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    • 42. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHES MODUL MIT LICHTWELLENLEITER UND SEIN HERSTELLUNGSVERFAHREN
    • 与光纤及其制造方法亚光电子模块
    • WO2013104751A1
    • 2013-07-18
    • PCT/EP2013/050478
    • 2013-01-11
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • HERRMANN, SiegfriedILLEK, Stefan
    • G02B27/09F21V19/04H01L33/08
    • H01L33/60G02B27/0905G02B27/0994H01L25/0753H01L27/15H01L33/507H01L2924/0002H01L2933/0091H01L2924/00
    • Ein optoelektronisches Modul (202, 204, 206, 208, 210, 212, 214, 216, 218, 220, 222, 224, 226, 228, 230, 232, 234) weist einen Träger (102) auf, an dem und/oder in dem mindestens zwei Halbleiterchips (104, 104a1, 104a2, 104b; 106, 106a1, 106a2, 106b, 106c) zur Emission elektromagnetischer Strahlung (108a, 108b) angeordnet sind. Auf oder in dem Träger (102) ist eine Abstrahleinheit (110) zur Abstrahlung elektromagnetischer Strahlung (109) aus dem optoelektronischen Modul (202, 204, 206, 208, 210, 212, 214, 216, 218, 220, 222, 224, 226, 228, 230, 232, 234) angeordnet. Mindestens einer der Halbleiterchips (106, 106a1, 106a2, 106b, 106c) ist von der Abstrahleinheit (110) beabstandet. Ein Wellenleiter (112) leitet die elektromagnetische Strahlung (108a) des mindestens einen beabstandeten Halbleiterchips (106, 106a1, 106a2, 106b, 106c) zur Abstrahleinheit (110). Die Abstrahleinheit (110) weist eine Auskoppelstruktur (114, 114a, 114b, 114c) zur Auskopplung der elektromagnetischen Strahlung (108a) aus dem Wellenleiter (112) auf.
    • 一种光电模块(202,204,206,208,210,212,214,216,218,220,222,224,226,228,230,232,234)包括支撑件(102),在其上和/ 或其中至少两个半导体芯片;用于发射电磁辐射(108A,108B)(104,104A 1〜,104a2,104B 106 106A1,106A2,106B,106C)被布置。 上或在所述支承件(102)是用于从光电模块(发射电磁辐射(109)的发光部(110)202,204,206,208,210,212,214,216,218,220,222,224, 226,228,230,232,234)被布置。 至少一个半导体芯片(106 106A1,106A2,106B,106C)从所述发射单元(110)间隔开。 的波导(112)指示所述至少一个间隔开的半导体芯片(106 106A1,106A2,106B,106C)的电磁辐射(108A),用于发射(110)。 发射单元(110)包括用于耦合输出从所述波导(112)的电磁辐射(108)的一个解耦结构(114,114A,114B,114C)。
    • 49. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG OPTOELEKTRONISCHER BAUELEMENTE UND OBERFLÄCHENMONTIERBARES OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT
    • 用于制造光电子器件和表面安装的光电器件
    • WO2016180897A1
    • 2016-11-17
    • PCT/EP2016/060590
    • 2016-05-11
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • HERRMANN, SiegfriedSTOLL, IonROSSBACH, Georg
    • H01L33/50C25D13/02C25D13/12H01L33/48
    • H01L33/50C25D13/02C25D13/12H01L33/0079H01L33/486H01L2224/96H01L2933/0033H01L2933/0041
    • Ein Verfahren zur Herstellung optoelektronischer Bauelemente (100) umfasst einen Schritt A), in dem ein Träger (2) und eine Mehrzahl optoelektronischer Halbleiterchips (1) bereitgestellt wird, wobei jeder Halbleiterchip (1) Kontaktelemente (10, 11) zur elektrischen Kontaktierung aufweist, die auf einer Kontaktseite (12) des Halbleiterchips (1) angeordnet sind. In einem Schritt B) werden die Halbleiterchips (1) lateral nebeneinander auf dem Träger (2) aufgebracht, wobei beim Aufbringen die Kontaktseiten (12) dem Träger (2) zugewandt werden. In einem Schritt C) wird eine elektrisch leitende Schicht (4) auf zumindest Teilbereiche der nicht vom Träger (2) bedeckten Seiten der Halbleiterchips (1) aufgebracht, wobei die elektrisch leitende Schicht (4) zusammenhängend ausgebildet ist. In einem Schritt D) wird eine Konverterschicht (5) auf der elektrisch leitenden Schicht (4) elektrophoretisch abgeschieden. Die elektrisch leitende Schicht (4) wird in einem Schritt E) aus Bereichen zwischen der Konverterschicht (5) und den Halbleiterchips (1) entfernt.
