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    • 26. 发明授权
    • Process for defoaming and/or degassing organic systems
    • 消泡和/或脱气有机系统的工艺
    • US5474709A
    • 1995-12-12
    • US975942
    • 1993-02-24
    • Christian HerzigWillibald BurgerErnst InnertsbergerPeter HuberMartina Blochl
    • Christian HerzigWillibald BurgerErnst InnertsbergerPeter HuberMartina Blochl
    • B01D19/04C08G77/22C08G77/38C08G77/46
    • B01D19/0409C08G77/38C08G77/46
    • A process for defoaming and/or degassing organic systems by addition of an organopolysiloxane-containing anti-foaming agent to the organic system is characterized by the fact that the organopolysiloxane used is one composed of siloxane units having the general formulae (I) and (II), in which R is a univalent hydrocarbon residue with 1 to 18 carbon atoms per residue; A is a residue having the general formula (a), in which R.sup.1 is a residue having the formula --CR.sup.3 H--, where R.sup.3 stands for a hydrogen atom or a univalent organic residue; R.sup.2 is a residue having the formulae --CR.sup.4 H--CH.sub.2 -- or --CH.sub.2 CH.sub.2 CH.sub.2 -- where R.sup.4 stands for a hydrogen atom or a univalent organic residue; v and w represent each O or an integer, the sum of v+w being in average 0 to 16; x and y represent each 0 or 1, the sum x+y being 1 or 2; a equals 1,2 or 3; b equals 0, 1 or 2 and c equals 1 or 2, the sum b+c not exceeding 3.
    • PCT No.PCT / EP91 / 01896 Sec。 371日期:1993年2月24日 102(e)日期1993年2月24日PCT 1991年10月4日PCT PCT。 出版物WO92 / 05854 日期为1992年04月16日。通过向有机体系中加入含有机聚硅氧烷的消泡剂来消除和/或脱气有机体系的方法的特征在于所使用的有机聚硅氧烷是由具有一般性的硅氧烷单元 式(I)和(II),其中R是每个残基具有1至18个碳原子的一价烃残基; A是具有通式(a)的残基,其中R1是具有式-CR3H-的残基,其中R3代表氢原子或一价有机残基; R2是具有式-CR4H-CH2-或-CH2CH2CH2-的残基,其中R4代表氢原子或一价有机残基; v和w表示每个O或整数,v + w的和平均为0至16; x和y表示0或1,x + y之和为1或2; a等于1,2或3; b等于0,1或2,c等于1或2,总和b + c不超过3。