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31. 发明专利

TW201328896A 印刷裝置及印刷方法审中-公开
简体标题：印刷设备及印刷方法
公开(公告)号：TW201328896A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101134354
申请日：2012-09-19
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：古村智之 , KOMURA, TOMOYUKI , 增市幹雄 , MASUICHI, MIKIO , 川越理史 , KAWAGOE, MASAFUMI , 田中哲夫 , TANAKA, TETSUO
IPC分类号： B41M1/02 , B41M3/12
CPC分类号： B41F1/06 , B41F1/16 , B41F1/54 , B41M1/00
摘要：本發明係關於如下之印刷技術，即，藉由使搭載塗佈層之橡皮布等搭載體之一部分加壓抵接於版，而將塗佈層圖案化並形成圖案層後，藉由使搭載該圖案層之搭載體之一部分加壓抵接於基板，而將圖案層轉印至基板者，其中不論搭載體之厚度如何變化，均利用搭載體穩定地進行高精度之印刷。於圖案化之前，利用橡皮布厚度測量部56實際測量搭載塗佈層CT之橡皮布BL之厚度，基於該實際測量值(第1搭載體厚度)，調整橡皮布BL與版PP之間隔。因此，於將該間隔調整為適合於利用版PP之圖案化之值後，執行塗佈層CT之圖案化。又，對基板SB之圖案層PL之轉印亦與塗佈層CT之圖案化相同。
简体摘要：本发明系关于如下之印刷技术，即，借由使搭载涂布层之橡皮布等搭载体之一部分加压抵接于版，而将涂布层图案化并形成图案层后，借由使搭载该图案层之搭载体之一部分加压抵接于基板，而将图案层转印至基板者，其中不论搭载体之厚度如何变化，均利用搭载体稳定地进行高精度之印刷。于图案化之前，利用橡皮布厚度测量部56实际测量搭载涂布层CT之橡皮布BL之厚度，基于该实际测量值(第1搭载体厚度)，调整橡皮布BL与版PP之间隔。因此，于将该间隔调整为适合于利用版PP之图案化之值后，运行涂布层CT之图案化。又，对基板SB之图案层PL之转印亦与涂布层CT之图案化相同。

32. 发明专利

TW201321197A 圖案形成裝置及圖案形成方法审中-公开
简体标题：图案形成设备及图案形成方法
公开(公告)号：TW201321197A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101134353
申请日：2012-09-19
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：川越理史 , KAWAGOE, MASAFUMI , 增市幹雄 , MASUICHI, MIKIO , 古村智之 , KOMURA, TOMOYUKI , 上野博之 , UENO, HIROYUKI , 中島美佳 , NAKAJIMA, MIYOSHI
IPC分类号： B41F16/00
CPC分类号： B41F16/00 , H05K3/1275 , H05K2203/082
摘要：本發明係於使連接於與開口P(0)鄰接之開口P(+1)的正壓閥關閉之狀態下，將吸附閥自打開狀態切換為關閉狀態，而停止對開口P(+1)供給負壓。於是，於開口P(+1)附近，保持橡皮布BL之力相對於加壓空間SP5內之加壓力逐漸變弱，隨之，加壓空間SP5內之氣體成分流入至橡皮布BL之開口P(+1)之鉛垂上方部分與上表面51a之間，使該橡皮布部分自上表面51a浮起而抵接於版PP之下表面。以上述方式，一方面抑制上述加壓空間SP5內之壓力急遽地變動，並使抵接區域CA自中央部向(+Y)端緣側緩和且穩定地擴幅。
简体摘要：本发明系于使连接于与开口P(0)邻接之开口P(+1)的正压阀关闭之状态下，将吸附阀自打开状态切换为关闭状态，而停止对开口P(+1)供给负压。于是，于开口P(+1)附近，保持橡皮布BL之力相对于加压空间SP5内之加压力逐渐变弱，随之，加压空间SP5内之气体成分流入至橡皮布BL之开口P(+1)之铅垂上方部分与上表面51a之间，使该橡皮布部分自上表面51a浮起而抵接于版PP之下表面。以上述方式，一方面抑制上述加压空间SP5内之压力急遽地变动，并使抵接区域CA自中央部向(+Y)端缘侧缓和且稳定地扩幅。

