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21. 发明申请

WO2011017775A1 PHOTOLUMINESCENCE IMAGING SYSTEMS FOR SILICON PHOTOVOLTAIC CELL MANUFACTURING 审中-公开
标题翻译：硅光电池制造用光电成象系统
公开(公告)号：WO2011017775A1
公开(公告)日：2011-02-17
申请号：PCT/AU2010/001045
申请日：2010-08-16
申请人： BT IMAGING PTY LTD , TRUPKE, Thorsten , MAXWELL, Ian Andrew , WEBER, Juergen , BARDOS, Robert Andrew
发明人： TRUPKE, Thorsten , MAXWELL, Ian Andrew , WEBER, Juergen , BARDOS, Robert Andrew
IPC分类号： G01N21/62 , G01N21/88
CPC分类号： G01N21/6489 , G01N21/6456 , G01N21/9501 , G01N21/9505
摘要： A method of photoluminence (PL) imaging of a series of silicon wafers, the method including the step of: utilizing incident illumination of a wavelength greater than 808nm. The present invention further provides a method of analysing silicon semiconductor material utilising various illumination, camera and filter combinations. In some embodiments the PL response is captured by a MOSIR camera. In another embodiment a camera is used to capture the entire PL response and a long pass filter is applied to block a portion of the signal reaching the camera/detector.
摘要翻译：一种硅晶片的发光（PL）成像方法，该方法包括以下步骤：利用大于808nm的波长的入射照明。本发明还提供了利用各种照明，照相机和滤光器组合来分析硅半导体材料的方法。在一些实施例中，PL响应由MOSIR相机捕获。在另一个实施例中，相机用于捕获整个PL响应，并且应用长通滤波器来阻挡到达相机/检测器的信号的一部分。

22. 发明申请

WO2010010036A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON MIT STICKSTOFF DOTIERTEM QUARZGLAS SOWIE ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS GEEIGNETE QUARZGLASKÖRNUNG 审中-公开
标题翻译：生产氮化石英玻璃和实施石英玻璃分级方法
公开(公告)号：WO2010010036A2
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：PCT/EP2009/059141
申请日：2009-07-16
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , TROMMER, Martin , OCHS, Stefan , WEBER, Juergen , WERDECKER, Waltraud , TRAEGER, Norbert , LEBER, Helmut
发明人： TROMMER, Martin , OCHS, Stefan , WEBER, Juergen , WERDECKER, Waltraud , TRAEGER, Norbert , LEBER, Helmut
IPC分类号： C03B17/04 , C03B19/01 , C03B19/04 , C03B19/09 , C03B20/00 , C03B19/06
CPC分类号： C03B19/1095 , C03B17/04 , C03B19/095 , C03B19/106 , C03B2201/24 , Y02P40/57 , Y10T428/268 , Y10T428/2982
摘要： Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung von mit Stickstoff dotiertem Quarzglas wird ein SiO 2 -Basisprodukt in Form von SiO 2 -Körnung oder eines aus der SiO 2 -Körnung erzeugten, porösen Halbzeugs bereitgestellt und das SiO 2 -Basisprodukt in einem Heißprozess in einer ein stickstoffhaltiges Reaktionsgas enthaltenden Atmosphäre zu dem Quarzglas mit darin chemisch gebundenem Stickstoff verarbeitet. Hiervon ausgehend ist ein Verfahren anzugeben, mittels dem in Quarzglas eine Stickstoffdotierung mit einem möglichst hohen Anteil an chemisch gebundenem Stickstoff erreichbar ist. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass als stickstoffhaltiges Reaktionsgas ein Stickoxid eingesetzt wird, und dass ein SiO 2 -Basisprodukt eingesetzt wird, das beim Heißprozess eine Konzentration an Sauerstoffmangeldefekten von mindestens 2 x 10 15 cm -3 aufweist, wobei das SiO 2 -Basisprodukt aus SiO 2 -Teilchen mit einer mittleren Teilchengröße im Bereich von 200 nm bis 300 μm besteht (D 50 -Wert).
摘要翻译：在已知的用于生产氮掺杂石英玻璃的方法中，以SiO 2簇或SiO 2形式的SiO 2亚-2基产物由SiO 2子结构制备的SiO 2子结构和SiO 2子基产物在含有含氮反应气体石英玻璃用其中化学结合的氮进行处理。在此基础上，将规定一种方法，借助于该方法可以在石英玻璃中实现具有最大化学键合氮的氮掺杂。该目的根据本发明来实现。其特征在于凝胶＆ouml; ST，作为含氮的反应气体，氮氧化物被使用，并且由SiO <子> 2 -Basisprodukt采用，当开平＆的大街过程具有至少2×10 ^{15氧缺乏缺陷浓度< 其中SiO 2基本产物由平均粒径在该范围内的SiO 2颗粒组成从200nm到300μm（D 50值）。}

