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    • 21. 发明申请
    • 나노구조체 전사를 이용한 발광다이오드 제조방법과 그 발광다이오드
    • 使用纳米结构转移的发光二极管生产方法和获得的发光二极管
    • WO2015122652A1
    • 2015-08-20
    • PCT/KR2015/001222
    • 2015-02-06
    • 포항공과대학교 산학협력단
    • 유철종이종람
    • H01L33/20
    • H01L33/32H01L33/005H01L33/22H01L33/24H01L2933/0033
    • 본 발명은 발광다이오드 제조방법과 그 발광다이오드에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 구 모양의 나노구조체 전사를 통해 넓은 면적에 균일하게 나노구조체를 코팅하고 이를 통해 광추출 효율이 극대화된 발광다이오드를 제조하는 방법과 이 방법에 의해 제조된 광추출 효율이 우수한 발광다이오드에 관한 것이다. 본 발명은 제1반도체층, 활성층 및 제2반도체층이 형성된 발광다이오드 제조방법에 있어서, 제1기판 상에 구 모양의 나노구조체를 코팅하는 단계와, 상기 나노구조체가 코팅된 제1기판에서 제2기판으로 나노구조체를 전사하는 단계와, 상기 제2기판에 전사된 나노구조체를 제2반도체층에 전사하는 단계, 및 상기 제2반도체층에 전사된 나노구조체를 마스크로 이용하여 제2반도체층을 건식 에칭하여 요철부를 형성하는 단계를 포함하여 구성된다.
    • 本发明涉及一种发光二极管的制造方法和由此获得的发光二极管,更具体地说,涉及一种通过球形纳米结构转印将纳米结构均匀地涂覆在宽表面积上的方法, 制造通过涂层使光提取效率最大化的发光二极管,涉及通过该方法产生的具有优异的光提取效率的发光二极管。 本发明涉及一种其中形成第一半导体层,有源层和第二半导体层的发光二极管的制造方法,其中所述方法包括:将球形纳米结构涂覆在第一基板上的步骤; 将已经被纳米结构涂覆的第一衬底的纳米结构转移到第二衬底上的步骤; 将已经转移到第二衬底上的纳米结构转移到第二半导体层上的步骤; 以及通过使用由已经转移到第二半导体层上的纳米结构构成的掩模来干法蚀刻第二半导体层来形成不均匀部分的步骤。