33. 发明专利

TW201321084A 基板處理裝置、基板處理方法、及噴嘴审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法、及喷嘴
公开(公告)号：TW201321084A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101129171
申请日：2012-08-13
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：前川直嗣 , MAEGAWA, TADASHI , 荒木浩之 , ARAKI, HIROYUKI
IPC分类号： B05C5/02 , B05D1/26
CPC分类号： B05B1/02 , B05B3/02 , B05B13/0228 , B05B17/0607 , B05C11/08 , H01L21/67051 , H01L21/6715
摘要：基板處理裝置包含：基板保持單元，係保持基板；噴射單元，係自複數噴射口分別向保持於上述基板保持單元之基板主面內的複數個撞擊位置噴射處理液液滴；以及液膜形成單元。上述液膜形成單元藉由自複數吐出口分別向保持於上述基板保持單元之基板主面內的複數個液體附著位置吐出保護液，形成覆蓋上述各個不同撞擊位置之複數片保護液液膜。
简体摘要：基板处理设备包含：基板保持单元，系保持基板；喷射单元，系自复数喷射口分别向保持于上述基板保持单元之基板主面内的复数个撞击位置喷射处理液液滴；以及液膜形成单元。上述液膜形成单元借由自复数吐出口分别向保持于上述基板保持单元之基板主面内的复数个液体附着位置吐出保护液，形成覆盖上述各个不同撞击位置之复数片保护液液膜。

34. 发明专利

TWI392045B 基板處理裝置及基板處理方法失效
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI392045B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW097139749
申请日：2008-10-16
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：孫亮 , SUN, LIANG , 羽方滿之 , HAKATA, MITSUYUKI , 厨子卓哉 , ZUSHI, TAKUYA , 篠原正樹 , SHINOHARA, MASAKI , 通口尚 , HIGUCHI, TAKASHI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/30

35. 发明专利

TW201314386A 繪圖裝置及其焦點調整方法审中-公开
简体标题：绘图设备及其焦点调整方法
公开(公告)号：TW201314386A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101113076
申请日：2012-04-12
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：林秀樹 , HAYASHI, HIDEKI , 谷口慎也 , TANIGUCHI, SHINYA
IPC分类号： G03F7/207 , H01L21/027
摘要：本發明係可使觀察光學系統80之虛設基板801與觀察用攝像機803一體地升降。將虛設基板801之上表面801a設定為與平台10上之基板W之表面S大致相同高度，且以使利用觀察攝像機803觀察之虛設基板上表面801a之繪圖光學像最小化之方式，調整光學頭40a之聚焦透鏡431之位置。將此時之光學頭40a與虛設基板上表面801a之距離作為基準距離，實行自動聚焦部441、442之自動聚焦動作。
简体摘要：本发明系可使观察光学系统80之虚设基板801与观察用摄像机803一体地升降。将虚设基板801之上表面801a设置为与平台10上之基板W之表面S大致相同高度，且以使利用观察摄像机803观察之虚设基板上表面801a之绘图光学像最小化之方式，调整光学头40a之聚焦透镜431之位置。将此时之光学头40a与虚设基板上表面801a之距离作为基准距离，实行自动聚焦部441、442之自动聚焦动作。

36. 发明专利

TW201314372A 塗佈裝置审中-公开
简体标题：涂布设备
公开(公告)号：TW201314372A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101121521
申请日：2012-06-15
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：川口靖弘 , KAWAGUCHI, YASUHIRO , 上野幸一 , JONO, KOICHI , 高木善則 , TAKAGI, YOSHINORI
IPC分类号： G03F7/16
摘要：本發明係提供一種塗佈裝置，其即使在對翹曲度大的基板塗佈塗佈液的情況下，仍可精度佳地塗佈塗佈液。本發明係基板藉由基板搬送機構14搬送至載台12上，並吸附保持於其保持面30。然後，在使狹縫噴嘴41中的塗佈液吐出用狹縫接近吸附保持於載台12之保持面30上之基板表面的狀態下，使此狹縫噴嘴41相對於基板移動，藉此將塗佈液塗佈於基板表面。於藉由狹縫噴嘴41將塗佈液塗佈於基板之期間，在利用複數個吸盤71吸附保持基板背面的複數個位置的狀態下，將基板壓抵於載台12之保持面30。
简体摘要：本发明系提供一种涂布设备，其即使在对翘曲度大的基板涂布涂布液的情况下，仍可精度佳地涂布涂布液。本发明系基板借由基板搬送机构14搬送至载台12上，并吸附保持于其保持面30。然后，在使狭缝喷嘴41中的涂布液吐出用狭缝接近吸附保持于载台12之保持面30上之基板表面的状态下，使此狭缝喷嘴41相对于基板移动，借此将涂布液涂布于基板表面。于借由狭缝喷嘴41将涂布液涂布于基板之期间，在利用复数个吸盘71吸附保持基板背面的复数个位置的状态下，将基板压抵于载台12之保持面30。

