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21. 发明公开

KR1019980041991A 기판처리방법및기판처리장치 有权
标题翻译：基板处理方法及基板处理装置
公开(公告)号：KR1019980041991A
公开(公告)日：1998-08-17
申请号：KR1019970056977
申请日：1997-10-31
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 아키모토마사미 , 데구치요이치
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 피처리기판에 대하여 복수공정으로 이루어지는 처리를 실시하는 기판처리장치로서, 연직방향으로 연장되는 반송영역과, 각각의 기판을 처리하기 위하여 반송영역의 주위에 배치되어, 상하 다단으로 겹쳐쌓인 복수의 처리유니트를 갖는 복수의 처리그룹과, 상기 각각의 처리유니트는 기판을 출입시키기 위하여 반송영역으로 연이어 통하는 개구부를 가지고 있으며, 반송영역 내로 이동가능하게 설치되어, 개구부를 통하여 처리유니트로 기판을 출입시키는 주아암기구와, 반송영역 내로 청정공기의 하강기류를 형성하는 다운플로우 형성수단을 구비하며,
복수의 처리그룹중 적어도 하나는, 기판을 가열 또는 냉각시키기 위한 복수의 열계유니트와, 기판을 상기 반송로로 출입시키기 위한 반송유니트와, 기판을 처리가스로 처리하기 위한 가스처리 유니트를 구비하고, 또한 이 가스처리유니트의 개구부는, 열계유니트의 개구부 및 반송유니트 개구부의 각각보다 아래쪽에 위치한다.

22. 发明公开

KR1019940010227A 처리방법 및 장치 失效
公开(公告)号：KR1019940010227A
公开(公告)日：1994-05-24
申请号：KR1019930022132
申请日：1993-10-23
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 오오쓰키하야시 , 데구치요이치
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 피처리체의 표면과 이면을 피처리체의 분위가 상태를 변화시키지 않고, 동일 조건하에서 처리할 수 있는 처리방법 및 장치를 제공하는 것으로, 피처리체를 처리가스 분위기에서 재치대에 설치한 유지기구에 유지하여 처리하는 방법에 있어서, 상기 재치대와 피처리체를 함께 회전기구에 의하여 소정 방향으로 회전시키는 공정과, 상기 재치대의 회전을 정지하여 상기 유지기구를 별도의 회전기구에 의하여 회전시켜서 피처리체의 표면과 이면을 상기 재치대에 대하여 상대적으로 회전시키는 공정으로 한다. 따라서, 피처리체의 표면과 이면을 피처리체의 분위기 상태를 변화시키지 않고, 동일 조건하에서 처리할 수 있다.

23. 发明公开

KR1019940004768A 기판검출장치 失效
标题翻译：基板检测装置
公开(公告)号：KR1019940004768A
公开(公告)日：1994-03-15
申请号：KR1019930016108
申请日：1993-08-19
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
发明人： 모쿠오쇼오리 , 데구치요이치 , 니시미쓰오 , 다까구마신지
IPC分类号： H01L21/66
摘要： 기판검출장치는, 웨이퍼를 유지하는 보우트 또는 척과, 상호간에 가로로 나란하게 배열되어 있으머, 기판의 각각에 광빔을 조사하는 복수개의 발광소자를 가지는 발광부와, 발광부에 대면하도록 배치되고 각 웨이퍼를 투과한 광빔을 각각 수광하며, 상호간에 가로로 나란하게 배열되어 있으며, 또한 상기 발광소자와는 상호간에 약간어긋나게 교차배치되어 있는 복수개의 수광소자를 가지는 수광부와, 수광소자에 각각 입사하는 광빔의 광축에 형성된 편광필터와, 양옆에 다른 웨이퍼가 존재하지 않는 상태에서 웨이퍼에 광빔을 조사한 때에 수광소자가 수광하는 광량을 미리 예측하여 놓고, 이것을 레퍼런스데이타로서 기억하는 메모리와, 검출대상으로 되는 웨이퍼에 의하여 산란된 산관광과 그 양옆의 기판을 돌어들어오는 돌아들어옴광을 상기 편 필터에 의하여 제거한 후에, 상기 수광소자로 각각 수광한 광량에서 얻어진 데이타와 상기 레퍼런스 데이타에 기초하여 상기 유지수단상에 있어서의 기판의 유무, 매수 및 배열상태를 판정하는 콘트롤러를 가진다.

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