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31. 发明专利

TW201227179A 曝光方法及曝光位置之確認方法 EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE POSITION DETERMINATION METHOD 审中-公开
简体标题：曝光方法及曝光位置之确认方法 EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE POSITION DETERMINATION METHOD
公开(公告)号：TW201227179A
公开(公告)日：2012-07-01
申请号：TW100140365
申请日：2011-11-04
申请人： V科技股份有限公司
发明人：梶山康一 , 新井敏成 , 橋本和重
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , G03F7/70791
摘要：曝光對象構件(2)具有曝光圖案形成用區域及其周圍至少一部份的非圖案形成區域。於此曝光對象構件(2)的非圖案形成區域之中、位於曝光圖案延長上的區域，塗布依據曝光光線照射而變色的光變色材料，或貼設依據曝光光線照射而變色的光變色構件，並於使穿透光罩的曝光光線照射至曝光對象構件時，除了照射曝光圖案形成用區域，也照射由光變色材料或光變色構件所構成的光變色區域(22)，而使其變色。並且，藉由此光變色區域(22)的變色來確認曝光圖案形成區域之中的曝光位置，以判定有無曝光不良的情形。藉此，在分成多次對於曝光圖案形成用區域予以曝光時，或對於多數曝光圖案形成用區域予以同時或者連續地曝光時，容易確認曝光位置。
简体摘要：曝光对象构件(2)具有曝光图案形成用区域及其周围至少一部份的非图案形成区域。于此曝光对象构件(2)的非图案形成区域之中、位于曝光图案延长上的区域，涂布依据曝光光线照射而变色的光变色材料，或贴设依据曝光光线照射而变色的光变色构件，并于使穿透光罩的曝光光线照射至曝光对象构件时，除了照射曝光图案形成用区域，也照射由光变色材料或光变色构件所构成的光变色区域(22)，而使其变色。并且，借由此光变色区域(22)的变色来确认曝光图案形成区域之中的曝光位置，以判定有无曝光不良的情形。借此，在分成多次对于曝光图案形成用区域予以曝光时，或对于多数曝光图案形成用区域予以同时或者连续地曝光时，容易确认曝光位置。

32. 发明专利

TW201003252A 液晶顯示裝置之製造方法及其製造裝置 MANUFACTURING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING APPARATUS USED FOR THE SAME METHOD 有权
简体标题：液晶显示设备之制造方法及其制造设备 MANUFACTURING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING APPARATUS USED FOR THE SAME METHOD
公开(公告)号：TW201003252A
公开(公告)日：2010-01-16
申请号：TW098111591
申请日：2009-04-07
申请人： V科技股份有限公司
发明人：梶山康一 , 水村通伸 , 橋本和重
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G02F1/133788
摘要：本發明係提供一種於TFT基板與對向電極基板之間以矩陣狀形成複數個畫素，且在密封有液晶的液晶顯示用基板之該各畫素處施加一電場的狀態下，將特定波長之光線照射於該液晶顯示用基板，而使得該液晶分子配向至特定方向的液晶顯示裝置之製造方法，其係進行下述步驟：使該液晶顯示用基板與燈於對向設置的狀態下，將之浸入於一具有特定以上之電阻率並對該光線具有非常高的穿透率之透明液體中的步驟；以及，於該各畫素處施加一特定量之電場的狀態下，點亮該燈而對該液晶顯示用基板照射一特定光量之該光線的步驟。
简体摘要：本发明系提供一种于TFT基板与对向电极基板之间以矩阵状形成复数个像素，且在密封有液晶的液晶显示用基板之该各像素处施加一电场的状态下，将特定波长之光线照射于该液晶显示用基板，而使得该液晶分子配向至特定方向的液晶显示设备之制造方法，其系进行下述步骤：使该液晶显示用基板与灯于对向设置的状态下，将之浸入于一具有特定以上之电阻率并对该光线具有非常高的穿透率之透明液体中的步骤；以及，于该各像素处施加一特定量之电场的状态下，点亮该灯而对该液晶显示用基板照射一特定光量之该光线的步骤。

