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41. 发明专利

TW201920504A 壓印用下層膜形成用組成物、套組、壓印用硬化性組成物、積層體、積層體的製造方法、硬化物圖案的製造方法及電路基板的製造方法审中-公开
简体标题：压印用下层膜形成用组成物、套组、压印用硬化性组成物、积层体、积层体的制造方法、硬化物图案的制造方法及电路基板的制造方法
公开(公告)号：TW201920504A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133277
申请日：2018-09-21
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：下重直也 , SHIMOJU, NAOYA , 後藤雄一郎 , GOTO, YUICHIRO
IPC分类号： C09D4/02 , C09D7/40 , B32B27/30 , G03F7/00 , B29C59/02 , H01L21/027 , H05K3/00
摘要：本發明提供一種所形成之膜的厚度的均勻性及壓印用硬化性組成物的潤濕性優異且所形成之膜穩定的壓印用下層膜形成用組成物、套組、壓印用硬化性組成物、積層體、積層體的製造方法、硬化物圖案的製造方法及電路基板的製造方法。壓印用下層膜形成用組成物含有包含芳香環及芳香族雜環中的至少1種之多官能（甲基）丙烯酸酯及溶劑，多官能（甲基）丙烯酸酯的於23℃下的黏度為11～600mPa·s，分子量為200以上。
简体摘要：本发明提供一种所形成之膜的厚度的均匀性及压印用硬化性组成物的润湿性优异且所形成之膜稳定的压印用下层膜形成用组成物、套组、压印用硬化性组成物、积层体、积层体的制造方法、硬化物图案的制造方法及电路基板的制造方法。压印用下层膜形成用组成物含有包含芳香环及芳香族杂环中的至少1种之多官能（甲基）丙烯酸酯及溶剂，多官能（甲基）丙烯酸酯的于23℃下的黏度为11～600mPa·s，分子量为200以上。

42. 发明专利

TW201918794A 感光性著色組成物、硬化膜、圖案的形成方法、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：感光性着色组成物、硬化膜、图案的形成方法、滤色器、固体摄像组件及图像显示设备
公开(公告)号：TW201918794A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW107129885
申请日：2018-08-28
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：山本啓之 , YAMAMOTO, KEIJI
IPC分类号： G03F7/028 , H01L21/027 , G02B5/20 , H01L27/146
CPC分类号： G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/031
摘要：本發明提供一種能夠形成對顯影液的耐脫色性優異之硬化膜之感光性著色組成物。又，提供一種硬化膜、圖案的形成方法、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置。感光性著色組成物含有：光聚合起始劑，在甲醇中的波長365nm的光的吸光係數超過1.0×102mL/gcm；光聚合起始劑b，在甲醇中的波長365nm的光的吸光係數為1.0×102mL/gcm以下，且波長254nm的光的吸光係數為1.0×103mL/gcm以上；鹼可溶性樹脂；及色材，具有聚合性基。感光性著色組成物的總固體成分中的光聚合起始劑a的含量為1.5質量%以上，且光聚合起始劑b的含量為1.5質量%以上。
简体摘要：本发明提供一种能够形成对显影液的耐脱色性优异之硬化膜之感光性着色组成物。又，提供一种硬化膜、图案的形成方法、滤色器、固体摄像组件及图像显示设备。感光性着色组成物含有：光聚合起始剂，在甲醇中的波长365nm的光的吸光系数超过1.0×102mL/gcm；光聚合起始剂b，在甲醇中的波长365nm的光的吸光系数为1.0×102mL/gcm以下，且波长254nm的光的吸光系数为1.0×103mL/gcm以上；碱可溶性树脂；及色材，具有聚合性基。感光性着色组成物的总固体成分中的光聚合起始剂a的含量为1.5质量%以上，且光聚合起始剂b的含量为1.5质量%以上。