23. 发明申请

WO2008040615A1 SiO2-SCHLICKER FÜR DIE HERSTELLUNG VON QUARZGLAS SOWIE VERWENDUNG DES SCHLICKERS 审中-公开
标题翻译：二氧化硅SCHLICKER滑差的石英玻璃的生产和使用
公开(公告)号：WO2008040615A1
公开(公告)日：2008-04-10
申请号：PCT/EP2007/059565
申请日：2007-09-12
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , WERDECKER, Waltraud , TRAEGER, Norbert , WEBER, Juergen
发明人： WERDECKER, Waltraud , TRAEGER, Norbert , WEBER, Juergen
IPC分类号： C03B19/06 , G02B5/02 , C03C17/02 , H05B3/00
CPC分类号： C03C17/02 , C03B19/06 , C03B19/066 , C03B20/00 , C03C2218/11
摘要： Ein bekannter SiO 2 -Schlicker zur Herstellung von Quarzglas enthält eine Dispersionsflüssigkeit und amorphe SiO 2 -Teilchen mit Teilchengrößen bis maximal 500 µm, wobei SiO 2 -Teilchen mit Teilchengrößen im Bereich zwischen 1 µm und 60 µm den größten Volumenanteil ausmachen, sowie außerdem SiO 2 -Nanoteilchen mit Teilchengrößen von weniger als 100 nm im Bereich zwischen 0,2 Gew.-% und 15 Gew.-% (bezogen auf den gesamten Feststoffgehalt). Um hiervon ausgehend einen Schlicker bereit zu stellen, dessen Fließverhalten insbesondere im Hinblick auf eine Verarbeitung durch Abziehen oder Gießen der Schlickermasse und in Bezug auf ein rissfreies Trocknen und Sintern optimiert ist, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die SiO 2 -Teilchen eine mehrmodale Teilchengrößenverteilung mit einem ersten Maximum der Größenverteilung im Bereich von 1 und 3 µm und einem zweiten Maximum im Bereich von 5 bis 50 µm aufweisen, und dass der Feststoffgehalt (Gewichtsanteil der SiO 2 -Teilchen und der SiO 2 -Nanoteilchen zusammen) im Bereich zwischen 83 und 90 % liegt.
摘要翻译：一个众所周知的SiO _{2 -Schlicker用于容纳液体和无定形的SiO _{的分散体的生产熔融二氧化硅的2 高达500微米的颗粒尺寸，颗粒，其中的SiO _{2 在1微米和60微米之间的范围内的粒径的粒子构成的最大体积分数，并且还二氧化硅_{2 与颗粒重量的纳米颗粒尺寸小于100nm的范围内之间.- 0.2重量％和15 .-％（基于总固体含量）。为了此基础上提供制备浆液，其流动特性，特别适合与通过去除或在相对于无裂纹的干燥和烧结的浆料的浇注以便处理时，本发明提出，在SiO _{2 颗粒具有在1个3微米的范围内，并在5至50微米具有范围内的第二最大尺寸分布的第一最大值的多峰粒度分布，且其固体含量（按重量计的比例_{的SiO 2 颗粒和所述_{的SiO 2 纳米颗粒）是一起在范围83-90％。}}}}}}}

