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21. 发明专利

TW201843193A 可溶性多官能乙烯基芳香族共聚合物、其製造方法、硬化性樹脂組成物及其硬化物、硬化性複合材料、硬化複合材料、積層體、帶有樹脂的金屬箔以及電路基板材料用清漆审中-公开
简体标题：可溶性多官能乙烯基芳香族共聚合物、其制造方法、硬化性树脂组成物及其硬化物、硬化性复合材料、硬化复合材料、积层体、带有树脂的金属箔以及电路基板材料用清漆
公开(公告)号：TW201843193A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107111174
申请日：2018-03-30
申请人：日商新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO.,LTD.
发明人：川辺正直 , KAWABE, MASANAO , 岩下新一 , IWASHITA, SHINICHI
IPC分类号： C08F212/36 , C08F212/08 , C08F212/12 , C08F2/06 , C08F2/38 , C08F4/06 , C08L25/08 , C08K5/14 , C08L71/12 , C08F290/06 , B32B15/08 , H05K1/03 , H05K3/38 , H05K3/46
摘要：本發明提供一種耐熱性、相容性、介電特性、濕熱可靠性及耐熱氧化劣化性得到改善且可提供硬化物或成形體的新穎的可溶性多官能乙烯基芳香族共聚合物。本發明揭示一種可溶性多官能乙烯基芳香族共聚合物及其製造方法，所述可溶性多官能乙烯基芳香族共聚合物為含有源自二乙烯基芳香族化合物（a）、苯乙烯（b）及苯乙烯以外的單乙烯基芳香族化合物（c）的結構單元的多官能乙烯基芳香族共聚合物，所述共聚合物含有源自二乙烯基芳香族化合物（a）的下述式（a1）所表示的包含不飽和烴基的重複單元，（a1）並且於所述共聚合物的末端含有規定量的源自單體（a）、單體（b）、單體（c）的具有乙烯基或伸乙烯鍵的特定末端基。
简体摘要：本发明提供一种耐热性、兼容性、介电特性、湿热可靠性及耐热氧化劣化性得到改善且可提供硬化物或成形体的新颖的可溶性多官能乙烯基芳香族共聚合物。本发明揭示一种可溶性多官能乙烯基芳香族共聚合物及其制造方法，所述可溶性多官能乙烯基芳香族共聚合物为含有源自二乙烯基芳香族化合物（a）、苯乙烯（b）及苯乙烯以外的单乙烯基芳香族化合物（c）的结构单元的多官能乙烯基芳香族共聚合物，所述共聚合物含有源自二乙烯基芳香族化合物（a）的下述式（a1）所表示的包含不饱和烃基的重复单元，（a1）并且于所述共聚合物的末端含有规定量的源自单体（a）、单体（b）、单体（c）的具有乙烯基或伸乙烯键的特定末端基。

22. 发明专利

TW201831652A 有機電場發光元件用材料及有機電場發光元件审中-公开
简体标题：有机电场发光组件用材料及有机电场发光组件
公开(公告)号：TW201831652A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106145548
申请日：2017-12-25
申请人：日商新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO.,LTD.
发明人：池永裕士 , IKENAGA, YUJI , 林健太郎 , HAYASHI, KENTARO , 長浜拓男 , NAGAHAMA, TAKUO , 川田敦志 , KAWADA, ATSUSHI , 福松敬之 , FUKUMATSU, TAKAYUKI
IPC分类号： C09K11/06 , C07D487/04 , H01L51/50
摘要：本發明提供一種高效率且具有高的驅動穩定性的實用上有用的有機EL元件及適合其的化合物。一種有機電場發光元件用化合物，其由通式（1）表示，具有連結有芳香族烴基及/或芳香族雜環基的骨架結構，不含取代基的骨架結構的分子量為500以上且1500以下，並具有骨架結構的藉由構形探索的計算而生成的立體構形的數量成為9個～100000個的結構。此處，Ar為碳數6～30的芳香族烴基、碳數3～24的芳香族雜環基或該些芳香族環的 2個～10個連結而成的連結芳香族基，HetAr為碳數3～24的芳香族雜環基，z為整數2～5。
简体摘要：本发明提供一种高效率且具有高的驱动稳定性的实用上有用的有机EL组件及适合其的化合物。一种有机电场发光组件用化合物，其由通式（1）表示，具有链接有芳香族烃基及/或芳香族杂环基的骨架结构，不含取代基的骨架结构的分子量为500以上且1500以下，并具有骨架结构的借由构形探索的计算而生成的三維构形的数量成为9个～100000个的结构。此处，Ar为碳数6～30的芳香族烃基、碳数3～24的芳香族杂环基或该些芳香族环的 2个～10个链接而成的链接芳香族基，HetAr为碳数3～24的芳香族杂环基，z为整数2～5。