43. 发明专利

TW201910247A 對接接合方法及裝置审中-公开
简体标题：对接接合方法及设备
公开(公告)号：TW201910247A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107125626
申请日：2018-07-25
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：吉田龍平 , YOSHIDA, RYUHEI
IPC分类号： B65H19/18
摘要：本發明提供一種能夠防止重疊之舊薄膜和新薄膜的偏移和捲起的對接接合方法及裝置。利用切斷滾筒(40)和切斷接合滾筒(42)使舊薄膜(22)與新薄膜(32)重疊並進行切斷。接著，使新薄膜(32)的下游側剩餘部分從舊薄膜(22)分開，以藉由切斷形成之舊薄膜(22)的後端與藉由切斷形成之新薄膜(32)的前端對接之狀態搬送到接合位置，並在對接部分黏貼接合膠帶而接合舊薄膜(22)與新薄膜(32)。在舊薄膜(22)與新薄膜(32)重疊之前，在舊薄膜(22)與新薄膜(32)之間噴射接著體(92)。
简体摘要：本发明提供一种能够防止重叠之旧薄膜和新薄膜的偏移和卷起的对接接合方法及设备。利用切断滚筒(40)和切断接合滚筒(42)使旧薄膜(22)与新薄膜(32)重叠并进行切断。接着，使新薄膜(32)的下游侧剩余部分从旧薄膜(22)分开，以借由切断形成之旧薄膜(22)的后端与借由切断形成之新薄膜(32)的前端对接之状态搬送到接合位置，并在对接部分黏贴接合胶带而接合旧薄膜(22)与新薄膜(32)。在旧薄膜(22)与新薄膜(32)重叠之前，在旧薄膜(22)与新薄膜(32)之间喷射接着体(92)。

44. 发明专利

TWI653504B 圖案形成方法、抗蝕劑圖案、電子元件的製造方法及電子元件有权
简体标题：图案形成方法、抗蚀剂图案、电子组件的制造方法及电子组件
公开(公告)号：TWI653504B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW104115982
申请日：2015-05-20
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU , 二橋亘 , NIHASHI, WATARU , 椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F1/20 , G03F1/22 , H01L21/027

45. 发明专利

TWI653188B 薄膜卷及其製造方法、薄膜片的製造方法有权
简体标题：薄膜卷及其制造方法、薄膜片的制造方法
公开(公告)号：TWI653188B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW104106336
申请日：2015-02-26
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：坂下寬幸 , SAKASHITA, HIROYUKI , 繼枝愛 , TSUGUEDA, AI , 池山昭弘 , IKEYAMA, AKIHIRO
IPC分类号： B65H18/26

46. 发明专利

TWI649182B 醯化纖維素膜的製造方法有权
简体标题：酰化纤维素膜的制造方法
公开(公告)号：TWI649182B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW106133916
申请日：2013-09-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：遠山浩史 , TOYAMA,HIROFUMI , 藤原功 , FUJIWARA,ISAO , 渡邉晋也 , WATANABE,SHINYA
IPC分类号： B29C55/02 , C08J5/18 , G02B1/10 , B29K1/00 , B29L7/00

47. 发明专利

TW201902944A 感光性樹脂組成物、聚合物前驅物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法及半導體裝置审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物、聚合物前驱物、硬化膜、积层体、硬化膜的制造方法及半导体设备
公开(公告)号：TW201902944A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107118208
申请日：2018-05-29
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：川端健志 , KAWABATA, TAKESHI , 吉田健太 , YOSHIDA, KENTA , 岩井悠 , IWAI, YU , 渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI
IPC分类号： C08F2/44 , C08G73/06 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/031 , H01L21/312 , H01L21/60 , H05K3/46
摘要：本發明提供一種感光性樹脂組成物、以及聚合物前驅物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法及半導體裝置，所述感光性樹脂組成物於形成為硬化膜時具有高斷裂伸長率，並且保存穩定性優異。一種感光性樹脂組成物，其包含選自聚醯亞胺前驅物及聚苯并㗁唑前驅物中的聚合物前驅物、光自由基聚合起始劑及溶劑，聚合物前驅物中所含有之中和點的pH在7.0～12.0的範圍之酸基的酸值在2.5～34.0 mgKOH/g的範圍內，聚合物前驅物具有自由基聚合性基，或者包含除了聚合物前驅物以外的自由基聚合性化合物。
简体摘要：本发明提供一种感光性树脂组成物、以及聚合物前驱物、硬化膜、积层体、硬化膜的制造方法及半导体设备，所述感光性树脂组成物于形成为硬化膜时具有高断裂伸长率，并且保存稳定性优异。一种感光性树脂组成物，其包含选自聚酰亚胺前驱物及聚苯并㗁唑前驱物中的聚合物前驱物、光自由基聚合起始剂及溶剂，聚合物前驱物中所含有之中和点的pH在7.0～12.0的范围之酸基的酸值在2.5～34.0 mgKOH/g的范围内，聚合物前驱物具有自由基聚合性基，或者包含除了聚合物前驱物以外的自由基聚合性化合物。