    • 为用于电接触包括产生光电器件(100)包括:步骤A),其中(1)提供的载体(2)和多个光电子半导体芯片,其中每个半导体芯片(1)的接触元件(10,11)的处理 在半导体芯片(1)的接触侧(12)被布置。 在步骤b)中的半导体芯片(1)在横向上彼此相邻的所述载体(2)上被施加,其中,所述施加期间面向载体(2)的接触侧(12)。 在步骤C)的导电层(4)被施加到)覆盖所述半导体芯片的两侧的非中的至少部分区域(载体2(1)被施加,其中,所述导电层(4)形成连续的。 在步骤D)的导电层(4)上的转换器层(5)被电泳沉积。 所述导电层(4)在从区域中的转换器层(5)和半导体芯片(1)之间的步骤E)被除去。
    • 50. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERBAUTEILEN UND OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERBAUTEIL
    • 用于生产光电半导体器件和光电半导体器件
    • WO2016134981A1
    • 2016-09-01
    • PCT/EP2016/053018
    • 2016-02-12
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • HERRMANN, Siegfried
    • H01L33/48H01L25/075H01L33/52H01L33/54H01L33/62
    • H01L33/62H01L21/568H01L33/486H01L33/52H01L33/54H01L2224/04105H01L2224/19H01L2224/73267H01L2933/005H01L2933/0066
    • In mindestens einer Ausführungsform ist das Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauteilen eingerichtet und umfasst die Schritte: A) Bereitstellen eines Zwischenträgers (2) mit mehreren Befestigungsstellen (23), B) Bereitstellen von optoelektronischen Halbleiterchips (3) mit je einer Chipoberseite (30) und einer dieser gegenüberliegenden Montageseite (32), wobei sich elektrische Kontaktstellen (34) der Halbleiterchips (3) je an den Montageseiten (32) befinden, C) Anbringen von Verbindungsmitteln (4), D) Befestigen der Kontaktstellen (34) auf den Befestigungsstellen (23) mittels der Verbindungsmittel (4), E) Erzeugen einer Vergussschicht (5), sodass die Halbleiterchips (3) und die Kontaktstellen (34) und die Verbindungsmittel (4) ringsum direkt von der Vergussschicht (5) umgeben sind, F) Ablösen der Halbleiterchips (3), sodass die Verbindungsmittel (4) von den Halbleiterchips (3) entfernt werden und an den Kontaktstellen (34) als Negativform zu den Verbindungsmitteln (4) je Ausnehmungen (44) entstehen, und G) Erzeugen von elektrischen Kontaktstrukturen (6).
    • 在至少一个实施方案中,用于生产光电半导体部件的方法被布置并包括以下步骤:a)提供具有多个连接点(23中间载体(2)),b)提供光电子半导体芯片(3)每一个都具有芯片表面(30)和 一个相对的安装侧(32),所述半导体芯片的电接触点(34)(3)根据安装侧(32)的位置,C)附接连接装置(4),D)固定在紧固点的接触点(34)( 23)(由)形成铸造层(5),以使半导体芯片(3)和所述接触点(34)和所述连接装置(4)四周直接(从铸造层5)所包围,F)剥离所述连接4单元)的装置,例如 半导体芯片(3),使得所述连接装置(4)从半导体芯片去除(3)和在接触点(34),其为负模具向Verbindungsm 出现itteln(4)分别具有凹部(44)和G)产生电接触结构(6)。