24. 发明申请

WO2008031742A2 COMPONENT OF QUARTZ GLASS FOR USE IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME 审中-公开
标题翻译：用于半导体制造的石英玻璃的组分及其制造方法
公开(公告)号：WO2008031742A2
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：PCT/EP2007/059217
申请日：2007-09-04
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , WEBER, Juergen , SATO, Tatsuhiro , SCHNEIDER, Ralf , HOFMANN, Achim , GEBAUER, Christian
发明人： WEBER, Juergen , SATO, Tatsuhiro , SCHNEIDER, Ralf , HOFMANN, Achim , GEBAUER, Christian
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/066 , C03B20/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/24 , C03B2201/34 , C03B2201/36 , C03C4/20 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/3411 , C03C2201/3435 , C03C2203/10 , C03C2203/54
摘要： The invention starts from a known component of quartz glass for use in semiconductor manufacture, which component at least in a near-surface region shows a co-doping of a first dopant and of a second oxidic dopant, said second dopant containing one or more rare-earth metals in a concentration of 0.1-3% by wt. each (based on the total mass of SiO 2 and dopant). Starting from this, to provide a quartz glass component for use in semiconductor manufacture in an environment with etching action, which component is distinguished by both high purity and high resistance to dry etching and avoids known drawbacks caused by co-doping with aluminum oxide, it is suggested according to the invention that the first dopant should be nitrogen and that the mean content of metastable hydroxyl groups of the quartz glass is less than 30 wtppm.
摘要翻译：本发明从用于半导体制造的石英玻璃的已知组件开始，至少在近表面区域中的该组分表现出第一掺杂剂和第二氧化物掺杂剂的共掺杂，所述第二掺杂剂含有一种或多种稀有金属浓度为0.1-3％（重量）的矿物金属。每个（基于SiO 2的总质量和掺杂剂）。从此开始，为了在具有蚀刻作用的环境中提供用于半导体制造的石英玻璃组分，该组分通过高纯度和高耐干蚀刻性而被区分，并避免了与氧化铝共掺杂引起的已知缺点，根据本发明建议第一掺杂剂应为氮气，并且石英玻璃的亚稳态羟基的平均含量小于30重量ppm。

