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31. 发明专利

JP2018187536A 二酸化炭素の回収システム及び回収方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018187536A
公开(公告)日：2018-11-29
申请号：JP2017089478
申请日：2017-04-28
申请人：株式会社IHI
发明人：奥野真也 , 中村至高 , 奥原洋人
IPC分类号： B01D53/14 , B01D53/62 , B01D53/78 , B01D53/96 , C01B32/50 , B01D53/18
摘要：【課題】複数の吸収装置を用いた二酸化炭素の回収において、導入されるガスの流量変動に対応して各吸収装置におけるガス流量を常時適正範囲に維持し、処理効率を高める。【解決手段】二酸化炭素の回収システムは、化学吸収法によって二酸化炭素を回収する複数の吸収装置と、導入されるガスを複数の吸収装置に分配して供給可能な供給系と、複数の吸収装置の各々へ供給するガスの流量を調整可能な調整機構と、導入されるガスの流量変動に応じて調整機構を制御して、ガスが供給される吸収装置におけるガスの流量が、吸収装置において効率的に処理可能なガス流量の最小値以上に維持されるように、複数の吸収装置の各々へ供給するガスの流量を変更する制御機構とを有する。【選択図】図1

32. 发明专利

JP6064771B2 二酸化炭素の回収方法及び回収装置有权
标题翻译：回收方法和回收二氧化碳的装置
公开(公告)号：JP6064771B2
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：JP2013093387
申请日：2013-04-26
申请人：株式会社IHI
发明人：奥野真也 , 村本知哉 , 西山裕一 , 上野俊一朗 , 中村至高
IPC分类号： B01D53/62 , C01B32/50 , B01D53/14
CPC分类号： B01D53/343 , B01D53/1406 , B01D53/1425 , B01D53/1475 , B01D53/265 , B01D53/62 , B01D53/78 , B01D53/96 , F23J15/04 , B01D2252/204 , B01D2252/2041 , B01D2252/20436 , B01D2252/20442 , B01D2252/20447 , B01D2252/20478 , B01D2252/20484 , B01D2252/20489 , B01D2258/0283 , B01D2259/65 , B01D2259/652 , Y02C10/06

33. 发明专利

JP5780333B2 二酸化炭素の回収方法及びその装置有权
标题翻译：恢复方法和二氧化碳的装置
公开(公告)号：JP5780333B2
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：JP2014077527
申请日：2014-04-04
申请人：株式会社IHI
发明人：中村至高 , 毛利慎也
IPC分类号： C01B31/20

34. 发明专利

JP5724600B2 二酸化炭素の回収方法及び回収装置有权
公开(公告)号：JP5724600B2
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：JP2011105107
申请日：2011-05-10
申请人：株式会社IHI
发明人：奥野真也 , 中村至高
IPC分类号： B01D53/14 , C01B31/20 , B01D53/62
CPC分类号： Y02C10/06 , Y02P20/152

35. 发明专利

JP5708926B2 海水の淡水化システム及びその方法有权
标题翻译：海水淡化系统和海水的方法
公开(公告)号：JP5708926B2
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：JP2011111451
申请日：2011-05-18
申请人：株式会社IHI
发明人：西山裕一 , 村本知哉 , 奥野真也 , 中村至高 , 松澤克明
IPC分类号： B01D1/28 , C02F1/04
CPC分类号： Y02A20/128

36. 发明专利

JP2021178302A 気液接触装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021178302A
公开(公告)日：2021-11-18
申请号：JP2020086026
申请日：2020-05-15
申请人：株式会社IHI
发明人：奥原洋人 , 中村至高 , 池田諒介 , 奥野真也 , 古澤美由紀
IPC分类号： B01J19/32 , B01D53/50 , B01D53/56 , B01D53/62 , B01D53/78 , B01D53/18 , B01J10/00
摘要：【課題】気液接触効率を向上させるのに有利な気液接触装置を提供する。【解決手段】気液接触装置1は、互いに水平方向で連通し、各々が充填材22を設置している複数の領域を有する気液接触部2を備える。充填材22は、各々が当該充填材22への液体Lの供給方向とガスGの供給方向とに平行な板状で、かつ、交互に重ね合わされる第1充填部材50と第2充填部材51とを含み、第1充填部材50および第2充填部材51は、少なくとも一部が波板であり、第1充填部材50の波板の波打ち方向と、第2充填部材51の波板の波打ち方向とは、鉛直方向に対して互いに反対方向に傾斜している。【選択図】図3