23. 发明专利

TW201825295A 聚醯亞胺膜、銅張積層板及電路基板审中-公开
简体标题：聚酰亚胺膜、铜张积层板及电路基板
公开(公告)号：TW201825295A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106132049
申请日：2017-09-19
申请人：日商新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO.,LTD.
发明人：安藤智典 , ANDO, TOMONORI , 西山哲平 , NISHIYAMA, TEPPEI , 須藤芳樹 , SUTO, YOSHIKI , 森亮 , MORI, AKIRA
IPC分类号： B32B27/34 , C08G73/10 , B32B15/088 , H05K1/03
摘要：一種聚醯亞胺膜，其具有非熱塑性聚醯亞胺層，且構成非熱塑性聚醯亞胺層的非熱塑性聚醯亞胺較佳為相對於四羧酸殘基的100莫耳份而合計包含80莫耳份以上的由3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐（BPDA）所衍生的BPDA殘基及由1,4-伸苯基雙(偏苯三甲酸單酯)二酐（TAHQ）所衍生的TAHQ殘基中的至少一種以及由均苯四甲酸二酐（PMDA）所衍生的PMDA殘基及由2,3,6,7-萘四羧酸二酐（NTCDA）所衍生的NTCDA殘基中的至少一種，且較佳為介電正切（Df）為0.004以下。
简体摘要：一种聚酰亚胺膜，其具有非热塑性聚酰亚胺层，且构成非热塑性聚酰亚胺层的非热塑性聚酰亚胺较佳为相对于四羧酸残基的100莫耳份而合计包含80莫耳份以上的由3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐（BPDA）所衍生的BPDA残基及由1,4-伸苯基双(偏苯三甲酸单酯)二酐（TAHQ）所衍生的TAHQ残基中的至少一种以及由均苯四甲酸二酐（PMDA）所衍生的PMDA残基及由2,3,6,7-萘四羧酸二酐（NTCDA）所衍生的NTCDA残基中的至少一种，且较佳为介电正切（Df）为0.004以下。

25. 发明专利

TWI652810B 閘極絕緣膜、有機薄膜電晶體及有機薄膜電晶體之製造方法有权
简体标题：闸极绝缘膜、有机薄膜晶体管及有机薄膜晶体管之制造方法
公开(公告)号：TWI652810B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW103128636
申请日：2014-08-20
申请人：日商新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD. , 國立大學法人山形大學 , YAMAGATA UNIVERSITY
发明人：奧慎也 , OKU, SHINYA , 水上誠 , MIZUKAMI, MAKOTO , 時任静士 , TOKITO, SHIZUO , 高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 山田裕章 , YAMADA, HIROAKI , 林秀平 , HAYASHI, SHUHEI
IPC分类号： H01L27/28 , H01L21/8232

26. 发明专利

TW201837605A 遮光膜用感光性樹脂組成物、遮光膜、液晶顯示裝置、具有間隔件功能之遮光膜的製造方法及液晶顯示裝置的製造方法审中-公开
简体标题：遮光膜用感光性树脂组成物、遮光膜、液晶显示设备、具有间隔件功能之遮光膜的制造方法及液晶显示设备的制造方法
公开(公告)号：TW201837605A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107106162
申请日：2018-02-23
申请人：日商新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：小野悠樹 , ONO, YUKI , 今野高志 , KONNO, TAKASHI
IPC分类号： G03F7/028 , G02F1/1339 , G02F1/1335 , H01L21/027
摘要：本發明之課題在於提供一種感光性樹脂組成物，其可形成遮光性及絕緣性高而且壓縮率、彈性恢復率、破壞強度優異之遮光膜，並且，在形成有間隔件功能之遮光膜時，可形成△H之階差而可形成更接近垂直的圖案形狀。該課題之解決手段為本發明之遮光膜用感光性樹脂組成物，係含有(A)至(E)成分作為必須成分。 (A)含有聚合性不飽和基之鹼可溶性樹脂，係含有源自(甲基)丙烯酸酯化合物之單元、與具有(甲基)丙烯醯基及二或三羧酸殘基之單元之重量平均分子量3000至50000且酸價30至200mg/KOH之聚合物；(B)光聚合性單體，係具有至少2個乙烯性不飽和鍵； (C)光聚合起始劑；(D)遮光成分，係黑色有機顏料、混色有機顏料或遮光材；以及(E)溶劑。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种感光性树脂组成物，其可形成遮光性及绝缘性高而且压缩率、弹性恢复率、破坏强度优异之遮光膜，并且，在形成有间隔件功能之遮光膜时，可形成△H之阶差而可形成更接近垂直的图案形状。该课题之解决手段为本发明之遮光膜用感光性树脂组成物，系含有(A)至(E)成分作为必须成分。 (A)含有聚合性不饱和基之碱可溶性树脂，系含有源自(甲基)丙烯酸酯化合物之单元、与具有(甲基)丙烯酰基及二或三羧酸残基之单元之重量平均分子量3000至50000且酸价30至200mg/KOH之聚合物；(B)光聚合性单体，系具有至少2个乙烯性不饱和键； (C)光聚合起始剂；(D)遮光成分，系黑色有机颜料、混色有机颜料或遮光材；以及(E)溶剂。

