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    • 21. 发明专利
    • 形成光散射反射器之方法
    • TW505811B
    • 2002-10-11
    • TW088106581A01
    • 2001-03-20
    • 財團法人工業技術研究院
    • 張煒熾丁岱良劉中元胥智文
    • G02F
    • 本發明提供一種光散射反射器的結構及其形成方法,其乃是要在基板上形成多數個具有反射性曲面之突起元件,使每一個突起元件具有第一表面以及第二表面,其中第一表面與基板的夾角(α或是θ)和第二表面與基板的夾角(β或是φ)不同。本發明乃使用一種狹縫寬度調整光罩在離焦曝光下,以製造本發明中之曲面反射式元件。本發明的狹縫寬度調整光罩包含複數個狹縫區域,其中第一透光狹縫區域在離焦曝光下具有第一曝光量p1,第二透光狹縫區域在離焦曝光下具有第二曝光量q1。每個透光狹縫均位於一個均等大小區域之中,而每一個均等大小區域之寬度皆等於p2,而第一透光狹縫區域的透光區段之寬度為p2,其與均等大小區域之寬度相同,而第二透光狹縫區域的透光區段之寬度q2,第一曝光量p1大於第二曝光量q1,並且(q2)/(p2)=(q1)/(p1),本發明所製作的光散射反射器也可用作反射式TFT-LCD,液晶層與主動陣列間的反射元件。
    • 本发明提供一种光散射反射器的结构及其形成方法,其乃是要在基板上形成多数个具有反射性曲面之突起组件,使每一个突起组件具有第一表面以及第二表面,其中第一表面与基板的夹角(α或是θ)和第二表面与基板的夹角(β或是φ)不同。本发明乃使用一种狭缝宽度调整光罩在离焦曝光下,以制造本发明中之曲面反射式组件。本发明的狭缝宽度调整光罩包含复数个狭缝区域,其中第一透光狭缝区域在离焦曝光下具有第一曝光量p1,第二透光狭缝区域在离焦曝光下具有第二曝光量q1。每个透光狭缝均位于一个均等大小区域之中,而每一个均等大小区域之宽度皆等于p2,而第一透光狭缝区域的透光区段之宽度为p2,其与均等大小区域之宽度相同,而第二透光狭缝区域的透光区段之宽度q2,第一曝光量p1大于第二曝光量q1,并且(q2)/(p2)=(q1)/(p1),本发明所制作的光散射反射器也可用作反射式TFT-LCD,液晶层与主动数组间的反射组件。