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41. 发明专利

DE102005017739B4 未知
公开(公告)号：DE102005017739B4
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：DE102005017739
申请日：2005-04-15
申请人： HERAEUS QUARZGLAS
发明人： WEBER JUERGEN , POGGE TOBIAS , TROMMER MARTIN , KUEHN BODO , KIRST ULRICH , WERDECKER WALTRAUD
IPC分类号： C03C3/06 , H01L21/68
摘要： An ideal quartz glass for a wafer jig for use in an environment having an etching effect is distinguished by both high purity and high resistance to dry etching. To indicate a quartz glass that substantially fulfills these requirements, it is suggested according to the invention that the quartz glass is doped with nitrogen at least in a near-surface area, has a mean content of metastable hydroxyl groups of less than 30 wt ppm and that its fictive temperature is below 1250° C. and its viscosity is at least 1013 dPa·s at a temperature of 1200° C. An economic method for producing such a quartz glass comprises the following method steps: melting an SiO2 raw material to obtain a quartz glass blank, the SiO2 raw material or the quartz glass blank being subjected to a dehydration measure, heating the SiO2 raw material or the quartz glass blank to a nitriding temperature in the range between 1050° C. and 1850° C. in an ammonia-containing atmosphere, a temperature treatment by means of which the quartz glass of the quartz glass blank is set to a fictive temperature of 1250° C. or less, and a surface treatment of the quartz glass blank with formation of the quartz glass jig.

42. 发明专利

DE102005017752A1 未知
公开(公告)号：DE102005017752A1
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：DE102005017752
申请日：2005-04-15
申请人： HERAEUS QUARZGLAS
发明人： KUEHN BODO , OCHS STEFAN , KAISER STEFFEN , KASSUBE DENIS
IPC分类号： G02B1/00 , C03C3/06 , G02B13/00
摘要： Quartz glass optical component for use as projection/objective for immersion lithography at a working wavelength of 250 nm. The quartz glass has properties: glass structure devoid of oxygen defect sites; mean hydrogen content 1X10 16>-1X10 17>molecules/sq.cm; mean SiH group content less than 5X10 17>molecules/sq.cm; mean OH group content less than 60 wt.ppm; mean F content less than 10 wt.ppm; mean Cl content less than 1 wt.ppm; and imaginary (fiktiv, sic) temperature above 1040[deg]C. An independent claim is included for a method of producing the component from an SiO 2soot body.

43. 发明专利

DE102004006017A1 Production of blanks for laser-active quartz glass components involves granulation of suspension containing silica and dopants, heating product, and sintering product in reducing atmosphere 未知
公开(公告)号：DE102004006017A1
公开(公告)日：2005-07-14
申请号：DE102004006017
申请日：2004-02-06
申请人： HERAEUS QUARZGLAS
发明人： KOEPPLER RAINER , KUEHN BODO , WERDECKER WALTRAUD , KIRST ULRICH , LEHMANN WALTER
IPC分类号： C03B19/06 , C03B19/10 , C03C1/02 , C03C3/06 , C03C4/00 , C03B20/00 , C03B37/01 , C03B37/016
摘要： Production of blanks for laser-active quartz glass components comprises: (A) preparing a suspension with a solids content of at least 40 wt.% which contains silica nanopowder and dopants containing a rare earth cation and transition metals; (B) granulation by stirring while removing water to form silica granules consisting of spherical, porous grains which have a moisture content below 35% and a density of at least 0.95 g/m 2>; (C) drying and purifying the granules by heating to at least 1000[deg]C to form doped, porous silica grains with an OH content below 10 ppm; and (D) sintering or melting the doped grains in a reducing atmosphere.

