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    • 41. 发明申请
    • 산소 분리막
    • 氧分离膜
    • WO2015152494A1
    • 2015-10-08
    • PCT/KR2014/012119
    • 2014-12-10
    • 한국에너지기술연구원
    • 유지행주종훈유충열
    • B01D71/00B01D69/00C01B13/02
    • C01B13/0255B01D69/02B01D71/024B01D2325/20
    • 본 발명은 산소 분리막에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 페롭스카이트형 구조를 갖는 산화물과 형석 구조를 갖는 산화물이 함유된 이종 구조의 분리막과, 상기 분리막의 적어도 일면에 페롭스카이트형 구조를 갖는 산화물이 함유된 코팅층이 형성된 산소 분리막으로, 상기 이종 구조의 분리막은 페롭스카이트형 구조를 갖는 산화물 18 내지 40부피%와 형석 구조를 갖는 산화물 60 내지 82부피%가 함유되고, 상기 이종 구조의 분리막 두께는 30 내지 300㎛이고 코팅층 두께는 1 내지 100㎛을 유지함으로써, 코팅층의 기공률, 전기전도도 및 내구성이 우수할 뿐만 아니라 850℃, 1기압 및 산소분압차이가 0.21 atm 내지 10 -4 atm의 조건에서, 산소 투과도가 1㎖/㎠·min 이상을 유지할 수 있는 산소 분리막에 관한 것이다.
    • 本发明涉及一种氧分离膜,更具体地说,涉及一种含有具有钙钛矿结构的氧化物和具有萤石结构的氧化物的异质结构分离膜的氧分离膜, 以及含有钙钛矿结构的氧化物的涂层,形成在所述分离膜的至少一个表面上,其中所述异质结构分离膜含有18-40体积%的具有钙钛矿结构的氧化物和60-82体积%的氧化物 具有萤石结构,异质结构分离膜的厚度为30-300μm,涂层的厚度保持为1-100μm,因此涂层的孔隙率,导电性和耐久性优异 在850℃,1大气压和氧分压差为0.21〜10-4atm的条件下,氧气渗透率可以保持在1mL / cm 2·min以上。