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21. 发明专利

TW201740423A 帶電粒子束裝置、用於帶電粒子束裝置的系統、及用於操作帶電粒子束裝置的方法审中-公开
简体标题：带电粒子束设备、用于带电粒子束设备的系统、及用于操作带电粒子束设备的方法
公开(公告)号：TW201740423A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106103907
申请日：2017-02-07
申请人： ICT積體電路測試股份有限公司 , ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：拉尼歐史帝芬 , LANIO, STEFAN , 費恩克斯馬蒂亞斯 , FIRNKES, MATTHIAS , 庫克班傑明約翰 , COOK, BENJAMIN JOHN
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/1475 , H01J2237/202 , H01J2237/2446 , H01J2237/2449 , H01J2237/24592
摘要：本揭示提供一種帶電粒子束裝置（500）。帶電粒子束裝置（500）包括發射器佈置、樣品台（7）、物鏡（510）、及初級帶電粒子光學器件，發射器佈置經配置以產生具有二或更多個初級帶電粒子分束的初級帶電粒子束，樣品台（7）用於支撐樣品（8），物鏡（510）用於將二或更多個初級帶電粒子分束聚焦至樣品（8）上。初級帶電粒子光學器件包括設置於發射器佈置與物鏡（510）之間的線圈（540）。線圈（540）經配置以產生具有平行於線圈（540）的縱軸的磁場分量的磁場，其中磁場作用於沿著縱軸傳播的二或更多個初級帶電粒子分束，且其中線圈的高寬比為至少1。控制器經配置以調整線圈（540）的磁場，而使得二或更多個初級帶電粒子分束的第一初級帶電粒子分束被引導朝向樣品（8）上的第一斑點，而二或更多個初級帶電粒子分束的第二初級帶電粒子分束被引導朝向樣品（8）上的第二斑點，其中第一斑點與第二斑點彼此間隔。
简体摘要：本揭示提供一种带电粒子束设备（500）。带电粒子束设备（500）包括发射器布置、样品台（7）、物镜（510）、及初级带电粒子光学器件，发射器布置经配置以产生具有二或更多个初级带电粒子分束的初级带电粒子束，样品台（7）用于支撑样品（8），物镜（510）用于将二或更多个初级带电粒子分束聚焦至样品（8）上。初级带电粒子光学器件包括设置于发射器布置与物镜（510）之间的线圈（540）。线圈（540）经配置以产生具有平行于线圈（540）的纵轴的磁场分量的磁场，其中磁场作用于沿着纵轴传播的二或更多个初级带电粒子分束，且其中线圈的高宽比为至少1。控制器经配置以调整线圈（540）的磁场，而使得二或更多个初级带电粒子分束的第一初级带电粒子分束被引导朝向样品（8）上的第一斑点，而二或更多个初级带电粒子分束的第二初级带电粒子分束被引导朝向样品（8）上的第二斑点，其中第一斑点与第二斑点彼此间隔。

