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41. 发明专利

TW200419665A 對於半導體處理室之氟之次大氣壓供給 SUB-ATMOSPHERIC SUPPLY OF FLUORINE TO SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER 审中-公开
简体标题：对于半导体处理室之氟之次大气压供给 SUB-ATMOSPHERIC SUPPLY OF FLUORINE TO SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER
公开(公告)号：TW200419665A
公开(公告)日：2004-10-01
申请号：TW092128866
申请日：2003-10-17
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：理查A. 霍格 RICHARD A. HOGLE , 葛蘭A. 麥克法蘭 GRAHAM A. MCFARLANE , 葛蘭豪德森 GRAHAM HODGSON , 彼得哈洛德巴克利 PETER HAROLD BUCKLEY
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C23C16/45593 , C23C16/4402 , C23C16/4405
摘要：本發明是關於製程裝置的變通性操作之一種方法及系統，特別是半導體處理室潔淨裝置，從一真空至剛好低於一絕對大氣壓的任何壓力範圍。本發明之系統提供一儲存容器，能夠將氣體儲存於次大氣壓下，並提供一真空幫浦。利用一真空幫浦，使該容器所儲存一適當份量的氣體，不需要加壓至大氣壓力之上。所以該容器的全部容量可以提供至該製程裝置，因為該真空幫浦以降至約1托爾的壓力從該容器抽取內容物。此外，該氣體可以在一穩定的供給壓力下提供，同時提供一安全的氣體儲存容器，因為所供給的氣體從未儲存於一絕對大氣壓之上。因此即便該容器有任何的裂縫，也可使該容器的內容物保留在該容器內，並以周圍空氣滲入該容器。
简体摘要：本发明是关于制程设备的变通性操作之一种方法及系统，特别是半导体处理室洁净设备，从一真空至刚好低于一绝对大气压的任何压力范围。本发明之系统提供一存储容器，能够将气体存储于次大气压下，并提供一真空帮浦。利用一真空帮浦，使该容器所存储一适当份量的气体，不需要加压至大气压力之上。所以该容器的全部容量可以提供至该制程设备，因为该真空帮浦以降至约1托尔的压力从该容器抽取内容物。此外，该气体可以在一稳定的供给压力下提供，同时提供一安全的气体存储容器，因为所供给的气体从未存储于一绝对大气压之上。因此即便该容器有任何的裂缝，也可使该容器的内容物保留在该容器内，并以周围空气渗入该容器。

42. 发明专利

TW200416069A 形成含(CFX)N吸附組合物之方法,用於進行該方法之中間物材料,以及使用該組合物由氣流中選擇分離含氟氣體之方法 METHOD OF FORMING A (CFX)N CONTAINING ABSORBENT COMPOSITION, INTERMEDIATE MATERIALS EMPLOYED IN CONDUCTING THE METHOD AND METHOD OF USING THE COMPOSITION FOR PREFERENTIAL SEPARATION OF A FLUORINE-CONTAINING GAS FROM A GAS STREAM CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：形成含(CFX)N吸附组合物之方法,用于进行该方法之中间物材料,以及使用该组合物由气流中选择分离含氟气体之方法 METHOD OF FORMING A (CFX)N CONTAINING ABSORBENT COMPOSITION, INTERMEDIATE MATERIALS EMPLOYED IN CONDUCTING THE METHOD AND METHOD OF USING THE COMPOSITION FOR PREFERENTIAL SEPARATION OF A FLUORINE-CONTAINING GAS FROM A GAS STREAM CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW200416069A
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：TW092130295
申请日：2003-10-30
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：馬汀彪洛 MARTIN BUELOW , 多納德P. 塞區爾, 二世 DONALD P. SATCHELL, JR. , 愛德華F. 艾塞爾 EDWARD F. EZELL , 詹-湯姆斯庫諾特 JAN-THOMAS KUEHNERT , 伍爾夫剛蕭普斯 WOLFGANG SCHOEPS
IPC分类号： B01J
CPC分类号： B01J20/28042 , B01J20/20 , B01J20/30
摘要：於固體實體之形成之前經由組合微細粒子(CFx)n開始材料與非–經氟化之含碳材料而形成含(CFx)n吸附劑組合物之方法，及進行該方法所使用之中間物材料。
简体摘要：于固体实体之形成之前经由组合微细粒子(CFx)n开始材料与非–经氟化之含碳材料而形成含(CFx)n吸附剂组合物之方法，及进行该方法所使用之中间物材料。

