及系統，特別是半導體處理室潔淨裝置，從一真空至剛好低於一絕對大氣壓的任何壓力範圍。本發明之系統提供一儲存容器，能夠將氣體儲存於次大氣壓下，並提供一真空幫浦。利用一真空幫浦，使該容器所儲存一適當份量的氣體，不需要加壓至大氣壓力之上。所以該容器的全部容量可以提供至該製程裝置，因為該真空幫浦以降至約1托爾的壓力從該容器抽取內容物。此外，該氣體可以在一穩定的供給壓力下提供，同時提供一安全的氣體儲存容器，因為所供給的氣體從未儲存於一絕對大氣壓之上。因此即便該容器有任何的裂縫，也可使該容器的內容物保留在該容器內，並以周圍空氣滲入該容器。
简体摘要：本发明是关于制程设备的变通性操作之一种方法及系统，特别是半导体处理室洁净设备，从一真空至刚好低于一绝对大气压的任何压力范围。本发明之系统提供一存储容器，能够将气体存储于次大气压下，并提供一真空帮浦。利用一真空帮浦，使该容器所存储一适当份量的气体，不需要加压至大气压力之上。所以该容器的全部容量可以提供至该制程设备，因为该真空帮浦以降至约1托尔的压力从该容器抽取内容物。此外，该气体可以在一稳定的供给压力下提供，同时提供一安全的气体存储容器，因为所供给的气体从未存储于一绝对大气压之上。因此即便该容器有任何的裂缝，也可使该容器的内容物保留在该容器内，并以周围空气渗入该容器。

60. 发明专利

TW200416069A 形成含(CFX)N吸附組合物之方法,用於進行該方法之中間物材料,以及使用該組合物由氣流中選擇分離含氟氣體之方法 METHOD OF FORMING A (CFX)N CONTAINING ABSORBENT COMPOSITION, INTERMEDIATE MATERIALS EMPLOYED IN CONDUCTING THE METHOD AND METHOD OF USING THE COMPOSITION FOR PREFERENTIAL SEPARATION OF A FLUORINE-CONTAINING GAS FROM A GAS STREAM CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：形成含(CFX)N吸附组合物之方法,用于进行该方法之中间物材料,以及使用该组合物由气流中选择分离含氟气体之方法 METHOD OF FORMING A (CFX)N CONTAINING ABSORBENT COMPOSITION, INTERMEDIATE MATERIALS EMPLOYED IN CONDUCTING THE METHOD AND METHOD OF USING THE COMPOSITION FOR PREFERENTIAL SEPARATION OF A FLUORINE-CONTAINING GAS FROM A GAS STREAM CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW200416069A
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：TW092130295
申请日：2003-10-30
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：馬汀彪洛 MARTIN BUELOW , 多納德P. 塞區爾, 二世 DONALD P. SATCHELL, JR. , 愛德華F. 艾塞爾 EDWARD F. EZELL , 詹-湯姆斯庫諾特 JAN-THOMAS KUEHNERT , 伍爾夫剛蕭普斯 WOLFGANG SCHOEPS
IPC分类号： B01J
CPC分类号： B01J20/28042 , B01J20/20 , B01J20/30
摘要：於固體實體之形成之前經由組合微細粒子(CFx)n開始材料與非–經氟化之含碳材料而形成含(CFx)n吸附劑組合物之方法，及進行該方法所使用之中間物材料。
简体摘要：于固体实体之形成之前经由组合微细粒子(CFx)n开始材料与非–经氟化之含碳材料而形成含(CFx)n吸附剂组合物之方法，及进行该方法所使用之中间物材料。

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