22. 发明专利

TW201703093A 以適應性次級帶電粒子光學元件對次級帶電粒子束成像的系統及方法审中-公开
简体标题：以适应性次级带电粒子光学组件对次级带电粒子束成像的系统及方法
公开(公告)号：TW201703093A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW105113138
申请日：2016-04-27
申请人： ICT積體電路測試股份有限公司 , ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：費恩克斯馬蒂亞斯 , FIRNKES, MATTHIAS , 拉尼歐史帝芬 , LANIO, STEFAN , 溫克勒迪特 , WINKLER, DIETER
IPC分类号： H01J37/26
CPC分类号： H01J37/244 , G01N2223/418 , G01N2223/6116 , H01J37/09 , H01J37/12 , H01J37/145 , H01J37/222 , H01J37/26 , H01J2237/0453 , H01J2237/1202 , H01J2237/2448 , H01J2237/2449 , H01J2237/24495 , H01J2237/24592
摘要：本發明提供一種藉由初級帶電粒子束的撞擊對從樣品發出的次級帶電粒子束成像的方法。該方法包括以下步驟：將第一操作參數設定為第一值。第一操作參數係從下列一群組選出，包括：樣品上的初級帶電粒子束的降落能量、用於樣品上的次級帶電粒子束的提取場強度、將初級帶電粒子束聚焦於樣品上的物鏡的磁場強度，及物鏡離樣品的工作距離。該方法進一步包括以下步驟：在第一操作參數設定為第一值時，控制第一透鏡與第二透鏡的激發，以將次級帶電粒子束映射到孔徑板的第一區域上。第一區域重疊孔徑板的第一開口與孔徑板的第二開口。該方法進一步包括以下步驟：將第一操作參數設定為第二值，第二值與第一值不同。該方法進一步包括以下步驟：在第一操作參數設定為第二值時，控制第一透鏡與第二透鏡的激發，以將次級帶電粒子束映射到孔徑板的第一區域上。
简体摘要：本发明提供一种借由初级带电粒子束的撞击对从样品发出的次级带电粒子束成像的方法。该方法包括以下步骤：将第一操作参数设置为第一值。第一操作参数系从下列一群组选出，包括：样品上的初级带电粒子束的降落能量、用于样品上的次级带电粒子束的提取场强度、将初级带电粒子束聚焦于样品上的物镜的磁场强度，及物镜离样品的工作距离。该方法进一步包括以下步骤：在第一操作参数设置为第一值时，控制第一透镜与第二透镜的激发，以将次级带电粒子束映射到孔径板的第一区域上。第一区域重叠孔径板的第一开口与孔径板的第二开口。该方法进一步包括以下步骤：将第一操作参数设置为第二值，第二值与第一值不同。该方法进一步包括以下步骤：在第一操作参数设置为第二值时，控制第一透镜与第二透镜的激发，以将次级带电粒子束映射到孔径板的第一区域上。

23. 发明专利

TW201618152A 用於帶電粒子束裝置的圓頂偵測审中-公开
简体标题：用于带电粒子束设备的圆顶侦测
公开(公告)号：TW201618152A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW104135465
申请日：2015-10-28
申请人： ICT積體電路測試股份有限公司 , ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：佛意森傑根 , FROSIEN, JURGEN
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/02
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/05 , H01J2237/1508 , H01J2237/28
摘要：根據實施例，提供一種操作帶電粒子束裝置的方法。帶電粒子束裝置包括光束分離單元、與光束分離單元間隔開的第一光學部件、以及與光束分離單元間隔開且與第一光學部件間隔開的第二光學部件。該方法包括產生初級帶電粒子束。該方法進一步包括在光束分離單元中產生第一電場與第一磁場。該方法進一步包括導引初級帶電粒子束通過產生第一電場與第一磁場的光束分離單元，其中初級帶電粒子束離開光束分離單元的行進方向在第一電場與第一磁場的影響下對準第一目標軸。該方法進一步包括藉由初級帶電粒子束撞擊到樣品上產生次級帶電粒子束。該方法進一步包括在光束分離單元中將次級帶電粒子束分離出初級帶電粒子束，其中次級帶電粒子束在第一電場與第一磁場的影響下偏轉，而從光束分離單元行進到第一光學部件。該方法進一步包括在光束分離裝置中產生第二電場與第二磁場。該方法進一步包括導引初級帶電粒子束通過產生第二電場與第二磁場的光束分離單元，其中初級帶電粒子束離開光束分離單元的行進方向在第二電場與第二磁場的影響下對準第一目標軸。該方法進一步包括在光束分離單元中將次級帶電粒子束分離出初級帶電粒子束，其中次級帶電粒子束在第二電場與第二磁場的影響下偏轉，而從光束分離單元行進到第二光學部件。
简体摘要：根据实施例，提供一种操作带电粒子束设备的方法。带电粒子束设备包括光束分离单元、与光束分离单元间隔开的第一光学部件、以及与光束分离单元间隔开且与第一光学部件间隔开的第二光学部件。该方法包括产生初级带电粒子束。该方法进一步包括在光束分离单元中产生第一电场与第一磁场。该方法进一步包括导引初级带电粒子束通过产生第一电场与第一磁场的光束分离单元，其中初级带电粒子束离开光束分离单元的行进方向在第一电场与第一磁场的影响下对准第一目标轴。该方法进一步包括借由初级带电粒子束撞击到样品上产生次级带电粒子束。该方法进一步包括在光束分离单元中将次级带电粒子束分离出初级带电粒子束，其中次级带电粒子束在第一电场与第一磁场的影响下偏转，而从光束分离单元行进到第一光学部件。该方法进一步包括在光束分离设备中产生第二电场与第二磁场。该方法进一步包括导引初级带电粒子束通过产生第二电场与第二磁场的光束分离单元，其中初级带电粒子束离开光束分离单元的行进方向在第二电场与第二磁场的影响下对准第一目标轴。该方法进一步包括在光束分离单元中将次级带电粒子束分离出初级带电粒子束，其中次级带电粒子束在第二电场与第二磁场的影响下偏转，而从光束分离单元行进到第二光学部件。