43. 发明专利

TW200414986A 大氣壓機械臂處理設備 ATMOSPHERIC ROBOT HANDLING EQUIPMENT 审中-公开
简体标题：大气压机械臂处理设备 ATMOSPHERIC ROBOT HANDLING EQUIPMENT
公开(公告)号：TW200414986A
公开(公告)日：2004-08-16
申请号：TW092131990
申请日：2003-11-14
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：柯林約翰迪恩森 COLIN JOHN DICKINSON
IPC分类号： B25J , H01L
CPC分类号： H01L21/67778 , H01L21/67201
摘要：一種半導體製造工具，其具有兩個加載互鎖室，一個用於使半導體晶圓進入該工具以進行加工，且另一個用於使晶圓在被加工後離開該工具。該等加載互鎖室為新一代加載互鎖室，與先前技術之加載互鎖室相比，其能在更短時間內被排空或使其通風，且可允許高生產量。該工具聯合了三個大氣壓晶圓處理機械臂，以獲得由該等加載互鎖室所允許之高生產量。一機械臂將待加工之晶圓自供應源轉移至一晶圓預對準器，另一機械臂將晶圓自該晶圓預對準器轉移至該用於使晶圓進入該工具之加載互鎖室，且第三機械臂將加工後的晶圓自該用於使晶圓離開該工具之加載互鎖室轉移回該供應源。
简体摘要：一种半导体制造工具，其具有两个加载互锁室，一个用于使半导体晶圆进入该工具以进行加工，且另一个用于使晶圆在被加工后离开该工具。该等加载互锁室为新一代加载互锁室，与先前技术之加载互锁室相比，其能在更短时间内被排空或使其通风，且可允许高生产量。该工具联合了三个大气压晶圆处理机械臂，以获得由该等加载互锁室所允许之高生产量。一机械臂将待加工之晶圆自供应源转移至一晶圆预对准器，另一机械臂将晶圆自该晶圆预对准器转移至该用于使晶圆进入该工具之加载互锁室，且第三机械臂将加工后的晶圆自该用于使晶圆离开该工具之加载互锁室转移回该供应源。

44. 发明专利

TW200413079A 用於超臨界萃取之CO2回收方法 CO2 RECOVERY PROCESS FOR SUPERCRITICAL EXTRACTION 审中-公开
简体标题：用于超临界萃取之CO2回收方法 CO2 RECOVERY PROCESS FOR SUPERCRITICAL EXTRACTION
公开(公告)号：TW200413079A
公开(公告)日：2004-08-01
申请号：TW092127331
申请日：2003-10-02
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：凱莉賴奇 KELLY LEITCH , 蓋文哈特甘 GAVIN HARTIGAN , 羅伯特德歐瑞塞歐 ROBERT D'ORAZIO
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01D53/04 , B01D53/261 , B01D2256/22 , B01D2257/704 , B01D2259/40001 , B01D2259/40086 , B08B7/0021 , Y10S62/928
摘要：用於超臨界萃取之二氧化碳回收裝置(1)及方法包含自超臨界萃取程序(60)供應方法流(61)，其中該方法流(61)包含經加壓之二氧化碳、萃取方法廢料及視需要至少一種共溶劑；降低該方法流之壓力至低於臨界壓力；通氣低壓力二氧化碳蒸氣(66)至排氣；冷卻該方法流以生成兩－相混合物；分離該兩－相混合物成為方法液體(71)(倘若共溶劑存在，則其包含共溶劑)、及方法汽相流(72)；收集該方法液體；過濾該方法汽相流(72)以移除粒子及視需要殘餘之共溶劑；將經過濾之方法蒸氣流(81)通過吸附器(85)以移除微量雜質，以生成經純化之二氧化碳蒸氣流(90)；及，乾燥該經純化之二氧化碳蒸氣流(90)以移除殘餘之水蒸氣。
简体摘要：用于超临界萃取之二氧化碳回收设备(1)及方法包含自超临界萃取进程(60)供应方法流(61)，其中该方法流(61)包含经加压之二氧化碳、萃取方法废料及视需要至少一种共溶剂；降低该方法流之压力至低于临界压力；通气低压力二氧化碳蒸气(66)至排气；冷却该方法流以生成两－相混合物；分离该两－相混合物成为方法液体(71)(倘若共溶剂存在，则其包含共溶剂)、及方法汽相流(72)；收集该方法液体；过滤该方法汽相流(72)以移除粒子及视需要残余之共溶剂；将经过滤之方法蒸气流(81)通过吸附器(85)以移除微量杂质，以生成经纯化之二氧化碳蒸气流(90)；及，干燥该经纯化之二氧化碳蒸气流(90)以移除残余之水蒸气。

