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31. 发明专利

TW201402626A 聚合物、含該聚合物之組成物、及單層塗佈型水平配向薄膜审中-公开
简体标题：聚合物、含该聚合物之组成物、及单层涂布型水平配向薄膜
公开(公告)号：TW201402626A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102108060
申请日：2013-03-07
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：櫻葉汀丹尼爾 , SAHADE, DANIEL ANTONIO , 湯川昇志郎 , YUKAWA, SHOJIRO
IPC分类号： C08F224/00 , C08F220/30 , C08L33/14 , C08L37/00 , G02F1/1337 , C07D307/58
CPC分类号： C07D307/58 , C08F220/30 , C08F224/00 , C08L2203/16
摘要：本發明為一種聚合物，其特徵為：含有下述式[1a]、[1b]及[1c]所表示之重覆單元。藉由上述聚合物，能夠以簡單的程序製作出單層塗佈型水平配向薄膜。 [式中，X及Y各自獨立地為下述式[2]或[3]所表示之基， M1及M2分別為下述式[4]及[5]所表示之基， A為碳數2~15之直鏈狀或分支狀烷基，m、n及p分別為滿足0＜m＜1、0＜n＜1、0≦p≦0.5，且m+n+p≦1之數，q及r各自獨立地為2~9之整數]。
简体摘要：本发明为一种聚合物，其特征为：含有下述式[1a]、[1b]及[1c]所表示之重复单元。借由上述聚合物，能够以简单的进程制作出单层涂布型水平配向薄膜。 [式中，X及Y各自独立地为下述式[2]或[3]所表示之基， M1及M2分别为下述式[4]及[5]所表示之基， A为碳数2~15之直链状或分支状烷基，m、n及p分别为满足0＜m＜1、0＜n＜1、0≦p≦0.5，且m+n+p≦1之数，q及r各自独立地为2~9之整数]。

32. 发明专利

TWI633148B 硬化膜形成組成物、配向材料及相位差材料有权
简体标题：硬化膜形成组成物、配向材料及相位差材料
公开(公告)号：TWI633148B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW102125060
申请日：2013-07-12
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：畑中真 , HATANAKA, TADASHI , 石田智久 , ISHIDA, TOMOHISA , 湯川昇志郎 , YUKAWA, SHOJIRO
IPC分类号： C08L33/26 , G02F1/1337 , G02B5/30 , G02B1/04

33. 发明专利

TWI627210B 硬化膜形成組成物、配向材及相位差材有权
简体标题：硬化膜形成组成物、配向材及相位差材
公开(公告)号：TWI627210B
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：TW102110902
申请日：2013-03-27
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：畑中真 , HATANAKA, TADASHI , 石田智久 , ISHIDA, TOMOHISA , 湯川昇志郎 , YUKAWA, SHOJIRO
IPC分类号： C08L101/12 , C09D4/06 , G02F1/1337 , G02B5/30

34. 发明专利

TW201803910A 硬化膜形成組成物审中-公开
简体标题：硬化膜形成组成物
公开(公告)号：TW201803910A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106110877
申请日：2017-03-30
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：湯川昇志郎 , YUKAWA, SHOJIRO , 星野有輝 , HOSHINO, YUKI , 竹田佳代 , TAKEDA, KAYO
IPC分类号： C08F22/38 , C08G59/40 , C08L33/24
CPC分类号： C08F22/38 , C08L33/24 , C09D7/40 , C09D133/24 , C09D201/04
摘要：供所形成之影像形成用底層膜具有高的撥液性(疏液性)，且即使少的紫外線曝光量亦可使親撥液性容易地變化之硬化膜形成組成物及使用該組成物所得到的硬化膜。一種硬化膜形成用樹脂組成物，其特徵為含有作為(A)成分之包含來自具有下述式(1)之結構的第1單體之結構單位的聚合物；作為(B)成分之成分(A)以外之聚合物，且其係基於聚合物之總重量基準的氟含有率少於(A)成分之聚合物；作為(C)成分之光酸產生劑；與溶劑。 (式中，R1表示氫或甲基，R2表示可與其所鍵結之氧原子一起脫離的含氟基)。
简体摘要：供所形成之影像形成用底层膜具有高的拨液性(疏液性)，且即使少的紫外线曝光量亦可使亲拨液性容易地变化之硬化膜形成组成物及使用该组成物所得到的硬化膜。一种硬化膜形成用树脂组成物，其特征为含有作为(A)成分之包含来自具有下述式(1)之结构的第1单体之结构单位的聚合物；作为(B)成分之成分(A)以外之聚合物，且其系基于聚合物之总重量基准的氟含有率少于(A)成分之聚合物；作为(C)成分之光酸产生剂；与溶剂。 (式中，R1表示氢或甲基，R2表示可与其所键结之氧原子一起脱离的含氟基)。