25. 发明申请

WO2007075790A1 PROCESS FOR THE PREPARATION OF 6, 6-DIMETHYL-3-AZABICYCLO-[3.1.0]-HEXANE COMPOUNDS AND ENANTIOMERIC SALTS THEREOF 审中-公开
标题翻译：制备6,6-二甲基-3-亚氨基] - [3.1.0] - 六氢化合物的方法及其优良的盐
公开(公告)号：WO2007075790A1
公开(公告)日：2007-07-05
申请号：PCT/US2006/048613
申请日：2006-12-20
申请人： SCHERING CORPORATION , WU, George , CHEN, Frank, X. , RASHATASAKHON, Paitoon , ECKERT, Jeffrey, M. , WONG, George, S. , LEE, Hong-Chang , ERICKSON, Nolan, C. , VANCE, Jennifer, Ann , NIRCHIO, Peter, C. , WEBER, Juergen , TSAI, David, Jieh-Shyh , NANFEI, Zou
发明人： WU, George , CHEN, Frank, X. , RASHATASAKHON, Paitoon , ECKERT, Jeffrey, M. , WONG, George, S. , LEE, Hong-Chang , ERICKSON, Nolan, C. , VANCE, Jennifer, Ann , NIRCHIO, Peter, C. , WEBER, Juergen , TSAI, David, Jieh-Shyh , NANFEI, Zou
IPC分类号： C07D209/54
CPC分类号： C07D209/54 , C07D209/52
摘要： The present invention provides for a process for preparing racemic methyl 6,6-dimethyl-3-azabicyclo[3,1,0]hexane-2-carboxylate, its corresponding salt: (2S, 3R, 4S)-methyl 6,6-dimethyl-3-azabicyclo[3,1,0]hexane-2-carboxylate di-p-toluoyl-D-tartaric acid ("D-DTTA") salt or a (2R, 3S, 4R)-methyl 6,6-dimethyl-3-azabicyclo[3,1,0]hexane-2-carboxylate di-p-toluoyl-L-tartaric acid salt ("L-DTTA") in a high enantiomeric excess. This invention also provides for a process for preparing a (2S, 3R, 4S)-methyl 6,6-dimethyl-3-azabicyclo[3,1,0]hexane-2-carboxylate dibenzoyl-D-tartaric acid ("D-DBTA") salt or a (2R, 3S, 4R)-methyl 6,6-dimethyl-3-azabicyclo[3,1,0]hexane-2-carboxylate L-tartaric acid ("L-DBTA") salt in a high enantiomeric excess. Further, this invention provides a process for preparing intermediates II, IIB, III, IV, IV salt, V, VI, and VII.
摘要翻译：本发明提供了制备外消旋6,6-二甲基-3-氮杂双环[3,1,0]己烷-2-羧酸甲酯及其相应的盐的方法：（2S，3R，4S）二甲基-3-氮杂双环[3,1,0]己烷-2-羧酸酯二对甲苯甲酰-D-酒石酸（“D-DTTA”）盐或（2R，3S，4R）二甲基-3-氮杂双环[3,1,0]己烷-2-羧酸酯二对甲苯甲酰基-L-酒石酸盐（“L-DTTA”）。本发明还提供了制备（2S，3R，4S） - 6,6-二甲基-3-氮杂双环[3,1,0]己烷-2-羧酸二苯甲酰基-D-酒石酸（“D- DBTA“）盐或6,6-二甲基-3-氮杂二环[3,1,0]己烷-2-羧酸（2R，3S，4R） - 甲酯将L-酒石酸（”L-DBTA“ 高对映体过量。此外，本发明提供了制备中间体II，IIB，III，IV，IV盐，V，VI和VII的方法。

26. 发明申请

WO2007068692A1 VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER OBERFLÄCHENBELEGUNG EINES QUARZGLASBAUTEILS 审中-公开
标题翻译：一种用于确定石英玻璃结构供给表面占有率
公开(公告)号：WO2007068692A1
公开(公告)日：2007-06-21
申请号：PCT/EP2006/069593
申请日：2006-12-12
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PROCUCTS CO. LTD. , WIEDEMANN, Karl-Heinz , WEBER, Juergen
发明人： WIEDEMANN, Karl-Heinz , WEBER, Juergen
IPC分类号： G01N1/32
CPC分类号： G01N1/32 , G01N1/4044
摘要： Ein bekanntes Verfahren zur Bestimmung der Oberflächenbelegung eines Quarzglasbauteils mit Verunreinigungen umfasst eine Probenahme, bei der mindestens ein Teil der Oberfläche des Quarzglas-Bauteils mit einer sauren Desorptionslösung in Kontakt gebracht, zu analysierende Verunreinigungen der Oberfläche darin angesammelt und einer elementspezifischen Analyse unterzogen werden. Um hiervon ausgehend ein Verfahren bereitzustellen, mittels dem die Oberflächenbelegung von Quarzglasbauteilen genau und reproduzierbar bestimmt werden kann, und das für die Ermittlung geringer Verunreinigungsmengen in der Größenordnung von 10 10 Atomen/cm 2 auch für einen Einsatz unmittelbar vor Ort geeignet ist, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die Probenahme ein Kontaktieren der Bauteil-Oberfläche mit einer sauren Desorptionslösung umfasst, die Wasser, Salpetersäure und Flusssäure enthält, wobei die Salpetersäure-Konzentration in der Desorptionslösung zwischen dem 1,5-fachen bis 5-fachen der Flusssäure-Konzentration (in Vol.-%) beträgt, und mit der Maßgabe, dass der Gehalt an Flusssäure, die Kontaktierungsdauer und -temperatur so eingestellt werden, dass die Bauteiloberfläche nicht mehr als 0,5 µm tief abgetragen wird.
摘要翻译：用于确定与杂质的石英玻璃元件的表面覆盖的公知方法包括在与在其中积累待分析表面的污染物接触酸性解吸液带来至少石英玻璃部件的表面的一部分的采样，和一个特定的元素分析进行。向该基础，借助于该能精确且可再现地被确定的石英玻璃部件的表面涂层，以提供一个方法，和较小的，用于确定在10 ^{10 原子/ cm ^{2 也适用于在现场直接使用，本发明提出的是，采样包括将所述部件表面用含有水，硝酸和氢氟酸的酸性解吸溶液接触，在1之间的解吸溶液中的硝酸浓度， 5倍到氢氟酸浓度的5倍（在体积％）的重量，并用氢氟酸，接触时间和温度的内容被调整的条件，使得在部件表面不大于0.5微米深深侵蚀。}}