45. 发明专利

TW200305935A 行進於軌道上的起飛蒸氣沉積系統 PLANETARY LIFT-OFF VAPOR DEPOSITION SYSTEM 审中-公开
简体标题：行进于轨道上的起飞蒸气沉积系统 PLANETARY LIFT-OFF VAPOR DEPOSITION SYSTEM
公开(公告)号：TW200305935A
公开(公告)日：2003-11-01
申请号：TW092105908
申请日：2003-03-18
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：張賓 PING CHANG , 葛芮格瓦林斯 GREGG WALLACE , 陸西 J 喜爾 RUSSELL J. HILL , 克芮斯肯農柏格 CRIS KRONEBERGER , 賓克尼 A 喬伊史密斯 PINKNEY A. JOEL SMITH
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C23C14/505 , C23C14/30
摘要：本發明揭示一種物理蒸氣沈積塗層系統，用以產生垂直起飛塗層。該系統包含圍繞源（source）中心線及另一旋轉軸旋轉的多個圓頂，以便保證一均勻塗層並利用大部份從該源所蒸發的材料。
简体摘要：本发明揭示一种物理蒸气沉积涂层系统，用以产生垂直起飞涂层。该系统包含围绕源（source）中心线及另一旋转轴旋转的多个圆顶，以便保证一均匀涂层并利用大部份从该源所蒸发的材料。

46. 发明专利

TWI393803B 用於使用溶液為主先質以供原子層沉積之方法及裝置有权
简体标题：用于使用溶液为主先质以供原子层沉积之方法及设备
公开(公告)号：TWI393803B
公开(公告)日：2013-04-21
申请号：TW095115406
申请日：2006-04-28
申请人： BOC集團公司 , THE BOC GROUP, INC.
发明人：榭馬 , MA, CE , 王清民 , WANG, QING MIN , 派翠克J 黑利 , HELLY, PATRICK J. , 理察侯枸 , HOGLE, RICHARD
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/45544 , C23C16/448 , C23C16/45525 , Y10T428/8305

47. 发明专利

TW200827291A 氣體混合裝置及使用方法 GAS MIXING DEVICE AND METHODS OF USE 审中-公开
简体标题：气体混合设备及使用方法 GAS MIXING DEVICE AND METHODS OF USE
公开(公告)号：TW200827291A
公开(公告)日：2008-07-01
申请号：TW096135620
申请日：2007-09-21
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：李夫大衛朶夫 DAVYDOV, LEV , 江偉斌 JIANG, WEIBIN , 傑森諾曼 NORMAN, JASON , 布魯斯厄爾曼 UHLMAN, BRUCE
IPC分类号： C01B , B01J
CPC分类号： C01B3/386 , B01J4/002 , C01B2203/0261 , C01B2203/1023 , C01B2203/1276
摘要：本發明提供一種氣體混合裝置及其在一催化部分氧化反應器中之用途。該氣體混合裝置通常為諸如文氏管型引入器之引入器,其將混合用於催化部分氧化製程中之進料氣體。可依次使用兩個氣體混合裝置。
简体摘要：本发明提供一种气体混合设备及其在一催化部分氧化反应器中之用途。该气体混合设备通常为诸如文氏管型引入器之引入器,其将混合用于催化部分氧化制程中之进料气体。可依次使用两个气体混合设备。