35. 发明专利

TW201726798A 硬化膜形成組成物、配向材及相位差材审中-公开
简体标题：硬化膜形成组成物、配向材及相位差材
公开(公告)号：TW201726798A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW106109788
申请日：2013-03-27
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：畑中真 , HATANAKA, TADASHI , 石田智久 , ISHIDA, TOMOHISA , 湯川昇志郎 , YUKAWA, SHOJIRO
IPC分类号： C08L33/10 , C08K5/101 , C08K5/544 , G02B1/04 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： C09D4/06 , C08L2312/00 , C09D101/284 , C09D133/066 , C09D201/02 , G02B5/3016 , C08K5/101 , C08K5/544
摘要：本發明提供一種形成具備優異之光反應效率及耐溶劑性與高密著性之硬化膜的硬化膜形成組成物，且提供光配向用之配向材及使用該配向材所形成之相位差材。本發明之硬化膜形成組成物係含有(A)具有光配向性基與由羥基、羧基及胺基選出之任一個取代基之化合物、(B)具有由羥基、羧基及胺基選出之一種或兩種以上之取代基之親水性聚合物、以及(C)具有胺基之烷氧基矽烷化合物。使用此硬化膜形成組成物形成硬化膜，利用光配向技術形成配向材。將聚合性液晶塗佈於配向材上，使其硬化獲得相位差材。
简体摘要：本发明提供一种形成具备优异之光反应效率及耐溶剂性与高密着性之硬化膜的硬化膜形成组成物，且提供光配向用之配向材及使用该配向材所形成之相位差材。本发明之硬化膜形成组成物系含有(A)具有光配向性基与由羟基、羧基及胺基选出之任一个取代基之化合物、(B)具有由羟基、羧基及胺基选出之一种或两种以上之取代基之亲水性聚合物、以及(C)具有胺基之烷氧基硅烷化合物。使用此硬化膜形成组成物形成硬化膜，利用光配向技术形成配向材。将聚合性液晶涂布于配向材上，使其硬化获得相位差材。

36. 发明专利

TWI568755B 聚合物、含該聚合物之組成物、及單層塗佈型水平配向薄膜有权
简体标题：聚合物、含该聚合物之组成物、及单层涂布型水平配向薄膜
公开(公告)号：TWI568755B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW102108060
申请日：2013-03-07
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：櫻葉汀丹尼爾 , SAHADE, DANIEL ANTONIO , 湯川昇志郎 , YUKAWA, SHOJIRO
IPC分类号： C08F224/00 , C08F220/30 , C08L33/14 , C08L37/00 , G02F1/1337 , C07D307/58
CPC分类号： C07D307/58 , C08F220/30 , C08F224/00 , C08L2203/16

37. 发明专利

TWI548943B 正型光阻組成物及微透鏡之製造方法有权
简体标题：正型光阻组成物及微透镜之制造方法
公开(公告)号：TWI548943B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW100102644
申请日：2011-01-25
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：湯川昇志郎 , YUKAWA, SHOJIRO , 荒瀨慎哉 , ARASE, SHINYA , 武山敏明 , TAKEYAMA, TOSHIAKI , 遠藤勇樹 , ENDO, YUKI , 毛呂健夫 , MORO, TAKEO
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/023 , C08G59/32 , G02B3/00
CPC分类号： G02B3/0012 , C07D405/06 , C07D405/14 , G03F7/0226 , G03F7/0233