24. 发明专利

TW201527745A 用於高產量電子束檢測（ＥＢＩ）的多射束系統审中-公开
简体标题：用于高产量电子束检测（ＥＢＩ）的多射束系统
公开(公告)号：TW201527745A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103141820
申请日：2014-12-02
申请人： ICT積體電路測試股份有限公司 , ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：佛意森傑根 , FROSIEN, JURGEN , 溫克勒迪特 , WINKLER, DIETER , 庫克班傑明約翰 , COOK, BENJAMIN JOHN
IPC分类号： G01N23/04 , G01N23/22
摘要：敘述一種經配置以進行一檢體成像的掃瞄帶電粒子束裝置。該掃瞄帶電粒子束裝置包含一帶電粒子來源、一聚光透鏡、一孔徑板、至少兩偏向器、一多極偏向器、一物透鏡、一射束分離器、一射束彎曲器、偏向器或鏡與至少兩偵測器元件，該聚光透鏡用以影響該等帶電粒子；該孔徑板具有至少兩孔徑開口，以產生至少兩主要帶電粒子小射束；該至少兩偏向器經配置以各自將該至少兩主要帶電粒子小射束偏斜，因此每一主要小射束都顯現為來自於一不同來源，其中該至少兩偏向器係為多數具有8階或更高階極數的多極偏向器；該多極偏向器具有8階或更高階極數；該物透鏡經配置以將該至少兩主要小射束聚焦於該檢體上，其中該物透鏡為一種減速場複合透鏡；該射束分離器經配置以從至少兩訊號小射束分離出該至少兩主要小射束；該射束彎曲器、偏向器或鏡經配置以將該至少兩訊號小射束偏斜，其中該射束彎曲器係自以下構成的群組選擇：一半球形射束彎曲器與具有至少兩彎形電極的射束彎曲器；而該至少兩偵測器元件經配置以各自測量該至少兩訊號小射束。
简体摘要：叙述一种经配置以进行一检体成像的扫瞄带电粒子束设备。该扫瞄带电粒子束设备包含一带电粒子来源、一聚光透镜、一孔径板、至少两偏向器、一多极偏向器、一物透镜、一射束分离器、一射束弯曲器、偏向器或镜与至少两侦测器组件，该聚光透镜用以影响该等带电粒子；该孔径板具有至少两孔径开口，以产生至少两主要带电粒子小射束；该至少两偏向器经配置以各自将该至少两主要带电粒子小射束偏斜，因此每一主要小射束都显现为来自于一不同来源，其中该至少两偏向器系为多数具有8阶或更高级极数的多极偏向器；该多极偏向器具有8阶或更高级极数；该物透镜经配置以将该至少两主要小射束聚焦于该检体上，其中该物透镜为一种减速场复合透镜；该射束分离器经配置以从至少两信号小射束分离出该至少两主要小射束；该射束弯曲器、偏向器或镜经配置以将该至少两信号小射束偏斜，其中该射束弯曲器系自以下构成的群组选择：一半球形射束弯曲器与具有至少两弯形电极的射束弯曲器；而该至少两侦测器组件经配置以各自测量该至少两信号小射束。

25. 发明专利

TWI488209B 具有色散補償的電子光束裝置，及其操作方法有权
简体标题：具有色散补偿的电子光束设备，及其操作方法
公开(公告)号：TWI488209B
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：TW100112073
申请日：2011-04-07
申请人： ICT積體電路測試股份有限公司 , ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：藍奕歐史戴分 , LANIO, STEFAN , 沙奈克吉拉德 , SCHONECKER, GERALD
IPC分类号： H01J3/26 , H01J37/147 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/1471 , H01J37/153 , H01J2237/1523 , H01J2237/1534 , H01J2237/244

