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    • 34. 发明专利
    • Sensoranordnung zur Positionserfassung und Verfahren zum Unterstützen des Bestimmens der Position eines Objekts
    • DE112016000720B4
    • 2022-12-29
    • DE112016000720
    • 2016-03-09
    • IBM
    • HAEBERLE WALTERPANTAZI ANGELIKISEBASTIAN ABUTUMA TOMAS
    • G01V3/08A61B5/06G01B7/14G01D5/16G01R33/09
    • Sensoranordnung zur Positionserfassung, aufweisendein erstes magnetoresistives Element (1) und ein zweites magnetoresistives Element (2),eine Magnetfeldquelle (3), die ein Magnetfeld mit einem ersten Magnetpol (N) und einem zweiten Magnetpol (S) bereitstellt, undeine Messeinheit,wobei die Magnetfeldquelle (3) zwischen dem ersten magnetoresistiven Element (1) und dem zweiten magnetoresistiven Element (2) angeordnet ist, wobei der erste Magnetpol (N) dem ersten magnetoresistiven Element (1) zugewandt ist und der zweite Magnetpol (S) dem zweiten magnetoresistiven Element (2) zugewandt ist,wobei das erste magnetoresistive Element (1) in dem Magnetfeld angeordnet ist und ein erstes Ausgangssignal (R1) bereitstellt, das von einer Position des ersten magnetoresistiven Elements (1) in Bezug auf die Magnetfeldquelle (3) abhängt,wobei das zweite magnetoresistive Element (2) in dem Magnetfeld angeordnet ist und ein zweites Ausgangssignal (R2) bereitstellt, das von einer Position des zweiten magnetoresistiven Elements (2) in Bezug auf die Magnetfeldquelle (3) abhängt,wobei die Messeinheit dafür ausgelegt ist, eine Position der Magnetfeldquelle (3) in Bezug auf das erste und das zweite magnetoresistive Element (1, 2) abhängig von dem ersten Ausgangssignal (R1) und dem zweiten Ausgangssignal (R2) zu bestimmen,wobei jedes der magnetoresistiven Elemente (1, 2) einen Stapel (11) von Schichten aufweist, einschließlich mindestens einer leitenden Schicht (112) zwischen zwei magnetischen Schichten (111, 113), wobei diese Schichten eine Längsausdehnung (L) entlang einer Längsachse (X) und eine seitliche Ausdehnung entlang einer Querachse (Y) haben,wobei die Magnetfeldquelle eine Dipolachse (DA) hat, die durch den ersten und den zweiten Magnetpol (N, S) definiert wird, die sich entlang einer vertikalen Achse (Z) senkrecht zu einer Ebene erstreckt, die durch die Längsachse (X) und die Querachse (Y) definiert wird,wobei die Sensoranordnung zusätzlich aufweist:mehrere erste magnetoresistive Elemente (1), die in dem Magnetfeld in einer Reihe entlang der Längsachse (X) angeordnet sind und dem ersten Magnetpol (N) zugewandt sind, undinsbesondere zusätzlich mehrere zweite magnetoresistive Elemente (2), die in dem Magnetfeld in einer Reihe entlang der Längsachse (X) angeordnet sind und dem zweiten Magnetpol (S) zugewandt sind, wobei die Magnetfeldquelle (3) in Bezug auf die mehreren ersten magnetoresistiven Elemente (1) so dimensioniert ist, dass das Magnetfeld gleichzeitig immer nur ein einziges (1a) der mehreren ersten magnetoresistiven Elemente (1) beeinflusst, aber nicht die angrenzenden ersten magnetoresistiven Elemente (1b, 1c),wobei insbesondere die Magnetfeldquelle (3) ein Dauermagnet ist, der eine Breite (W) hat, die kleiner als die Längsausdehnung (L) der ersten magnetoresistiven Elemente (1) ist,wobei die Messeinheit dafür ausgelegt ist, das einzelne erste magnetoresistive Element (1a) von den mehreren magnetoresistiven Elementen (1) zu identifizieren, das eine Änderung in seinem ersten Ausgangssignal (R1) zeigt, wobei sich diese Änderung daraus ergibt, dass sich die Magnetfeldquelle (3) an dem einzelnen ersten magnetoresistiven Element (1a) vorbeibewegt, wobei die Messeinheit dafür ausgelegt ist, die Position (x) entlang der Längsachse (X) von einer bekannten Position des einzelnen ersten magnetoresistiven Elements (1a) in der Reihe der mehreren ersten magnetoresistiven Elemente (1) abzuleiten.