44. 发明专利

AT278641T 未知
公开(公告)号：AT278641T
公开(公告)日：2004-10-15
申请号：AT02027124
申请日：2002-12-04
申请人： HERAEUS QUARZGLAS
发明人： KUEHN BODO , UEBBING BRUNO DR , TROMMER MARTIN DR , OCHS STEFAN DR , FISCHER GERO , HOLST ULLA DR
IPC分类号： C03B8/04 , C03B19/14 , C03B20/00 , C03C3/06 , C03C4/00
摘要： Quartz glass blank for optical component for transmission of ultraviolet radiation with wavelength of 250 nm or shorter has glass structure that is free of oxygen defect sites, hydrogen content of 0.1x10 power 16-4x10 power 16 molecules/cm3, hydroxyl group-content of 125-450 wt-ppm, silicon hydride group-content of less than 5x10 power 16 molecules/cm3, refractive index inhomogeneity, DELTAn, of less than 2 ppm, and stress birefringence of less than 2 nm/cm. An Independent claim is also included for a procedure for the manufacture of a quartz glass blank comprising generating a mixed quartz glass with a mean OH-content of 125-450 wt-ppm by mixing first and second quartz glasses, which are manufactured by flame hydrolysis of a silicon-containing compound, the first and second quartz glasses differing in their OH-contents.

45. 发明专利

DE10159961C2 未知
公开(公告)号：DE10159961C2
公开(公告)日：2003-12-24
申请号：DE10159961
申请日：2001-12-06
申请人： HERAEUS QUARZGLAS
发明人： KUEHN BODO , UEBBING BRUNO , TROMMER MARTIN , OCHS STEFAN , THOMAS STEPHAN , KAISER STEFFEN , VYDRA JAN
IPC分类号： G02B1/00 , C03B8/04 , C03B19/14 , C03B20/00 , C03C3/06 , C03C4/00 , C03B37/018
摘要： Quartz glass blank comprises a glass structure having a hydrogen (H2) content of 0.1 x 10 to 4.0 x 10 molecules /cm , an OH content of 125-450 wt.-ppm, an SiH group content of less than 5 x 10 molecules/cm , an inhomogeneity of less than 2 ppm in the refractive index of DELTA n and a birefringence of less than 2 nm/cm. An Independent claim is also included for a process for the production of the quartz glass blank. Preferably the OH content of the glass blank is 200-350 wt.-ppm and the H2 content is 1 x 10 to 3 x 10 molecules /cm

46. 发明专利

DE112008003728B4 Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils aus Quarzglas 未知
公开(公告)号：DE112008003728B4
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：DE112008003728
申请日：2008-02-27
申请人： HERAEUS QUARZGLAS
发明人： TROMMER MARTIN , OCHS STEFAN , ZWARG STEFFEN , KUEHN BODO
IPC分类号： C03B19/14 , C03C3/06
摘要： Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils aus Quarzglas zur Verwendung in einem Objektiv für die Mikrolithographie mit einer Arbeitswellenlänge unterhalb von 250 nm, umfassend die folgenden Verfahrensschritte: (a) Herstellen eines SiO2-Sootkörpers, (b) Trocknen des Sootkörpers derart, das sich ein mittlerer Hydroxylgruppengehalt von weniger als 60 Gew.-ppm einstellt, (c) Verglasen des Sootkörpers unter Bildung eines zylinderförmigen Quarzglasrohlings, der zu dem optischen Bauteil weiterverarbeitet wird, wobei der Sootkörper vor dem Verglasen gemäß Verfahrensschritt (c) einer Konditionierungsbehandlung unterzogen wird, die eine Behandlung mit einem Stickoxidumfasst, dadurch gekennzeichnet, dass Stickstoffdioxid (NO2) als Stickoxid eingesetzt wird

47. 发明专利

DE102010009589B4 Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie 未知
公开(公告)号：DE102010009589B4
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：DE102010009589
申请日：2010-02-26
申请人： HERAEUS QUARZGLAS
发明人： KUEHN BODO , OCHS STEFAN
IPC分类号： C03C3/06 , C03B20/00 , G02B1/00 , G02B5/08
摘要： Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas (Ti-dotiertes Kieselglas) für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, der einen zu verspiegelnden Oberflächenbereich aufweist, wobei mindestens das Ti-dotierte Kieselglas für den Oberflächenbereich mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen erzeugt, und in dem Ti-dotierten Kieselglas anhand eines Konditionierungsprozesses unter Bildung des Rohlings ein vorgegebener Wasserstoffgehalt eingestellt wird, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Flammenhydrolyse ein Sootkörper aus mit Titan dotiertem SiO2 erzeugt wird, der Sootkörper durch Erhitzen auf eine Temperatur von mindestens 1150°C unter Vakuum getrocknet wird, so dass sich ein mittlerer Hydroxylgruppengehalt von weniger als 150 Gew.-ppm einstellt, der getrocknete Sootkörper unter Bildung einer Vorform aus Ti-dotiertem Kieselglas gesintert, und das Ti-dotierte Kieselglas mittels des Konditionierungsprozesses mit Wasserstoff beladen wird, so dass sich ein mittlerer Wasserstoffgehalt von mindestens 1 × 1016 Molekülen/cm3 einstellt.

