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11. 发明公开

CN105679629A X射线组件及涂层有权转让
公开(公告)号：CN105679629A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201510876154.1
申请日：2015-12-02
申请人：瓦里安医疗系统公司
发明人： K·O·格瑞恩兰德 , R·S·米勒
IPC分类号： H01J35/08 , H01J35/24
CPC分类号： H01J35/08 , C23C4/08 , C23C4/12 , C23C4/122 , C23C4/123 , C23C4/126 , C23C4/127 , C23C14/14 , C23C14/24 , C23C16/06 , H01J35/06 , H01J35/18 , H01J2235/06 , H01J2235/081 , H01J2235/088 , H01J2235/168 , H01J2235/18 , H01J35/24
摘要：所公开的主题包括涉及阳极组件和/或X射线组件的设备和方法。在一些方面，形成X射线组件的方法可以包括提供由第一材料形成并且包括第一端的阳极基座。该方法可以包括在阳极基座的第一表面上方沉积不同于第一材料的第二材料以形成阳极基座的涂覆部分。该涂覆部分可以被配置成使得一些后向散射的电子没有行进越过涂覆部分。

12. 发明授权

CN101939462B 气缸孔喷涂装置和喷涂薄膜形成方法有权
公开(公告)号：CN101939462B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200980104222.5
申请日：2009-02-27
申请人：日产自动车株式会社
发明人：高桥政嗣 , 高桥秀雄
IPC分类号： C23C4/02 , B05B15/04 , F02F1/00
CPC分类号： C23C4/127 , B05B12/20 , B05B12/26 , B05B13/0618 , C23C4/134 , C23C4/16 , F02B2275/02 , F02F1/18 , F05C2253/12
摘要：本发明提供了一种气缸孔喷涂装置，该气缸孔喷涂装置能够在利用仿制盖体使气缸孔变形的状态下在气缸孔中形成喷涂薄膜之后执行珩磨处理和抛光处理。在如同使用螺钉将气缸盖紧固在气缸体上那样将仿制盖体按压在气缸体上的状态下，使用喷枪在气缸孔的内周表面上形成喷涂薄膜。由此，模拟了气缸孔的变形状态。防护罩防止喷涂薄膜附着在仿制盖体上并且可拆除地安装在仿制盖体的衬套孔上。

13. 发明授权

CN103526149B 等离子体涂覆装置及用于基体的等离子体涂覆的方法失效转让
公开(公告)号：CN103526149B
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201310277506.2
申请日：2013-07-03
申请人：赖茵豪森机械制造公司
发明人：斯蒂芬·内特斯黑姆
IPC分类号： C23C4/134
CPC分类号： C23C4/127 , B05B7/1472 , B05B7/226 , B05B14/43 , C23C4/134 , C23C16/4486 , C23C16/513
摘要：本发明涉及一种等离子体涂覆装置(10)和用于均匀涂覆基体(12)的方法。所述装置包括颗粒储存器(14)、用于对容纳在所述颗粒储存器(14)中的颗粒(15)进行计量的计量装置(16)、处理室(20)以及将所述颗粒(15)传送到所述处理室(20)的输送线路(18)。所述处理室(20)中的处理室压力(P1)低于所述颗粒储存器(14)中的颗粒储存器压力(P2)。

14. 发明公开

CN103526149A 等离子体涂覆装置及用于基体的等离子体涂覆的方法失效转让
公开(公告)号：CN103526149A
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201310277506.2
申请日：2013-07-03
申请人：莱茵豪森等离子有限公司
发明人：斯蒂芬·内特斯黑姆
IPC分类号： C23C4/12
CPC分类号： C23C4/127 , B05B7/1472 , B05B7/226 , B05B14/43 , C23C4/134 , C23C16/4486 , C23C16/513
摘要：本发明涉及一种等离子体涂覆装置(10)和用于均匀涂覆基体(12)的方法。所述装置包括颗粒储存器(14)、用于对容纳在所述颗粒储存器(14)中的颗粒(15)进行计量的计量装置(16)、处理室(20)以及将所述颗粒(15)传送到所述处理室(20)的输送线路(18)。所述处理室(20)中的处理室压力(P1)低于所述颗粒储存器(14)中的颗粒储存器压力(P2)。

15. 发明公开

CN103374695A 用于标记基板的装置和方法以及标记失效转让
公开(公告)号：CN103374695A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201310141888.6
申请日：2013-04-22
申请人：莱茵豪森等离子有限公司
发明人：斯蒂芬·内特斯黑姆
IPC分类号： C23C4/12 , H05H1/42 , B05C9/08
CPC分类号： C23C4/127 , B05B7/22 , B05B7/226 , B05B7/2489 , B05B7/26 , C23C4/01 , C23C4/02 , C23C4/067 , C23C4/134 , G06K19/0614 , H05H1/42 , Y10T428/24835
摘要：本发明公开了用等离子发生器(5)标记基板(14)的装置和方法以及相应的标记。等离子流(11)被导向到基板(14)上并与粉末流(12)叠加。在粉末定量和分散单元(7)中，粉末(20)与粉末形式的标记物质(30)混合。该标记形成了标记物质(30)均匀分布并永久嵌入的粉末(20)材料的粘合层(15)。