26. 发明专利

TW201417134A 用於改善光點大小的八極裝置及方法审中-公开
简体标题：用于改善光点大小的八极设备及方法
公开(公告)号：TW201417134A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW102134138
申请日：2013-09-23
申请人： ICT積體電路測試股份有限公司 , ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：克拉瑪艾勒克山卓 , KRAMER, ALEKSANDRA , 拉尼歐史帝芬 , LANIO, STEFAN
IPC分类号： H01J37/153
CPC分类号： G21K1/093 , H01J37/153 , H01J2237/1532 , H01J2237/1534 , H01J2237/28
摘要：本發明描述一種在掃描帶電粒子束裝置中補償機械、磁性及/或靜電不準確度之方法。該方法包括對準程序，其中進行以下步驟：利用具有至少8極補償能力的元件補償4倍像散，其中對準程序之對準及補償步驟作用於帶電粒子束上，該帶電粒子束在兩個正交方向各具有至少50 μm的束尺寸且至少與具有至少8極補償能力的該元件同軸對準。
简体摘要：本发明描述一种在扫描带电粒子束设备中补偿机械、磁性及/或静电不准确度之方法。该方法包括对准进程，其中进行以下步骤：利用具有至少8极补偿能力的组件补偿4倍像散，其中对准进程之对准及补偿步骤作用于带电粒子束上，该带电粒子束在两个正交方向各具有至少50 μm的束尺寸且至少与具有至少8极补偿能力的该组件同轴对准。

27. 发明专利

TW201401324A 具有移動聚光透鏡之高亮度電子槍审中-公开
简体标题：具有移动聚光透镜之高亮度电子枪
公开(公告)号：TW201401324A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102119802
申请日：2013-06-04
申请人： ICT積體電路測試股份有限公司 , ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：余爾恩佛森 , JUERGEN, FROSIEN
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/14 , H01J37/147
CPC分类号： H01J37/067 , H01J37/141 , H01J2237/06325 , H01J2237/1501
摘要：敘述了一種用於一電子束系統的聚光透鏡配置(320;420;600;720)。該聚光透鏡配置包括：一磁聚光透鏡(321;42;610;721)，該磁聚光透鏡(321;42;610;721)適於產生一磁聚光透鏡場，該聚光透鏡具有一對稱軸(450;725)；以及一磁致偏器(322;422;500)，該磁致偏器(322;422;500)適於產生一磁致偏器場。該致偏器是配置成使得該磁聚光透鏡場與該磁致偏器場的該疊加，會導致該聚光透鏡配置的一光軸(730)可以相對於該對稱軸(450;725)移動。另外，敘述了包括一聚光透鏡配置的一種電子束光學系統(700)以及用於移動一聚光透鏡的一種方法(800;900)。
简体摘要：叙述了一种用于一电子束系统的聚光透镜配置(320;420;600;720)。该聚光透镜配置包括：一磁聚光透镜(321;42;610;721)，该磁聚光透镜(321;42;610;721)适于产生一磁聚光透镜场，该聚光透镜具有一对称轴(450;725)；以及一磁致偏器(322;422;500)，该磁致偏器(322;422;500)适于产生一磁致偏器场。该致偏器是配置成使得该磁聚光透镜场与该磁致偏器场的该叠加，会导致该聚光透镜配置的一光轴(730)可以相对于该对称轴(450;725)移动。另外，叙述了包括一聚光透镜配置的一种电子束光学系统(700)以及用于移动一聚光透镜的一种方法(800;900)。