37. 发明专利

JP6641844B2 充填材有权
公开(公告)号：JP6641844B2
公开(公告)日：2020-02-05
申请号：JP2015193399
申请日：2015-09-30
申请人：株式会社IHI
发明人：磯良行 , 黄健 , 佐賀真理子 , 松野伸介 , 内田博幸 , 藤原直樹 , 高野健司 , 徳田憲二 , 中村至高
IPC分类号： B01D53/18 , B01J10/00 , B01J19/32

38. 发明专利

JP2020006351A 気液接触装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020006351A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：JP2018132422
申请日：2018-07-12
申请人：株式会社IHI
发明人：奥原洋人 , 中村至高 , 池田諒介 , 奥野真也 , 高野健司
IPC分类号： B01J19/32 , B01D53/62 , B01D53/50 , B01D53/56 , B01D53/18
摘要：【課題】気液接触における圧力損失を抑制しつつ、良好且つ効率的な気液接触が可能な気液接触装置を提供する。【解決手段】気液接触装置は、立位で並列する複数の平板を有する気液接触部と、液体を気液接触部に供給して複数の平板の上方から液体を流下させる液体供給システムと、ガスを前記気液接触部に供給することによって、ガスが前記複数の平板間を横方向に流通するガス供給システムとを有する。液体供給システムは、複数の平板の頂部に設置される液分配構造体を有し、液分配構造体は、複数の溝を有するように形成されたコルゲート状トレーを有する。コルゲート状トレーは、複数の溝に受ける液体を複数の平板の頂部に供給可能な位置に設けられる複数の通液孔を有する。【選択図】図1

39. 发明专利

JP2020006350A 気液接触装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020006350A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：JP2018132417
申请日：2018-07-12
申请人：株式会社IHI
发明人：奥原洋人 , 中村至高 , 池田諒介 , 奥野真也 , 高野健司
IPC分类号： B01D53/62 , B01D53/18 , B01J10/02
摘要：【課題】気液接触における圧力損失を抑制しつつ、良好且つ効率的な気液接触が可能な気液接触装置を提供する。【解決手段】気液接触装置は、気液接触部、液体供給システム及びガス供給システムを有する。気液接触部は、立位で並列する複数の平板を有する。液体供給システムは、複数の平板に上方から液体を供給する液分配器を有する。ガス供給システムによって供給されるガスは、前記複数の平板間を横方向に流通する。液分配器は、複数の散布孔を有する分配トレー、及び、分配トレーに液体を供給する液流入管を有し、液流入管は、分配トレーの内部において外周に向けて液体を放出する出口を有する。【選択図】図1

40. 发明专利

JP2019202253A 逆浸透分離方法及び逆浸透分離装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019202253A
公开(公告)日：2019-11-28
申请号：JP2018097754
申请日：2018-05-22
申请人：株式会社IHI
发明人：奥野真也 , 中村至高
IPC分类号： B01D61/58 , B01D61/08 , B01D61/12
摘要：【課題】高浸透圧液が通過する逆浸透膜モジュールの入口及び出口において、逆浸透膜を間にして流れる高浸透圧液と透過液との浸透圧差を小さく抑え、高浸透圧液及び透過液の浸透圧差の上下動を制御可能な逆浸透分離方法及び逆浸透分離装置を提供する。【解決手段】逆浸透膜11を間にして接する原液側流路12及び透過液側流路13を有する逆浸透膜モジュール10を複数段備え、逆浸透膜モジュール10の原液側流路12の入口側には、加圧ポンプ4により加圧した高圧原液Hiを供給する一方の配管2aが接続され、逆浸透膜モジュール10の透過液側流路13の出口側には、原液側流路12の入口側に加圧して供給した高圧原液Hiの流れに対向して流すべく、原液Hをそのまま供給する他方の配管2bが接続され、他方の配管2bには、透過液側流路13の出口側に供給する原液Hの流量を調整する流量計5b及び流量調整弁6が配置されている。【選択図】図1

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