    • 38. 发明专利
    • Resistive memory element based on oxygen-doped amorphous carbon
    • GB2516841A
    • 2015-02-11
    • GB201313718
    • 2013-07-31
    • IBM
    • ELEFTHERIOU EVANGELOS STAVROSMARCHIORI CHIARASANTINI CLAUDIASEBASTIAN ABUDELLMANN LAURENT A
    • G11C13/00C23C16/26G11C11/56H01L45/00
    • A resistive memory element preferably a resistive read only memory element (RRAM), comprising a resistively switchable material 14 coupled to two conductive electrodes 12, 16, wherein the resistively switchable material 14 is an amorphous compound comprising 5 carbon and oxygen, the C:O stoichiometric ratio being a range of 1:0.30 to 1:0.80 and preferably in the range 1:0.4 to 0:0.6. The properties of the switching material are determined by the presence of the sp2 bonds which are conducting and the sp3 bonds which are insulating. Preferably the ratio of C-C sp2 bonds to C-C sp3 bonds in the resistively switching material is less than 0.4 preferably less than 0.2 or 0.1 . The resistively switching material may be doped with silicon, hydrogen of nitrogen and may be of thickness 2nm to 30nm. The electrodes may consist of differing materials in contact with the resistively switching material and made from Tungsten, Platinum, graphite, graphene and aluminium. The resistive memory element may comprise a patterned SiO2 insulating layer over an electrode (12, figure 3) to form a cavity enabling a conformal layer of restively switching material to be formed (14, figure 3). Programming of storage information is achieved by a method of applying a voltage pulse between the conductive electrodes and can be unipolar or bipolar. The fabrication process includes a method whereby reactive sputtering in a chamber comprising a graphite target in the presence of oxygen O2 and Argon Ar gases in a plasma state such that oxygenated amorphous material (a-C:O ) is deposited on the conductive electrode 12 (see figure 4).
    • 39. 发明专利
    • Phasenänderungs-Speicherzellen
    • DE102014108256A1
    • 2014-12-18
    • DE102014108256
    • 2014-06-12
    • IBM
    • SEBASTIAN ABUKREBS DANIEL
    • H01L27/24G11C13/00
    • Es werden Phasenänderungs-Speicherzellen 20, 40, 80, 90 zum Speichern von Daten in einer Vielzahl programmierbarer Zellzustände bereitgestellt. Ein Phasenänderungsmaterial 21, 43, 81, 91 befindet sich zwischen einer ersten und zweiten Elektrode zum Anlegen einer Lesespannung an das Phasenänderungsmaterial, um den programmierten Zellzustand auszulesen. Eine elektrisch leitende Komponente 26, 42, 84, 94 erstreckt sich in einer Richtung zwischen den Elektroden in Kontakt mit dem Phasenänderungsmaterial 21, 43, 81, 91. Die elektrisch leitende Komponente 26, 42, 84, 94 ist so angeordnet, dass sie einem durch die Lesespannung erzeugten Zellstrom einen Strompfad mit einem geringerem Widerstand präsentiert als die amorphe Phase des Phasenänderungsmaterials in einem der Zellzustände, wobei der Strompfad eine Länge aufweist, die von der Größe der amorphen Phase abhängt. Das Volumen der elektrisch leitenden Komponente 26, 42, 84, 94 ist größer als etwa halb so groß wie das des Phasenänderungsmaterials 21, 43, 81, 91. Der Widerstand pro Längeneinheit der elektrisch leitenden Komponente 26, 42, 84, 94 kann in der Richtung des Strompfads variieren, um dadurch eine gewünschtes Zell-Betriebscharakteristik bereitzustellen.