28. 发明专利

TW200741792A 帶電粒子束裝置 CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE 失效
简体标题：带电粒子束设备 CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
公开(公告)号：TW200741792A
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW096105544
申请日：2007-02-14
申请人： ICT積體電路測試股份有限公司 ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：佛瑞森傑葛 FROSIEN, JURGEN , 愛爾格亞卡克 ELGAR, YACOV
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/26 , H01J37/3174 , H01J2237/004 , H01J2237/022 , H01J2237/2809 , H01J2237/2817
摘要：本發明提供一種用來照射樣本(28)之帶電粒子束裝置,該裝置包含一用以提供帶電粒子束(31)的粒子來源(13;14, 16)、一用以引導該帶電粒子束至該樣本上的光學裝置(18, 20, 22, 24, 26, 27)以及一用以減少該樣本之電荷累積及/或污染的臭氧單元。該臭氧單元包含一臭氧供應器(34, 35, 36)及一樣本噴嘴單元(38),用以引導一臭氧氣流至該樣本(28)。此外,本發明提供一種用來照射樣本之帶電粒子束裝置,該裝置包含一用以提供帶電粒子束(31)的粒子來源(13;14, 16)、一用以引導該帶電粒子束至該樣本上的光學裝置(18, 20, 22, 24, 26, 27)、一偵測器(30)以及一用以減少該偵測器之電荷累積及/或污染的氣體單元。該氣體單元包含一氣體供應器(34,35, 37)及一偵測器噴嘴單元(40),用以引導一氣流至該偵測器。此外,本發明提供用來操作根據本發明之帶電粒子束裝置的方法。
简体摘要：本发明提供一种用来照射样本(28)之带电粒子束设备,该设备包含一用以提供带电粒子束(31)的粒子来源(13;14, 16)、一用以引导该带电粒子束至该样本上的光学设备(18, 20, 22, 24, 26, 27)以及一用以减少该样本之电荷累积及/或污染的臭氧单元。该臭氧单元包含一臭氧供应器(34, 35, 36)及一样本喷嘴单元(38),用以引导一臭氧气流至该样本(28)。此外,本发明提供一种用来照射样本之带电粒子束设备,该设备包含一用以提供带电粒子束(31)的粒子来源(13;14, 16)、一用以引导该带电粒子束至该样本上的光学设备(18, 20, 22, 24, 26, 27)、一侦测器(30)以及一用以减少该侦测器之电荷累积及/或污染的气体单元。该气体单元包含一气体供应器(34,35, 37)及一侦测器喷嘴单元(40),用以引导一气流至该侦测器。此外,本发明提供用来操作根据本发明之带电粒子束设备的方法。

29. 发明专利

TW200634884A 帶電粒子束元件及相關分析系統 ANALYSING SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE 审中-公开
简体标题：带电粒子束组件及相关分析系统 ANALYSING SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
公开(公告)号：TW200634884A
公开(公告)日：2006-10-01
申请号：TW095106002
申请日：2006-02-22
申请人： ICT積體電路測試股份有限公司 ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：佛意森傑根 FROSIEN, JUERGEN , 藍奕歐史戴分 LANIO, STEFAN
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/05 , G01R31/305 , H01J37/244 , H01J49/488 , H01J2237/24465 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/26
摘要：本發明係有關於一種具有改良的偵測設計之分析系統及一種包含該分析系統的帶電子束裝置。用來分析一帶電粒子束(2)的分析系統具有一分束器(16)用來依據帶電粒子束(2)的能量將帶電粒子束分離成低能量束(18；24，25)及高能量束(19)；一正面偵測器(17)用來偵測該高能量束(19)；及至少一背面偵測器(15；22)用來偵測該低能量束(18；24，25)。該分束器被放置在該正面偵測器與該至少一背面偵測器之間且該正面偵測器(17)及／或該至少一背面偵測器(15，22)被分段(segmented)。
简体摘要：本发明系有关于一种具有改良的侦测设计之分析系统及一种包含该分析系统的带电子束设备。用来分析一带电粒子束(2)的分析系统具有一分束器(16)用来依据带电粒子束(2)的能量将带电粒子束分离成低能量束(18；24，25)及高能量束(19)；一正面侦测器(17)用来侦测该高能量束(19)；及至少一背面侦测器(15；22)用来侦测该低能量束(18；24，25)。该分束器被放置在该正面侦测器与该至少一背面侦测器之间且该正面侦测器(17)及／或该至少一背面侦测器(15，22)被分段(segmented)。

30. 发明专利

TWI691997B 用於以初級帶電粒子小束陣列檢查樣本的帶電粒子束裝置及以帶電粒子小束陣列成像或照射樣本的方法有权
简体标题：用于以初级带电粒子小束数组检查样本的带电粒子束设备及以带电粒子小束数组成像或照射样本的方法
公开(公告)号：TWI691997B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW107122870
申请日：2018-07-03
申请人：德商ICT積體電路測試股份有限公司 , ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：布雷爾約翰 , BREUER, JOHN
IPC分类号： H01J37/10 , H01L21/66

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