38. 发明专利

TW201609924A 相位差材料形成用樹脂組成物、配向材料及相位差材料审中-公开
简体标题：相位差材料形成用树脂组成物、配向材料及相位差材料
公开(公告)号：TW201609924A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104106495
申请日：2015-03-02
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：湯川昇志郎 , YUKAWA, SHOJIRO , 伊藤潤 , ITO, JUN , 後藤耕平 , GOTO, KOHEI , 菅野裕太 , KANNO, YUTA , 大村浩之 , OMURA, HIROYUKI , 畑中真 , HATANAKA, TADASHI
IPC分类号： C08L33/00 , C08F20/18 , G02B1/04 , G02F1/1337 , G02B5/30 , G02F1/13363
CPC分类号： C08F220/64 , C08F2/38 , C08F120/58 , C08F212/08 , C08F220/14 , C08F220/20 , C08F220/36 , C08F220/58 , C08F2222/1013 , C08F2222/1026 , C08L25/14 , C08L33/02 , G02B1/04 , G02B1/08 , G02B5/3083 , G02F1/13363 , G02F1/133711 , G02F1/133788 , G02F2001/133631 , G02F2001/133635 , C08L33/08 , C08F220/06
摘要：本發明提供一種用於提供具有優異的光反應效率、高感度且可使聚合性液晶配向之配向材料之相位差材料形成用樹脂組成物。本發明有關特徵為含有具有熱反應性部位係直接鍵結或介隔連結基連接之光配向性基之樹脂[(A)成分]之熱可硬化之相位差材料形成用樹脂組成物、特徵係使用該組成物獲得之配向材料、及特徵係使用由該組成物獲得之硬化膜而形成之相位差材料。
简体摘要：本发明提供一种用于提供具有优异的光反应效率、高感度且可使聚合性液晶配向之配向材料之相位差材料形成用树脂组成物。本发明有关特征为含有具有热反应性部位系直接键结或介隔链接基连接之光配向性基之树脂[(A)成分]之热可硬化之相位差材料形成用树脂组成物、特征系使用该组成物获得之配向材料、及特征系使用由该组成物获得之硬化膜而形成之相位差材料。

39. 发明专利

TW201602144A 硬化膜形成組成物、配向材及相位差材审中-公开
简体标题：硬化膜形成组成物、配向材及相位差材
公开(公告)号：TW201602144A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104106496
申请日：2015-03-02
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：伊藤潤 , ITO, JUN , 湯川昇志郎 , YUKAWA, SHOJIRO , 菅野裕太 , KANNO, YUTA , 後藤耕平 , GOTO, KOHEI , 畑中真 , HATANAKA, TADASHI
IPC分类号： C08F290/06 , C08L67/07 , C08L75/16 , C08L69/00 , G02F1/1337 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： C09D4/06 , C08F220/20 , C08F220/36 , C08F251/02 , C08F265/04 , C08F265/06 , C08F283/02 , C08F285/00 , C08F2222/1013 , C08F2222/1026 , C09K19/062 , C09K19/2028 , C09K19/22 , C09K19/56 , C09K2019/0444 , C09K2019/0448 , C09K2019/2035 , G02B1/04 , G02B1/08 , G02B5/3016 , G02B5/3083 , G02F1/133788
摘要：提供適合於形成具有優異的液晶配向性之硬化膜之硬化膜形成組成物。含有(A)一種或複數種具有具光配向性部位及熱反應性部位之基與聚合性基之單體、(B)下述(B-1)至(B-3)所成群組中選出的至少一種之聚合物[(B-1)：至少具有2個由羥基、羧基、醯胺基、胺基、烷氧基矽烷基及下述式(2)所表示之基所成群組中選出的至少一個基的聚合物、(B-2)：可與(A)成分之熱反應性部位進行熱反應且可自我交聯之聚合物、及(B-3)：三聚氰胺甲醛樹脂]、以及(C)交聯劑之硬化膜形成組成物、以及使用該硬化膜形成組成物形成的配向材或相位差材。
简体摘要：提供适合于形成具有优异的液晶配向性之硬化膜之硬化膜形成组成物。含有(A)一种或复数种具有具光配向性部位及热反应性部位之基与聚合性基之单体、(B)下述(B-1)至(B-3)所成群组中选出的至少一种之聚合物[(B-1)：至少具有2个由羟基、羧基、酰胺基、胺基、烷氧基硅烷基及下述式(2)所表示之基所成群组中选出的至少一个基的聚合物、(B-2)：可与(A)成分之热反应性部位进行热反应且可自我交联之聚合物、及(B-3)：三聚氰胺甲醛树脂]、以及(C)交联剂之硬化膜形成组成物、以及使用该硬化膜形成组成物形成的配向材或相位差材。

