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    • 21. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERCHIP UND OPTOELEKTRONISCHES MODUL
    • 光电半导体芯片和光电模块
    • WO2016180939A1
    • 2016-11-17
    • PCT/EP2016/060744
    • 2016-05-12
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • PERZLMAIER, KorbinianLEIRER, Christian
    • H01L33/38H01K5/00H01L33/48H01L33/62H01L25/075
    • H01L33/382H01L24/30H01L25/0753H01L33/486H01L33/62
    • Ein optoelektronischer Halbleiterchip (1) weist einen Träger (5) und einen auf dem Träger (5) angeordneten Halbleiterkör- per (2) mit einer Halbleiterschichtenfolge auf. Die Halb- leiterschichtenfolge umfasst einen aktiven Bereich (20), der zwischen einer ersten Halbleiterschicht (21) und einer zwei- ten Halbleiterschicht (22) angeordnet ist und zur Erzeugung oder zum Empfangen von elektromagnetischer Strahlung vorgese- hen ist. Die erste Halbleiterschicht (21) ist elektrisch lei- tend mit einem ersten Kontakt (41) verbunden. Der erste Kon- takt (41) ist auf einer dem Halbleiterkörper abgewandten Rückseite (52) des Trägers (5) ausgebildet. Die zweite Halb- leiterschicht (22) ist elektrisch leitend sowohl mit einem zweiten Kontakt (42) als auch mit einem dritten Kontakt (43) verbunden. Der zweite Kontakt (42) ist auf der dem Halb- leiterkörper zugewandten Vorderseite (51) des Trägers (5) und der dritte Kontakt (43) ist auf der dem Halbleiterkörper ab- gewandten Rückseite (52) des Trägers (5) ausgebildet.
    • 的光电子半导体芯片(1)包括支撑件(5)和由Halbleiterkör-(2),其具有半导体层序列的载体(5)上布置一个。 半导体层序列包括第一半导体层(21)和两个半导体层(22)之间的有源区(20)被布置和被提供用于母鸡以产生或接收电磁辐射。 在第一半导体层(21)是导电连接到趋向于第一接触(41)。 上从所述载体(5)的半导体主体后侧(52)远程一个侧的第一接触(41)形成。 第二半导体层(22)被连接到导电两者的第二接触(42)和第三触点(43)。 在面向所述载体(5)和第三接触(43)的半导体主体前表面(51)侧的第二接触(42)是在关断半导体本体面向载体(5)的后表面(52)形成。
    • 23. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERBAUELEMENTEN UND OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERBAUELEMENT
    • 用于生产光电半导体器件和光电半导体器件
    • WO2016146297A1
    • 2016-09-22
    • PCT/EP2016/051986
    • 2016-01-29
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • LEIRER, Christian
    • H01L33/54H01L33/48H01L33/62
    • H01L33/54H01L33/0079H01L33/486H01L33/62H01L2224/04105H01L2224/19H01L2224/96H01L2933/005
    • Es wird ein Verfahren zum Herstellen einer Mehrzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (100) angegeben, das folgende Schritte aufweist: a) Bereitstellen eines Hilfsträgers (2); b) Bereitstellen einer Mehrzahl von Halbleiterchips (6), wobei jeder der Halbleiterchips einen Trägerkörper (10) und einen auf einer Oberseite (12) des Trägerkörpers angeordneten Halbleiterkörper (16) aufweist; c) Befestigen der Mehrzahl von Halbleiterchips (6) auf dem Hilfsträger (2), wobei die Halbleiterchips (6) in einer lateralen Richtung (L) voneinander beabstandet sind und wobei die Halbleiterkörper (16) vom Trägerkörper (10) aus gesehen von dem Hilfsträger (2) abgewandt sind; d) Ausbilden eines Gehäusekörperverbunds (28) zumindest in Bereichen zwischen den Trägerkörpern (10) benachbarter Halbleiterchips (6), wobei die Halbleiterchips überformt werden; e) Entfernen des Hilfsträgers (2); f) Dünnen des Gehäusekörperverbunds (28); und g) Vereinzeln des Gehäusekörperverbunds (28) in eine Mehrzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (100), wobei jedes Halbleiterbauelement zumindest einen Halbleiterchip (6) und einen Teil des Gehäusekörperverbunds als Gehäusekörper aufweist.