48. 发明专利

TW201902943A 硬化性組成物、膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器审中-公开
简体标题：硬化性组成物、膜、近红外线截止滤波器、固体摄像组件、图像显示设备及红外线传感器
公开(公告)号：TW201902943A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107116692
申请日：2018-05-17
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：宮田哲志 , MIYATA, TETSUSHI
IPC分类号： C08F2/44 , C09B23/02 , C09B57/00 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/033 , G02B5/22 , H01L27/14 , H04N5/335
摘要：本發明提供一種能夠製造耐光性優異之膜之硬化性組成物。又，提供一種膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器。硬化性組成物包含近紅外線吸收色素、含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之聚合性單體、樹脂及自由基聚合起始劑，硬化性組成物的總固體成分中之近紅外線吸收色素的含量為10質量%以上，聚合性單體的總質量中之含有選自包括酸基及羥基中之至少1種基團和具有乙烯性不飽和鍵之基團之聚合性單體的含量超過50質量%。近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器具有由硬化性組成物獲得之膜。
简体摘要：本发明提供一种能够制造耐光性优异之膜之硬化性组成物。又，提供一种膜、近红外线截止滤波器、固体摄像组件、图像显示设备及红外线传感器。硬化性组成物包含近红外线吸收色素、含有具有乙烯性不饱和键之基团之聚合性单体、树脂及自由基聚合起始剂，硬化性组成物的总固体成分中之近红外线吸收色素的含量为10质量%以上，聚合性单体的总质量中之含有选自包括酸基及羟基中之至少1种基团和具有乙烯性不饱和键之基团之聚合性单体的含量超过50质量%。近红外线截止滤波器、固体摄像组件、图像显示设备及红外线传感器具有由硬化性组成物获得之膜。

49. 发明专利

TWI644990B 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及著色化合物有权
简体标题：着色组成物、硬化膜、彩色滤光片、彩色滤光片的制造方法、固体摄像组件、图像显示设备及着色化合物
公开(公告)号：TWI644990B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW103133389
申请日：2014-09-26
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：藤田明徳 , FUJITA, AKINORI , 樋口聡 , HIGUCHI, SATOSHI , 加藤志 , KATOH, TAKASHI , 石綿靖宏 , ISHIWATA, YASUHIRO , 岡部孝太郎 , OKABE, KOUTARO
IPC分类号： C09B11/02 , C09B11/10 , C09B67/20 , C09B69/10 , G02B5/20 , G02B5/22 , G03F7/038 , G03F7/40 , H04N5/225 , H04N5/335 , G02F1/1335 , C08F220/10

50. 发明专利

TWI644959B 樹脂組成物、使用該組成物的抗蝕膜、抗蝕劑塗佈空白罩幕、抗蝕圖案形成方法以及光罩有权
简体标题：树脂组成物、使用该组成物的抗蚀膜、抗蚀剂涂布空白罩幕、抗蚀图案形成方法以及光罩
公开(公告)号：TWI644959B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW104102176
申请日：2015-01-23
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：土村智孝 , TSUCHIMURA, TOMOTAKA , 山口修平 , YAMAGUCHI, SHUHEI , 横川夏海 , YOKOKAWA, NATSUMI
IPC分类号： C08L25/18 , G03F7/038 , G03F1/20 , G03F1/22 , H01L21/027

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