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    • 23. 发明专利
    • 有色薄型化覆蓋膜及其製法
    • 有色薄型化覆盖膜及其制法
    • TW201831318A
    • 2018-09-01
    • TW106130143
    • 2017-09-04
    • 亞洲電材股份有限公司ASIA ELECTRONIC MATERIAL CO., LTD.
    • 李韋志LEE, WEI CHIH楊立志YANG, LI CHIH李建輝LEE, CHIEN HUI
    • B32B7/02B32B7/06B32B27/00B32B37/14H05K3/28
    • 一種有色薄型化覆蓋膜,包括上離型層、有色油墨層、低介電膠層和下離型層,其中,該有色油墨層位於該上離型層和該低介電膠層之間,該低介電膠層位於該有色油墨層和該下離型層之間,且該有色油墨層的厚度為1至10μm,該低介電膠層的厚度為3至25μm,以令該有色油墨層和該低介電膠層兩者的厚度之和為4至35μm。本發明的製造方法簡單,且具有極低的介電常數與損耗、極低的離子遷移性、良好的接著力、高散熱性、高柔軟性和低反彈力,可低溫加工,特別適合在前線寬線距低於35/35μm的高密度組裝之高頻高速、超細線化線路中使用。
    • 一种有色薄型化覆盖膜,包括上离型层、有色油墨层、低介电胶层和下离型层,其中,该有色油墨层位于该上离型层和该低介电胶层之间,该低介电胶层位于该有色油墨层和该下离型层之间,且该有色油墨层的厚度为1至10μm,该低介电胶层的厚度为3至25μm,以令该有色油墨层和该低介电胶层两者的厚度之和为4至35μm。本发明的制造方法简单,且具有极低的介电常数与损耗、极低的离子迁移性、良好的接着力、高散热性、高柔软性和低反弹力,可低温加工,特别适合在前线宽线距低于35/35μm的高密度组装之高频高速、超细线化线路中使用。