27. 发明专利

TW201837061A 感光性樹脂組成物、遮光膜、液晶顯示裝置及遮光膜與液晶顯示裝置的製造方法审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物、遮光膜、液晶显示设备及遮光膜与液晶显示设备的制造方法
公开(公告)号：TW201837061A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107111538
申请日：2018-03-31
申请人：日商新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO.,LTD.
发明人：小野悠樹 , ONO, YUKI
IPC分类号： C08F2/44 , C08K3/04 , C08G63/547 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/032 , G03F7/038 , G03F7/40 , G02B5/20 , G02F1/1339 , G02F1/136
摘要：本發明是有關於一種具有間隔件功能的遮光膜用的感光性樹脂組成物，包含（A）成分～（E）成分作為必須成分：（A）含聚合性不飽和基的鹼可溶性樹脂；（B）具有至少三個乙烯性不飽和鍵的光聚合性單體；（C）光聚合起始劑；（D）以光學密度成為4/μm的方式制膜而成的膜的表面電阻率為1×108Ω/□以上的、包含絕緣性碳黑的遮光成分；以及（E）溶劑；並且（D）成分除外的組成物的硬化物的鉛筆硬度為HB以上。可獲得不僅維持遮光性與絕緣性，而且壓縮率、彈性恢復率、斷裂強度等間隔件特性優異，且可形成ΔH的階差並具有優異的圖案形狀的間隔件。
简体摘要：本发明是有关于一种具有间隔件功能的遮光膜用的感光性树脂组成物，包含（A）成分～（E）成分作为必须成分：（A）含聚合性不饱和基的碱可溶性树脂；（B）具有至少三个乙烯性不饱和键的光聚合性单体；（C）光聚合起始剂；（D）以光学密度成为4/μm的方式制膜而成的膜的表面电阻率为1×108Ω/□以上的、包含绝缘性碳黑的遮光成分；以及（E）溶剂；并且（D）成分除外的组成物的硬化物的铅笔硬度为HB以上。可获得不仅维持遮光性与绝缘性，而且压缩率、弹性恢复率、断裂强度等间隔件特性优异，且可形成ΔH的阶差并具有优异的图案形状的间隔件。

28. 发明专利

TW201836840A 可撓性覆銅積層板及可撓性線路基板审中-公开
简体标题：可挠性覆铜积层板及可挠性线路基板
公开(公告)号：TW201836840A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107121717
申请日：2014-03-27
申请人：日商新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：松下祐之 , MATSUSHITA, YUJI , 井伊正一 , II, MASAKAZU
IPC分类号： B32B15/08 , B32B37/00 , B29C65/02 , B29C71/02 , B29D7/01 , B30B3/04 , B30B15/34 , H05K3/00 , H05K1/02
摘要：本發明係藉由使用一對之熱壓輥之簡易方法提供撓曲性優異的可撓性覆銅積層體。本發明係提供一種可撓性覆銅積層板的製造方法，其具有：使用熱壓輥，加熱壓接銅箔(A)及聚醯亞胺薄膜等之積層體(B)之加熱壓接步驟；以及再加熱步驟；其中，前述積層體(B)的聚醯亞胺層，係由具有熱塑性聚醯亞胺層(ii)作為接著層之複數層聚醯亞胺層所構成，加熱壓接步驟之層合溫度T1係熱塑性聚醯亞胺層(ii)之玻璃轉移溫度以上，於再加熱步驟中之加熱處理溫度T2設為T1以上，以使藉由加熱壓接步驟後的銅箔(A)在厚度方向之由X線繞射所求得之(200)面的繞射強度(I)、及藉由微粉末銅的X線繞射所求得之(200)面繞射強度(Io)之關係成為I/Io>100。
简体摘要：本发明系借由使用一对之热压辊之简易方法提供挠曲性优异的可挠性覆铜积层体。本发明系提供一种可挠性覆铜积层板的制造方法，其具有：使用热压辊，加热压接铜箔(A)及聚酰亚胺薄膜等之积层体(B)之加热压接步骤；以及再加热步骤；其中，前述积层体(B)的聚酰亚胺层，系由具有热塑性聚酰亚胺层(ii)作为接着层之复数层聚酰亚胺层所构成，加热压接步骤之层合温度T1系热塑性聚酰亚胺层(ii)之玻璃转移温度以上，于再加热步骤中之加热处理温度T2设为T1以上，以使借由加热压接步骤后的铜箔(A)在厚度方向之由X线绕射所求得之(200)面的绕射强度(I)、及借由微粉末铜的X线绕射所求得之(200)面绕射强度(Io)之关系成为I/Io>100。