33. 发明专利

TW201227644A 膜片曝光方法 FILM EXPOSURE METHOD 审中-公开
公开(公告)号：TW201227644A
公开(公告)日：2012-07-01
申请号：TW100140367
申请日：2011-11-04
申请人： V科技股份有限公司
发明人：新井敏成 , 橋本和重
IPC分类号： G09F , G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/20 , G03B27/10 , G03F7/70791 , G03F9/00 , Y10S430/146
摘要：於膜片基材(20)上的曝光圖案形成用區域形成有曝光材料膜(21)之膜片(2)中,於其寬度方向之兩側邊緣部至少一方塗布了有色煆燒材料、有色光硬化性材料或有色墨水而形成了側部塗布膜(22),並藉由對準標誌形成部(14)照射雷射光以形成對準標誌(2a),而使用該對準標誌(2a)來偵測膜片曲折,以調整遮罩(12)的位置。藉此,對在膜片基材上的曝光圖案形成區域形成有曝光材料膜之膜片進行連續曝光之際,容易形成對準標誌以及容易偵測所形成的對準標誌,可高精度地修正膜片的曲折,來穩定地進行曝光。
简体摘要：于膜片基材(20)上的曝光图案形成用区域形成有曝光材料膜(21)之膜片(2)中,于其宽度方向之两侧边缘部至少一方涂布了有色煅烧材料、有色光硬化性材料或有色墨水而形成了侧部涂布膜(22),并借由对准标志形成部(14)照射激光光以形成对准标志(2a),而使用该对准标志(2a)来侦测膜片曲折,以调整遮罩(12)的位置。借此,对在膜片基材上的曝光图案形成区域形成有曝光材料膜之膜片进行连续曝光之际,容易形成对准标志以及容易侦测所形成的对准标志,可高精度地修正膜片的曲折,来稳定地进行曝光。

34. 发明专利

TW201222167A 曝光裝置 EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
简体标题：曝光设备 EXPOSURE APPARATUS
公开(公告)号：TW201222167A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100135783
申请日：2011-10-03
申请人： V科技股份有限公司
发明人：新井敏成 , 橋本和重
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G02B5/04 , G02B27/26 , G02B27/283 , G03F7/7035 , G03F7/70566
摘要：於曝光裝置(1)設有極化分光器(15),其自光源(11)入射進來曝光光線,並將該入射光分割成P偏光的直線偏光及S偏光的直線偏光之曝光光線。而該極化分光器,係設置成能以曝光光線的光軸為旋轉中心旋轉,且可設定在相對於該旋轉中心的反射透射面之方向相差90�之第1位置與第2位置。而將極化分光器的位置於第1位置與第2位置進行切換,從而可選擇性地射出P偏光及S偏光的直線偏光之曝光光線雙方。因此,可得到一種無須使裝置整體大型化,即可選擇性地射出P偏光及S偏光的直線偏光之曝光光線雙方之曝光裝置。
简体摘要：于曝光设备(1)设有极化分光器(15),其自光源(11)入射进来曝光光线,并将该入射光分割成P偏光的直线偏光及S偏光的直线偏光之曝光光线。而该极化分光器,系设置成能以曝光光线的光轴为旋转中心旋转,且可设置在相对于该旋转中心的反射透射面之方向相差90�之第1位置与第2位置。而将极化分光器的位置于第1位置与第2位置进行切换,从而可选择性地射出P偏光及S偏光的直线偏光之曝光光线双方。因此,可得到一种无须使设备整体大型化,即可选择性地射出P偏光及S偏光的直线偏光之曝光光线双方之曝光设备。

35. 发明专利

TW201214022A 光罩、使用該光罩之雷射退火裝置及曝光裝置 PHOTOMASK, LASER BEAM ANNEALING APPARATUS AND EXPOSURE APPARATUS THEREWITH 审中-公开
简体标题：光罩、使用该光罩之激光退火设备及曝光设备 PHOTOMASK, LASER BEAM ANNEALING APPARATUS AND EXPOSURE APPARATUS THEREWITH
公开(公告)号：TW201214022A
公开(公告)日：2012-04-01
申请号：TW100120270
申请日：2011-06-10
申请人： V科技股份有限公司
发明人：佃中誠 , 岩本正實 , 橋本和重
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F1/42 , G03F1/50 , H01L21/0268
摘要：本發明關於一種光罩、使用該光罩之雷射退火裝置及曝光裝置，該光罩具備有：複數罩幕圖案，係以一定的配列間距形成於與基板之搬送方向呈交叉之方向，來讓光線通過；及複數對位記號，其構造係具備有一對細線，相對於複數罩幕圖案於基板搬送方向相互地相距一定距離而配置在與基板搬送方向相反側之位置處，且於一對細線間所預先設定之基準位置係相互地朝基板搬送方向的交叉方向偏移預設距離之狀態下所形成，其中該一對細線係具有相等於基板上所設置之複數圖案之與基板搬送方向呈交叉方向之配列間距的整數倍之間隔，而平行地形成於基板搬送方向。藉此，即便是將光線照射在偏移至同類基板之與基板搬送方向呈交叉方向的位置處之情況，仍可良好地追隨移動中的基板。
简体摘要：本发明关于一种光罩、使用该光罩之激光退火设备及曝光设备，该光罩具备有：复数罩幕图案，系以一定的配列间距形成于与基板之搬送方向呈交叉之方向，来让光线通过；及复数对位记号，其构造系具备有一对细线，相对于复数罩幕图案于基板搬送方向相互地相距一定距离而配置在与基板搬送方向相反侧之位置处，且于一对细线间所预先设置之基准位置系相互地朝基板搬送方向的交叉方向偏移默认距离之状态下所形成，其中该一对细线系具有相等于基板上所设置之复数图案之与基板搬送方向呈交叉方向之配列间距的整数倍之间隔，而平行地形成于基板搬送方向。借此，即便是将光线照射在偏移至同类基板之与基板搬送方向呈交叉方向的位置处之情况，仍可良好地追随移动中的基板。

