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热词
    • 41. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR ÜBERWACHTEN PLASMABEHANDLUNG EINER LEITERPLATTE
    • WO2022018024A1
    • 2022-01-27
    • PCT/EP2021/070139
    • 2021-07-19
    • PLASMATREAT GMBH
    • BUSKE, Christian
    • H05H1/48
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur überwachten Plasmabehandlung einer Leiterplatte (42), bei dem eine zu behandelnde Seite (40) einer Leiterplatte (42) einer Plasmabehandlung, insbesondere einer Plasmabeschichtung, unterzogen wird, bei der die zu behandelnde Seite (40) der Leiterplatte (42) mit einem atmosphärischen Plasmastrahl (4) beaufschlagt wird, wobei während der Plasmabehandlung ein Wert für eine elektrische Kenngröße zwischen einem ersten und einem zweiten elektrischen Kontaktpunkt (54, 56, 76, 78, 90, 92) der Leiterplatte (42) gemessen wird. Weiter betrifft die Erfindung eine Vorrichtung (80) zur überwachten Plasmabehandlung einer Leiterplatte mit einer Halterung (82) zur Positionierung einer Leiterplatte (42) für eine Plasmabehandlung, mit einer Plasmaquelle (2, 50, 68, 81), die dazu eingerichtet ist, einen atmosphärischen Plasmastrahl (4) zu erzeugen, mit einer Verfahreinrichtung (84, 86), die dazu eingerichtet ist, die Plasmaquelle (2, 50) und/oder die Leiterplatte (42) für die Plasmabehandlung relativ zueinander zu verfahren, mit Kontaktierungsmitteln (88), eingerichtet zur jeweiligen elektrischen Kontaktierung eines ersten und eines zweiten Kontaktpunkts (54, 56, 76, 78, 90, 92) der Leiterplatte (42), und mit einer Messeinrichtung (52), die dazu eingerichtet ist, einen Wert für eine elektrische Kenngröße zwischen von den Kontaktierungsmitteln (88) kontaktierten Kontaktpunkten (54, 56, 76, 78, 90, 92) zu messen.
    • 48. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN EINES OPTISCHEN DATENTRÄGERS SOWIE EIN BESCHICHTETER OPTISCHER DATENTRÄGER
    • 方法涂层的光盘和镀膜光学DISK
    • WO2005078715A2
    • 2005-08-25
    • PCT/EP2005/001485
    • 2005-02-14
    • PLASMATREAT GMBHBUSKE, ChristianKNOSPE, Alexander
    • BUSKE, ChristianKNOSPE, Alexander
    • G11B7/24
    • G11B7/26G11B7/24056G11B7/2548
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines optischen Datenträgers, wobei der Datenträger mindestens eine Substratschicht und mindestens eine Reflexionsschicht aufweist, bei dem aus einem Arbeitsgas mit Hilfe einer atmosphärischen Plasmaentladung ein Plasmastrahl erzeugt wird, bei dem ein Precursormaterial dem Arbeitsgas oder dem Plasmastrahl zugeführt und im Plasmastrahl zur Reaktion gebracht wird und bei dem das aus dem Precursormaterial entstehende Reaktionsprodukt auf der mindestens einen Substratschicht als Zusatzschicht abgeschieden wird. Die Zusatzschicht kann einerseits als Schutzschicht oder Barriereschicht dienen. Andererseits kann die Zusatzschicht eine reflektive Schicht im Aufbau des optischen Datenträgers dienen. Die Erfindung betrifft auch einen optischen Datenträger mit einer durch atmosphärische Plasmabeschichtung hergestellten Zusatzschicht.
    • 本发明涉及一种用于涂覆光学数据载体,其具有在所述至少一个基片层和至少在其被从工艺气体通过其中供应到工作气体的前体材料的大气压等离子体放电来产生等离子体束的反射层,或等离子体射流和所述数据载体 等离子体射流,继续反应,并且其中从所述前体材料所得到的反应产物被沉积在基底上的至少一个层作为附加的层。 附加层可充当保护层或阻挡层。 在另一方面,附加层可作为在光学数据载体的结构的反射层。 本发明还涉及具有通过大气等离子涂料添加剂层而制备的溶液的光学数据载体。