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    • 21. 发明公开
    • 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
    • 网格偏振器的制作方法
    • KR1020160085944A
    • 2016-07-19
    • KR1020150002515
    • 2015-01-08
    • 삼성디스플레이 주식회사
    • 윤대호박승원이문규김태우시에레이
    • G02B5/30
    • G02B5/3058G02B5/1809G02B5/30G02B5/3075G03F7/0002G02B5/3025
    • 전체적으로균일한간격을갖는와이어그리드편광자를제조하는방법이개시된다. 와이어그리드편광자의제조방법은기판상에전도성와이어층및 제1 중성층을순차적으로적층하는단계, 상기제1 중성층상에균일한간격을갖는가이드패턴을형성하는단계, 상기가이드패턴의폭을줄이고, 상기제1 중성층을패터닝하여제1 중성층패턴을형성하는단계, 상기제1 중성층패턴사이의상기전도성와이어층상에제2 중성층을코팅하는단계, 상기제2 중성층상에식각률이상이한제1 단량체및 제2 단량체의제1 블록공중합체를도포하는단계, 상기제1 블록공중합체를제1 단량체블록과제2 단량체블록으로정렬하는단계, 상기제1 단량체블록과상기제2 단량체블록중 어느하나를제거하고상기제2 중성층을패터닝하는단계, 잔존하는단량체블록및 상기가이드패턴을제거하는단계, 상기결과물상에식각률이상이한제3 단량체및 제4 단량체의제2 블록공중합체를도포하는단계, 상기제2 블록공중합체를제3 단량체블록과제4 단량체블록으로정렬하는단계, 및상기제3 단량체블록과상기제4 단량체블록중 어느하나를제거하고, 상기전도성와이어층을패터닝하여전도성와이어패턴을형성하는단계를포함한다.
    • 公开了一种具有整体均匀间隔的线栅偏振器的制造方法。 线栅偏振器的制造方法包括:在基板上依次沉积导线层和第一中性层的步骤; 在第一中性层上形成均匀间隔的引导图案的步骤; 减小引导图案的宽度并图案化第一中性层以形成第一中性层图案的步骤; 通过第一中性层图案在导电层上涂覆第二中性层的步骤; 在第二中性层上施加具有不同蚀刻速率的第一单体和第二单体的第一嵌段共聚物的步骤; 使第一嵌段共聚物与第一单体嵌段和第二单体嵌段对准的步骤; 除去第一单体嵌段和第二单体嵌段中的任一个并使第二中性层图形化的步骤; 去除剩余的单体块和引导图案的步骤; 在结果上施加具有不同蚀刻速率的第三单体和第四单体的第二嵌段共聚物的步骤; 将第二嵌段共聚物与第三单体嵌段和第四单体嵌段对准的步骤; 以及除去第三单体嵌段和第四单体嵌段之中的任何一个并使导电层图形化以形成导线图案的步骤。
    • 23. 发明公开
    • 편광 소자 및 이의 제조방법
    • 偏振器及其制造方法
    • KR1020160020622A
    • 2016-02-24
    • KR1020140105137
    • 2014-08-13
    • 삼성디스플레이 주식회사
    • 박승원김태우윤대호이문규
    • G02B5/30
    • G02B5/3058G03F7/0002G03F7/0007G03F7/0035
    • 본발명은, 공간적으로분리된패널영역과정렬키(alignment key) 형성영역에서, 광투과성기판상에금속층, 가이드층, 하드마스크층, 희생층, 제1 감광막층을순차적으로형성하는것을포함하는베이스(base)판형성단계; 상기제1 감광막층을패터닝(patterning)하여상기정렬키 형성영역에정렬키 패턴보호를위한제1 감광막층패턴을형성하는것을포함하는제1 감광막층패터닝단계; 상기제1 감광막층패턴을마스크로이용하여상기정렬키 형성영역에희생층패턴을형성하는희생층패터닝단계; 및상기패널영역중 개구부의영역의희생층을선택적으로제거하기이전에상기정렬키 형성영역의희생층패턴상면에제2 감광막층을형성하는것을포함하는제2 감광막층형성단계;를포함하는편광소자의제조방법및 이로부터제조된편광소자를제공할수 있다.
    • 本发明可以提供一种偏振片的制造方法,其特征在于,包括:基板形成工序,其在透光性上依次形成金属层,导向层,硬掩模层,牺牲层和第一感光层 基板,在面板区域和对准键形成区域中空间分离; 第一感光层构图步骤,包括通过对第一感光层进行构图来形成用于保护对准键形成区域中的对准键图案的第一感光层图案; 使用所述第一感光层图案作为掩模在所述对准键形成区域中形成牺牲层图案的牺牲层图案化步骤; 以及第二感光层形成步骤,包括在去除面板区域的开口部分的区域的牺牲层之前在对准键形成区域的牺牲层图案的上平面上形成第二感光层,以及偏振器 从同样的制造。 本发明的目的是为了解决由于对准键在细线偏振中变形而在形成保护层和薄膜晶体管的后续处理中发生对准键识别故障的问题, 单元内偏光镜的制造工艺。
    • 26. 发明公开
    • 반사형 편광판 제조방법 및 인셀 반사형 편광판 제조방법
    • 制造反射极化板的方法和方法制造细胞反射极化板
    • KR1020140137734A
    • 2014-12-03
    • KR1020130058594
    • 2013-05-23
    • 삼성디스플레이 주식회사
    • 김태우시에레이강민혁김명임박승원이문규이수미
    • G02B5/30
    • G02B5/3058
    • 반사형 편광판 제조방법은 투명 기판의 전면 상에 금속층 및 희생을을 순차적으로 형성하고, 희생층을 패터닝하여 바 패턴을 형성하며, 바 패턴 및 금속층 상에 격벽층을 형성한다. 이후, 격벽층을 이방성 식각하여 바 패턴의 측벽을 따라 형성되고, 서로 소정 간격 이격된 격벽들을 형성하고, 바 패턴을 제거한다. 격벽들 사이의 개구부에 제1 및 제2 폴리머로 이루어진 공중합체층를 제공하고, 공중합체층을 열처리하여 제1 및 제2 폴리머를 교대로 배열시킨다. 이후, 제1 및 제2 폴리머 중 제2 폴리머를 제거하여 제1 폴리머로 이루어진 다수의 나도 그리드 패턴을 형성한다. 격벽들 및 상기 나도 그리드 패턴을 마스크로하여 금속층을 식각하여 금속 나노 와이어를 형성한다.
    • 用于制造反射偏光板的方法在透明基板的前表面上依次形成金属层和牺牲层,通过图案化牺牲层形成条形图案,并在条形图案和金属层上形成阻挡层。 之后,阻挡层被各向异性蚀刻以形成沿着条形图案的侧壁形成并且彼此间隔开预定间隔的屏障,并且去除条形图案。 由第一和第二聚合物组成的共聚物层设置在屏障之间的开口中,并且第一和第二聚合物通过热处理共聚物层交替排列。 之后,在第一和第二聚合物中,除去第二聚合物以形成由第一聚合物组成的多个纳米格栅图案。 使用掩模使用屏障和纳米格栅图案蚀刻金属层以形成金属纳米线。