27. 发明申请

WO2006108766A1 HALTER AUS QUARZGLAS FÜR DIE PROZESSIERUNG VON HALBLEITERWAFERN UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES HALTERS 审中-公开
标题翻译： HOLDER QUARZGLAS用于加工半导体晶片和制造方法的持有者
公开(公告)号：WO2006108766A1
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：PCT/EP2006/061192
申请日：2006-03-30
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , WEBER, Juergen , POGGE, Tobias , TROMMER, Martin , KUEHN, Bodo , KIRST, Ulrich , WERDECKER, Waltraud
发明人： WEBER, Juergen , POGGE, Tobias , TROMMER, Martin , KUEHN, Bodo , KIRST, Ulrich , WERDECKER, Waltraud
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14 , H01L21/00
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/24 , C03B2201/32 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0025 , C03C23/006 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/32 , C03C2201/50 , C03C2203/54 , C30B25/12 , C30B31/14 , C30B35/00 , Y02P40/57
摘要： Ein ideales Quarzglas für einen Wafer-Halter zum Einsatz in ätzend wirkender Umgebung zeichnet sich sowohl durch hohe Reinheit als auch durch eine hohe Trockenätzbeständigkeit aus. Um ein Quarzglas anzugeben, das diese Anforde rungen weitgehend erfüllt, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Quarz glas mindestens in einem oberflächennahen Bereich mit Stickstoff dotiert ist, einen mittleren Gehalt an metastabilen Hydroxylgruppen von weniger als 30 Gew.-ppm aufweist, und dass seine fiktive Temperatur unterhalb von 1250 °C und seine Vis kosität bei einer Temperatur von 1200°C mindestens 1013 dPas betragen. Ein wirtschaftliches Verfahren zur Herstellung eines derartigen Quarzglases umfasst folgende Verfahrensschritte: Erschmelzen eines SiO2-Rohstoffs zu einem Quarz- glas-Rohling, wobei der SiO2-Rohstoff oder der Quarzglas-Rohling einer Entwäs serungsmaßnahme unterzogen werden, ein Erhitzen des SiO2-Rohstoffs oder des Quarzglas-Rohlings auf eine Nitridierungstemperatur im Bereich zwischen 1050°C und 1850 °C unter einer Ammoniak enthaltenden Atmosphäre, eine Temperatur behandlung, mittels der das Quarzglas des Quarzglas-Rohlings auf eine fiktive Temperatur von 1250 °C oder weniger eingestellt wird, und eine Oberflächenbe handlung des Quarzglas-Rohlings unter Bildung des Quarzglas-Halters.
摘要翻译：用于在腐蚀性环境中使用的晶片保持器的理想的石英玻璃的演技由两个高纯度和高耐干蚀性区分。为了提供一个石英玻璃，其支柱很大程度上满足这些Anforde，本发明提出的是，石英玻璃至少与氮的近表面区域掺杂，具有按重量计小于30ppm的亚稳定羟基的平均含量，且其虚拟以下1250℃，粘度温度由显示是在1200℃的温度下为至少1013 dPa·s相当。用于制造这样的石英玻璃的经济的方法包括下列步骤：形成SiO 2原料的熔融，以获得石英玻璃坯料中，SiO 2原材料或石英玻璃坯料的Entwässerungsmaßnahme进行SiO 2的原料的加热或石英玻璃 Döhring添加包含在氨气氛下1050℃和1850℃之间的范围内的氮化温度下，通过该石英玻璃坯料中石英玻璃被设置为1250℃或更低的温度处理的假想温度的装置，和一个治疗Oberflächenbe 该石英玻璃坯料与形成在石英玻璃夹具的。