    • 一种用于制造规定的多个光电子半导体器件(100),包括以下步骤的方法:a)提供一辅助载体(2); b的)提供多个半导体芯片(6),其特征在于,设置在每个半导体芯片的承载体(10)和一个(在承载体半导体主体的上侧12)(16); c)该辅助载体(2),其中所述半导体芯片(6)在横向方向(L)间隔开并且上固定多个半导体芯片(6),其中,所述半导体主体(16)(从作为从辅助载体观察到的载体主体10) (2)背对; D)形成至少一个复合壳体主体(28)的区域相邻的半导体芯片(6),其特征在于,形成在半导体芯片的承载体(10)之间; e)移除所述辅助载体(2); F)在壳体主体组件的薄型化(28); 和g)切割所述壳体组件(28)转换成多个光电子半导体器件(100)的,具有至少一个半导体芯片(6)和作为外壳主体外壳主体复合材料的部分中的每个半导体器件。
    • 29. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERBAUTEILS UND OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERBAUTEIL
    • 制造光电子半导体组件和光电子半导体组件的方法
    • WO2018041641A1
    • 2018-03-08
    • PCT/EP2017/070853
    • 2017-08-17
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • PERZLMAIER, KorbinianRAFAEL, ChristineKASPRZAK-ZABLOCKA, AnnaLEIRER, Christian
    • H01L33/44H01L33/48H01L33/54H01L33/00H01L33/38H01L33/50H01L33/46
    • Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauteils angegeben, wobei in einem Verfahrensschritt A) ein Bereitstellen eines Aufwachssubstrats (2) mit einer darauf angeordneten Halbleiterschichtenfolge (10) erfolgt, welche zur Emission von Licht geeignet ist, wobei die Halbleiterschichtenfolge (10) zumindest einen Trenngraben (3) umfasst, welcher sich zumindest teilweise durch die Halbleiterschichtenfolge (10) von einer dem Aufwachssubstrat (2) abgewandten Seite (10a) der Halbleiterschichtenfolge (10) in Richtung des Aufwachssubstrats (2) erstreckt. In einem Verfahrensschritt B) erfolgt ein Anordnen einer Lackstruktur (4) im Trenngraben (3). In einem Verfahrensschritt C) erfolgt ein Anordnen eines Vergusses (6) auf der dem Aufwachssubstrat (2) abgewandten Seite (10a) der Halbleiterschichtenfolge (10), so dass der Verguss (6) mit zumindest einem Teil der Lackstruktur (4) seitlich in Kontakt ist.
    • 它提供了一种用于制造光电子半导体器件,其特征在于,在方法步骤A)提供(2),其具有设置在其上的半导体层序列(10),其适合于发射光的生长衬底的方法, 其中半导体层序列(10)包括(3)通过半导体层序列(10)至少部分地延伸从生长衬底(2)侧(10a)的背向至少一个划界沟槽,所述的在生长衬底的方向半导体层序列(10)(2)。 在方法步骤B)中,在分离槽(3)中布置漆结构(4)。 在方法步骤C)上设置灌封化合物(6)在(背向生长衬底2)开出半导体层序列(10)的地方侧(10A),使得所述封装(6)与至少(在接触的一侧的抗蚀剂图案4)的一部分 是

    • 30. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT
    • 光电子器件
    • WO2017072074A1
    • 2017-05-04
    • PCT/EP2016/075555
    • 2016-10-24
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • HAHN, BertholdPERZLMAIER, KorbinianLEIRER, ChristianKASPRZAK-ZABLOCKA, Anna
    • H01L33/36H01L33/38H01L33/62
    • H01L33/36H01L33/385H01L33/62H01L2224/48091H01L2224/48464H01L2224/73265H01L2924/00014
    • Ein optoelektronisches Bauelement (100) umfasst eine Halbleiterschichtenfolge (1) mit einer aktiven Schicht (10), wobei die aktive Schicht (10) dazu eingerichtet ist, im bestimmungsgemäßen Betrieb elektromagnetische Strahlung zu erzeugen oder zu absorbieren. Weiter umfasst das Bauelement (100) eine erste Kontaktstruktur (11) und eine zweite Kontaktstruktur (12), über die die Halbleiterschichtenfolge (1) im bestimmungsgemäßen Betrieb elektrisch kontaktierbar ist. Im Betrieb sind die Kontaktstrukturen (11, 12) mit einer Spannung beaufschlagt, wobei sich eine betriebsbedingte Spannungsdifferenz ΔU bet zwischen den Kontaktstrukturen (11, 12) ausbildet. Bei Erhöhung der Spannungsdifferenz tritt ein erster Überschlag in oder an dem Bauelement (100) zwischen den beiden Kontaktstrukturen (11, 12) auf. Eine bei dem ersten Überschlag entstehende Funkenstrecke (3) zwischen den Kontaktstrukturen (11, 12) verläuft dabei überwiegend durch ein Umgebungsmedium in Form von Gas oder Vakuum und/oder durch einen Verguss. Der erste Überschlag tritt frühestens bei einer Spannungsdifferenz von 2∙ΔU bet auf.
    • 一种光电子器件(100)包括具有有源层(10)的半导体层序列(1),其中有源层(10)适于在正常操作期间产生电磁辐射 或吸收。 此外,部件(100)包括第一接触结构(11)和第二接触结构(12),半导体层序列(1)可以在期望的操作期间通过该第一接触结构和第二接触结构电接触。 在操作中,接触结构(11,12)经受电压,其中在接触结构(11,12)之间形成操作电压差ΔUmin。 随着电压差增大,第一翻转发生在两个接触结构(11,12)之间的装置(100)中或上。 在第一转向过程中在接触结构(11,12)之间出现的火花隙(3)主要通过气体或真空形式的环境介质和/或通过灌封。 第一次翻转最早出现在电压差为2?ΔU bet 的地方。