48. 发明专利

TW200807477A 電子束槍 ELECTRON BEAM GUN 审中-公开
简体标题：电子束枪 ELECTRON BEAM GUN
公开(公告)号：TW200807477A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096106542
申请日：2007-02-26
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：克瑞斯凱斯克隆柏格 KRONEBERGER, CRIS KEITH , 平張 CHANG, PING
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/065 , H01J3/027 , H01J37/07 , H01J2237/06308 , H01J2237/3132
摘要：本發明揭示一種電子束槍,其具有一作為一大的陰極塊之一整體部分的拱形射束形成器且具有一為了改良之對準而安裝至該陰極塊之長絲,該大的陰極塊引導熱量遠離該射束形成器。
简体摘要：本发明揭示一种电子束枪,其具有一作为一大的阴极块之一整体部分的拱形射束形成器且具有一为了改良之对准而安装至该阴极块之长丝,该大的阴极块引导热量远离该射束形成器。

49. 发明专利

TW200745479A 液體施配系統 LIQUID DISPENSE SYSTEM 审中-公开
简体标题：液体施配系统 LIQUID DISPENSE SYSTEM
公开(公告)号：TW200745479A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096107384
申请日：2007-03-03
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：班哲明R. 羅勃茲 ROBERTS, BENJAMIN R.
IPC分类号： F17D , B67D , B24B
CPC分类号： B24B57/02 , B24B37/04
摘要：本發明提供一種用於經由一施配迴路而將液體供應至需要此液體之工具的系統、裝置及方法。特定言之,本發明提供一種用於將液體或研磨漿供應至一半導體製造過程之CMP(化學機械研磨法)工具的系統、裝置及方法。根據本發明,藉由在該施配迴路中使用與流量感測器或壓力感測器結合之泵來控制流動速率及壓力,而將液體以一致的流動速率及壓力輸送至該等工具。
简体摘要：本发明提供一种用于经由一施配回路而将液体供应至需要此液体之工具的系统、设备及方法。特定言之,本发明提供一种用于将液体或研磨浆供应至一半导体制造过程之CMP(化学机械研磨法)工具的系统、设备及方法。根据本发明,借由在该施配回路中使用与流量传感器或压力传感器结合之泵来控制流动速率及压力,而将液体以一致的流动速率及压力输送至该等工具。

50. 发明专利

TW200720853A 製備超高純度水之方法與設備 A METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING ULTRA-HIGH PURITY WATER 审中-公开
简体标题：制备超高纯度水之方法与设备 A METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING ULTRA-HIGH PURITY WATER
公开(公告)号：TW200720853A
公开(公告)日：2007-06-01
申请号：TW095138327
申请日：2006-10-18
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：奈吉爾溫登 WENDEN, NIGEL
IPC分类号： G03F , C02F
CPC分类号： B01D19/0031 , B01D2317/08 , C02F1/001 , C02F1/20 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/444 , C02F9/005 , C02F2103/04
摘要：本發明係關於一種製備尤其用於浸漬式微影製程中之超純水的系統及方法。在本發明之一實施例中,提供一獨立使用點式櫃,該櫃可一直提供用於浸漬式微影設備之超純水。本發明亦係關於一種提供一具有一預定特殊折射率之材料至一浸漬式微影裝置之系統及方法。
简体摘要：本发明系关于一种制备尤其用于浸渍式微影制程中之超纯水的系统及方法。在本发明之一实施例中,提供一独立使用点式柜,该柜可一直提供用于浸渍式微影设备之超纯水。本发明亦系关于一种提供一具有一预定特殊折射率之材料至一浸渍式微影设备之系统及方法。

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