28. 发明申请

WO2004113294A1 PROCESS AND INTERMEDIATES FOR THE PREPARATION OF (1R, 2S, 5S)-3-AZABICYCLO[3, 1, 0]HEXANE-2-CARBOXAMIDE, N-[3-AMINO-1-(CYCLOBUTYLMETHYL)-2, 3-DIOXOPROPYL] ]-3-[(2S)-2-[[[1, 1-DIMETHYLETHYL]AMINO]CARBONYLAMINO]-3, 3-DIMETHYL-1-OXOBUTYL]-6, 6-DIMETHYL 审中-公开
标题翻译：（1R，2S，5S）-3-亚氨基] [3,1,0]庚烷-2-羧酰胺，N- [3-氨基-1-（环己基甲基）-2,3-二氧杂环戊烯]的制备方法和中间体 ] -3 - [（2S）-2 - [[[1,1-二甲基氨基]氨基]羰基氨基] -3,3-二甲基-1-氧代丁基] -6,6-二甲基
公开(公告)号：WO2004113294A1
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：PCT/US2004/018914
申请日：2004-06-15
申请人： SCHERING CORPORATION , SUDHAKAR, Anantha , DAHANUKAR, Vilas , ZAVIALOV, Ilia, A. , ORR, Cecilia , NGUYEN, Hoa, N. , WEBER, Juergen , JEON, Ingyu , CHEN, Minzhang , GREEN, Michael, D. , WONG, George, S. , PARK, Jeonghan , IWAMA, Tetsuo
发明人： SUDHAKAR, Anantha , DAHANUKAR, Vilas , ZAVIALOV, Ilia, A. , ORR, Cecilia , NGUYEN, Hoa, N. , WEBER, Juergen , JEON, Ingyu , CHEN, Minzhang , GREEN, Michael, D. , WONG, George, S. , PARK, Jeonghan , IWAMA, Tetsuo
IPC分类号： C07D209/52
CPC分类号： C07K5/0202 , C07C271/22 , C07C2601/04
摘要： In one embodiment, the present application relates to a process of making a compound of formula (I): and to certain intermediate compounds that are made within the process of making the compound of formula (I).
摘要翻译：在一个实施方案中，本申请涉及制备式（I）化合物的方法：和在制备式（I）化合物的过程中制备的某些中间体化合物。

29. 发明专利

DE8708858U1 未知
公开(公告)号：DE8708858U1
公开(公告)日：1987-08-27
申请号：DE8708858
申请日：1987-06-26
申请人： WEBER, JUERGEN, 4970 BAD OEYNHAUSEN, DE
IPC分类号： B60R11/00 , B60R11/02

30. 发明专利

DE3404529A1 Data plate, in particular identification plate for motor vehicles 未知
公开(公告)号：DE3404529A1
公开(公告)日：1985-08-14
申请号：DE3404529
申请日：1984-02-09
申请人： HESS PAUL , WEBER JUERGEN
发明人： HESS PAUL , WEBER JUERGEN
IPC分类号： B60R13/10 , G09F7/00
摘要： The intention is to secure a data plate, in particular an identification plate for motor vehicles, against unauthorised removal and reuse. For this purpose, a medium (6) which can be discoloured by the action of air is arranged in at least one sealed cavity (3, 17) which is visible from the outside, and a movable partition element (12) is provided which, when the data plate (1) is removed from its mount, inevitably releases the air inlet to the cavity (Fig. 2).

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