29. 发明专利

TW201827519A 纖維強化複合材料用樹脂組成物及使用其之纖維強化複合材料审中-公开
简体标题：纤维强化复合材料用树脂组成物及使用其之纤维强化复合材料
公开(公告)号：TW201827519A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106134997
申请日：2017-10-13
申请人：日商新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：谷口裕一 , TANIGUCHI, YUICHI , 狩野恭兵 , KANO, KYOHEI
IPC分类号： C08L63/02 , C08K5/103 , C08G59/50 , C08J5/04 , B29C70/48 , B29C70/40
摘要：本發明提供適合作為除了顯示良好之對強化纖維之含浸性以外亦具有速硬化性、且成形物之耐熱性高的纖維強化複合材料用樹脂組成物。　　本發明之纖維強化複合材料用樹脂組成物，其特徵係由包含環氧樹脂(A)與一分子中具有三個以上(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯化合物(B)之主劑，及包含以下述通式(1)表示之胺化合物(C)之硬化劑所構成，且主劑與硬化劑之質量比為85：15～65：35之範圍的二液硬化型之樹脂組成物，環氧樹脂(A)中含有75～100質量%之雙酚A型環氧樹脂，前述主劑之黏度為10000mPa．s以下，前述硬化劑之黏度為800mPa．s以下， (式中，X表示碳數1～16之n價有機基，n表示2或3)。
简体摘要：本发明提供适合作为除了显示良好之对强化纤维之含浸性以外亦具有速硬化性、且成形物之耐热性高的纤维强化复合材料用树脂组成物。　　本发明之纤维强化复合材料用树脂组成物，其特征系由包含环氧树脂(A)与一分子中具有三个以上(甲基)丙烯酰基之(甲基)丙烯酸酯化合物(B)之主剂，及包含以下述通式(1)表示之胺化合物(C)之硬化剂所构成，且主剂与硬化剂之质量比为85：15～65：35之范围的二液硬化型之树脂组成物，环氧树脂(A)中含有75～100质量%之双酚A型环氧树脂，前述主剂之黏度为10000mPa．s以下，前述硬化剂之黏度为800mPa．s以下， (式中，X表示碳数1～16之n价有机基，n表示2或3)。

30. 发明专利

TW201825604A 金屬-樹脂複合體、標記物質、免疫學測定法、免疫學測定用試劑、分析物的測定方法、用以對分析物進行測檢或定量的分析物測定用套組及測向流型層析用測試條审中-公开
简体标题：金属-树脂复合体、标记物质、免疫学测定法、免疫学测定用试剂、分析物的测定方法、用以对分析物进行测检或定量的分析物测定用套组及测向流型层析用测试条
公开(公告)号：TW201825604A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106145638
申请日：2017-12-26
申请人：日商新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO.,LTD.
发明人：榎本靖 , ENOMOTO, YASUSHI , 松村康史 , MATSUMURA, YASUFUMI
IPC分类号： C08L101/00 , C08K3/08 , G01N33/543
摘要：金屬-樹脂複合體具有將多個金屬粒子固定於樹脂粒子上而成的結構，於pH3～pH10的範圍中，ζ電位的最大值為5 mV以上，且最小值為-5 mV以下。金屬-樹脂複合體較佳為於pH3～pH10的範圍中，ζ電位的最大值與最小值的差為20 mV以上，更佳為ζ電位的零電荷點存在於pH3.5～pH9.0的範圍內。金屬-樹脂複合體可使抗原或抗體吸附於其表面而作為標記物質應用於免疫學測定法或免疫學測定用試劑。
简体摘要：金属-树脂复合体具有将多个金属粒子固定于树脂粒子上而成的结构，于pH3～pH10的范围中，ζ电位的最大值为5 mV以上，且最小值为-5 mV以下。金属-树脂复合体较佳为于pH3～pH10的范围中，ζ电位的最大值与最小值的差为20 mV以上，更佳为ζ电位的零电荷点存在于pH3.5～pH9.0的范围内。金属-树脂复合体可使抗原或抗体吸附于其表面而作为标记物质应用于免疫学测定法或免疫学测定用试剂。

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