48. 发明专利

DE102009043680A1 Rohling aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie und Verfahren für seine Herstellung 未知
公开(公告)号：DE102009043680A1
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：DE102009043680
申请日：2009-09-30
申请人： HERAEUS QUARZGLAS
发明人： KUEHN BODO
IPC分类号： C03B20/00 , C03B23/00 , C03B23/22 , C03C3/06
摘要： Um ausgehend von einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas (Quarzglas) für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, das einen zu verspiegelnden und beim bestimmungsgemäßen Einsatz des Spiegelsubstrats als hochbelastete Zone spezifizierten Oberflächenbereich aufweist, der eine Außenkontur hat, einen Rohling bereitzustellen, der kostengünstig herstellbar ist und der dennoch hohen Anforderungen bezüglich Homogenität, Blasen- und Schlierenfreiheit genügt, wird erfindungsgemäß eine Verfahrensweise vorgeschlagen, die folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Erzeugen eines Frontkörpers aus Titan-dotiertem Quarzglas hoher Qualität mit einem Volumen "V1" und mit Abmessungen, die die Außenkontur mit Übermaß umschließen, (b) Erzeugen eines zylinderförmigen Stützkörpers aus Titan-dotiertem Quarzglas mit einem Volumen "V2", (c) Verbinden von Frontkörper und Stützkörper unter Bildung eines Verbundkörpers, und (d) Bearbeitung des Verbundkörpers zum Spiegelsubstrat-Rohling.

49. 发明专利

DE102006022303B4 未知
公开(公告)号：DE102006022303B4
公开(公告)日：2009-06-18
申请号：DE102006022303
申请日：2006-05-11
申请人： HERAEUS QUARZGLAS
发明人： OCHS STEFAN , KUEHN BODO
IPC分类号： C03B19/01 , C03B20/00
摘要： Production of synthetic quartz glass with a prescribed hydroxyl group content comprises dehydrating a soot body formed by flame hydrolysis or oxidation of a silicon-containing starting compound using a drying phase with ozone as reaction gas. The ozone content of the drying atmosphere is 0.5-10 vol.%. No halogens are added to the drying atmosphere and the drying temperature is 1200-1400[deg] C.

50. 发明专利

DE102004017031B4 未知
公开(公告)号：DE102004017031B4
公开(公告)日：2008-10-23
申请号：DE102004017031
申请日：2004-04-02
申请人： HERAEUS QUARZGLAS
发明人： KUEHN BODO , THOMAS STEPHAN , KAISER STEFFEN
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14 , C03B20/00 , C03C4/00 , G02B1/00 , G03F7/20 , H01L21/027
摘要： Optical component comprises a quartz glass having a hydrogen content of 0.1 X 10 16>-5 X 10 16> molecules/cm 3> and a content of silicon hydride groups of less than 5 X 10 16> molecules/cm 3>. The quartz glass has a content of hydroxyl groups of 10-250 weight ppm and a fictive temperature of 1000[deg]C. Independent claims are also included for: (a) producing an optical component of quartz glass, comprising producing silicon dioxide (SiO 2) soot body, vitrifying the soot body in a vacuum, annealing the quartz glass blank to form a quartz glass cylinder surrounding a contour of the optical component to be produced with an over dimension, removing part of the overdimension adjacent the axial ends of the quartz glass cylinder, and loading the quartz glass cylinder with hydrogen by heating the quartz glass cylinder in a hydrogen-containing atmosphere at a temperature below 500[deg]C; and (b) an immersion lithography comprising providing an optical component in a projection system of an automatic exposure machine for immersion lithography, and transmitting ultraviolet, pulsed and linearly polarized UV laser radiation of a wavelength of 190-250 nm through the optical component.

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