37. 发明专利

TWI390623B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI390623B
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：TW098109476
申请日：2009-03-24
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：中島保典 , NAKAJIMA, YASUNORI , 森祐介 , MORI, YUSUKE
IPC分类号： H01L21/306 , C23F1/08
CPC分类号： B08B3/08 , B08B3/048

38. 发明专利

TW201312677A 基板處理裝置及處理液賦予方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及处理液赋予方法
公开(公告)号：TW201312677A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101113401
申请日：2012-04-13
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：大宅宗明 , OE, MUNEAKI , 高村幸宏 , TAKAMURA, YUKIHIRO , 相良秀一 , SAGARA, SHUICHI , 伊藤隆介 , ITO, RYUSUKE
IPC分类号： H01L21/67
摘要：本發明提供一種可抑制自移動之噴嘴吐出之處理液之流量變動之技術。本發明之基板處理裝置20係包括：基板保持部30，其大致水平地保持基板200；主掃描機構40，其包含沿相對於基板200大致平行之主掃描方向延伸之主掃描機構導引部42、及由主掃描機構導引部42以沿主掃描方向可移動地支持之滑件44；吐出部50，其由滑件44以沿主掃描方向可移動地支持，並向基板200吐出塗佈液；可撓性之塗佈液配管80b，其連接於吐出部50上並且向吐出部50導引塗佈液；及可動配管支持部100，其支持塗佈液配管80b之中途之部分，並且其朝向追隨藉由主掃描之反覆進行引起之滑件44之週期性動作而週期地變化。
简体摘要：本发明提供一种可抑制自移动之喷嘴吐出之处理液之流量变动之技术。本发明之基板处理设备20系包括：基板保持部30，其大致水平地保持基板200；主扫描机构40，其包含沿相对于基板200大致平行之主扫描方向延伸之主扫描机构导引部42、及由主扫描机构导引部42以沿主扫描方向可移动地支持之滑件44；吐出部50，其由滑件44以沿主扫描方向可移动地支持，并向基板200吐出涂布液；可挠性之涂布液配管80b，其连接于吐出部50上并且向吐出部50导引涂布液；及可动配管支持部100，其支持涂布液配管80b之中途之部分，并且其朝向追随借由主扫描之反复进行引起之滑件44之周期性动作而周期地变化。

39. 发明专利

TW201309394A 圖案形成裝置审中-公开
简体标题：图案形成设备
公开(公告)号：TW201309394A
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW101114274
申请日：2012-04-20
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：岩島正信 , IWASHIMA, MASANOBU , 真田雅和 , SANADA, MASAKAZU , 上野博之 , UENO, HIROYUKI
IPC分类号： B05C5/02 , B05C11/11
CPC分类号： B05C5/0212 , B05C17/00516
摘要：本發明提供一種於在基板上塗佈塗佈液而形成特定圖案之圖案形成技術中，能夠以較高之壓力擠出塗佈液，且可適當進行噴出控制之技術。噴出噴嘴31之前端部成為楔型，且於其前端具有進而突出之突起部310。突起部310之下表面310b成為與基板接近對向之基板對向面，自其端部，自基板W逐漸離開之噴出口配設面310c上升。於噴出口配設面310c中鄰接於基板對向面310b之位置上，設置有用以噴出塗佈液之噴出口311。噴出口311之周圍及塗佈液供給路徑312之周圍壁面係一體形成。
简体摘要：本发明提供一种于在基板上涂布涂布液而形成特定图案之图案形成技术中，能够以较高之压力挤出涂布液，且可适当进行喷出控制之技术。喷出喷嘴31之前端部成为楔型，且于其前端具有进而突出之突起部310。突起部310之下表面310b成为与基板接近对向之基板对向面，自其端部，自基板W逐渐离开之喷出口配设面310c上升。于喷出口配设面310c中邻接于基板对向面310b之位置上，设置有用以喷出涂布液之喷出口311。喷出口311之周围及涂布液供给路径312之周围壁面系一体形成。

40. 发明专利

TWI387041B 基板冷卻方法及基板冷卻裝置有权
简体标题：基板冷却方法及基板冷却设备
公开(公告)号：TWI387041B
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：TW097131017
申请日：2008-08-14
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：柿村崇 , KAKIMURA, TAKASHI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/02

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