36. 发明专利

TW201202858A 曝光裝置 EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
简体标题：曝光设备 EXPOSURE APPARATUS
公开(公告)号：TW201202858A
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：TW099139851
申请日：2010-11-19
申请人： V科技股份有限公司
发明人：水村通伸 , 橋本和重 , 佃中誠
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70275
摘要：本發明關於一種曝光裝置，其具備有：光罩，係形成有與被曝光在台座上所保持之TFT基板的面之曝光圖案相同形狀的遮罩圖案；鏡片組裝體，係在與光罩及台座上所保持之TFT基板的面呈平行之面內配列有複數單位鏡片群，其中該複數單位鏡片群的結構為於光罩的法線方向上配置有複數凸鏡片，以便能夠使分別形成於光罩之遮罩圖案的等倍正立像成像在TFT基板表面；及移動機構，係使該鏡片組裝體在與光罩及台座上的TFT基板的面呈平行之面內移動。
简体摘要：本发明关于一种曝光设备，其具备有：光罩，系形成有与被曝光在台座上所保持之TFT基板的面之曝光图案相同形状的遮罩图案；镜片组装体，系在与光罩及台座上所保持之TFT基板的面呈平行之面内配列有复数单位镜片群，其中该复数单位镜片群的结构为于光罩的法线方向上配置有复数凸镜片，以便能够使分别形成于光罩之遮罩图案的等倍正立像成像在TFT基板表面；及移动机构，系使该镜片组装体在与光罩及台座上的TFT基板的面呈平行之面内移动。

37. 发明专利

TW201035691A 凸狀圖樣形成方法、曝光裝置及光罩 METHOD OF FORMING CONVEX PATTERN, EXPOSURE APPARATUS AND PHOTOMASK 审中-公开
简体标题：凸状图样形成方法、曝光设备及光罩 METHOD OF FORMING CONVEX PATTERN, EXPOSURE APPARATUS AND PHOTOMASK
公开(公告)号：TW201035691A
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：TW098140732
申请日：2009-11-30
申请人： V科技股份有限公司
发明人：梶山康一 , 水村通伸 , 橋本和重
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G02F1/133516 , G02F1/13394 , G02F2001/13396 , G03F7/203 , G03F7/70283
摘要：本發明係一種針對塗佈有正片型感光材料之基板進行曝光的光罩,其中該光罩係於透明基板以特定間隔至少形成有:第1遮罩圖樣群,係以對應於基板上高度相異之2種凸狀圖樣形成部的間隔,而具有面積約略等同於凸狀圖樣之橫剖面積的第1遮光圖樣;以及第2遮罩圖樣群,係以對應於2種凸狀圖樣形成部中高度較高之凸狀圖樣形成部而具有特定面積之第2遮光圖樣以及對應於高度較低之凸狀圖樣形成部而具有開口圖樣。藉此,能讓高度相異之複數種凸狀圖樣的頂部形成為約略半圓球面狀。
简体摘要：本发明系一种针对涂布有正片型感光材料之基板进行曝光的光罩,其中该光罩系于透明基板以特定间隔至少形成有:第1遮罩图样群,系以对应于基板上高度相异之2种凸状图样形成部的间隔,而具有面积约略等同于凸状图样之横剖面积的第1遮光图样;以及第2遮罩图样群,系以对应于2种凸状图样形成部中高度较高之凸状图样形成部而具有特定面积之第2遮光图样以及对应于高度较低之凸状图样形成部而具有开口图样。借此,能让高度相异之复数种凸状图样的顶部形成为约略半圆球面状。

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