40. 发明专利

TW201529669A 硬化膜形成組成物、配向材料及相位差材料审中-公开
简体标题：硬化膜形成组成物、配向材料及相位差材料
公开(公告)号：TW201529669A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103135967
申请日：2014-10-17
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：伊藤潤 , ITO, JUN , 湯川昇志郎 , YUKAWA, SHOJIRO , 後藤耕平 , GOTO, KOHEI , 畑中真 , HATANAKA, TADASHI
IPC分类号： C08L101/06 , G02F1/1337 , G02F1/13363
CPC分类号： G02F1/133788 , C08F220/58 , G02B5/3083 , G02F1/133711 , C08F220/14 , C08F2220/1858 , C08F220/06 , C08F212/08
摘要：提供適於形成液晶配向性與密著耐久性優良之硬化膜的硬化膜形成組成物、提供配向材料、使用該配向材料提供相位差材料。硬化膜形成組成物，係含有：(A)由具有光配向性基與選自由羥基、羧基、胺基、烷氧基矽烷基及下述式(2) 表示之基所成群組的一者之低分子化合物以及具有光配向性基與選自由羥基、羧基、醯胺基、胺基及烷氧基矽烷基及下述式(2)表示之基所成群組的取代基之聚合物中選出之至少一種；(B)具有由羥基、羧基、胺基、烷氧基矽烷基及上述式(2)表示之基中選出之至少一個取代基的聚合物；(C)交聯劑；以及(D)1分子中具有至少1個包含C=C雙鍵之聚合性基，且具有至少1個N-烷氧基甲基之低分子化合物。使用該硬化膜形成組成物，形成硬化膜，利用光配向技術來形成配向材料。於配向材料之上塗佈聚合性液晶，使其硬化而得到相位差材料。
简体摘要：提供适于形成液晶配向性与密着耐久性优良之硬化膜的硬化膜形成组成物、提供配向材料、使用该配向材料提供相位差材料。硬化膜形成组成物，系含有：(A)由具有光配向性基与选自由羟基、羧基、胺基、烷氧基硅烷基及下述式(2) 表示之基所成群组的一者之低分子化合物以及具有光配向性基与选自由羟基、羧基、酰胺基、胺基及烷氧基硅烷基及下述式(2)表示之基所成群组的取代基之聚合物中选出之至少一种；(B)具有由羟基、羧基、胺基、烷氧基硅烷基及上述式(2)表示之基中选出之至少一个取代基的聚合物；(C)交联剂；以及(D)1分子中具有至少1个包含C=C双键之聚合性基，且具有至少1个N-烷氧基甲基之低分子化合物。使用该硬化膜形成组成物，形成硬化膜，利用光配向技术来形成配向材料。于配向材料之上涂布聚合性液晶，使其硬化而得到相位差材料。

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