16. 发明公开

CN103290361A 施涂热障涂层的方法有权
公开(公告)号：CN103290361A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201310056696.5
申请日：2013-02-22
申请人：于利奇研究中心有限公司 , 苏舍美特科公司
发明人： A.霍斯帕赫 , R.瓦森 , G.毛尔 , K-H.劳瓦尔德 , D.施特弗 , K.冯尼森 , M.金德拉特
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/08 , C23C14/16
CPC分类号： C23C4/127 , B01D53/22 , C23C4/134 , C23C14/027 , C23C14/083 , C23C14/228 , C23C28/30 , Y10T428/24174
摘要：为了施涂热障涂层（10），由等离子炬在工作腔（2）中产生等离子体射流（5）并将其导向引入工作腔内的基体（3）的表面，通过PS-PVD在基体表面上施涂陶瓷涂料，其中将涂料作为粉末注入等离子体射流中并在其中部分或完全气化。在施涂热障涂层时，在第一工作步骤中，注入粉末的进料速率设定为使得大部分的注入粉末气化，其中涂料从气相中凝结到基体表面上，并与基体表面的材料形成混合相。在第二工作步骤中，将注入粉末的进料速率提高至少5倍，从而气化的注入粉末的相对比例降低，且涂料以细长柱的形式沉积，所述细长柱形成了各向异性的微观结构，且取向为基本上垂直于基体表面。

17. 发明公开

CN101939462A 气缸孔喷涂装置和喷涂薄膜形成方法有权
公开(公告)号：CN101939462A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200980104222.5
申请日：2009-02-27
申请人：日产自动车株式会社
发明人：高桥政嗣 , 高桥秀雄
IPC分类号： C23C4/02 , B05B15/04 , F02F1/00
CPC分类号： C23C4/127 , B05B12/20 , B05B12/26 , B05B13/0618 , C23C4/134 , C23C4/16 , F02B2275/02 , F02F1/18 , F05C2253/12
摘要：本发明提供了一种气缸孔喷涂装置，该气缸孔喷涂装置能够在利用仿制盖体使气缸孔变形的状态下在气缸孔中形成喷涂薄膜之后执行珩磨处理和抛光处理。在如同使用螺钉将气缸盖紧固在气缸体上那样将仿制盖体按压在气缸体上的状态下，使用喷枪在气缸孔的内周表面上形成喷涂薄膜。由此，模拟了气缸孔的变形状态。防护罩防止喷涂薄膜附着在仿制盖体上并且可拆除地安装在仿制盖体的衬套孔上。

18. 发明申请

US20130280435A1 Plasma Coatings and Method of Making The Same 有权
标题翻译：等离子体涂料及其制造方法
公开(公告)号：US20130280435A1
公开(公告)日：2013-10-24
申请号：US13917064
申请日：2013-06-13
申请人： Ford Global Technologies, LLC
发明人： Larry P. Haack , Ann Marie Straccia
IPC分类号： C23C4/12
CPC分类号： C23C4/127 , B05D1/02 , B05D1/62 , C23C4/134 , Y10T428/24802 , Y10T428/31504 , Y10T428/31663
摘要： A method of coating a substrate surface. The method includes plasma spraying a direct-spray component onto a substrate surface, and plasma spraying an over-spray component onto the substrate surface. The direct-spray and over-spray components form a plasma coating surface contacting at least a portion of the substrate surface.
摘要翻译：涂布基材表面的方法。该方法包括将直接喷射组分等离子体喷涂到衬底表面上，以及将过喷组件等离子体喷涂到衬底表面上。直喷和过喷组件形成接触基材表面的至少一部分的等离子体涂覆表面。

19. 发明授权

US08986792B2 Method of applying a thermal barrier coating 有权
标题翻译：施加热障涂层的方法
公开(公告)号：US08986792B2
公开(公告)日：2015-03-24
申请号：US13773687
申请日：2013-02-22
申请人： Forschungszentrum Jülich GmbH , Sulzer Metco AG
发明人： Andreas Hospach , Robert Vassen , Georg Mauer , Karl-Heinz Rauwald , Detlev Stöver , Konstantin von Niessen , Malko Gindrat
IPC分类号： C23C4/10 , C23C4/12 , C23C14/02 , C23C14/08 , C23C14/22 , C23C28/00 , B01D53/22
CPC分类号： C23C4/127 , B01D53/22 , C23C4/134 , C23C14/027 , C23C14/083 , C23C14/228 , C23C28/30 , Y10T428/24174
摘要： To apply a thermal barrier coating (10), a plasma jet (5) is generated by a plasma torch in a work chamber (2) and is directed to the surface of a substrate (3) introduced into the work chamber, and a ceramic coating material is applied to the substrate surface by means of PS-PVD, wherein the coating material is injected into the plasma jet as a powder and is partly or completely vaporized there. On applying the thermal barrier coating, in a first workstep the feed rate of the injected powder is set so that a large part of the injected powder vaporizes, wherein the coating material condenses from the vapor phase on the substrate surface and forms mixed phases with the material of the substrate surface. In a second workstep, the feed rate of the injected powder it increased by at least a factor of 5, whereby the portion of the powder which vaporizes is reduced and the coating material is deposited in the form of elongate columns which form an anisotropic microstructure and which are aligned substantially perpendicular to the substrate surface.
摘要翻译：为了施加热障涂层（10），通过工作室（2）中的等离子体焰炬产生等离子体射流（5），并且被引导到被引入到工作室中的衬底（3）的表面，并且陶瓷通过PS-PVD将涂料施加到基材表面，其中将涂料作为粉末注入等离子体射流中，并在其中部分或完全蒸发。在施加热障涂层时，在第一工作步骤中，注入的粉末的进料速率被设定为使得大部分注入的粉末蒸发，其中涂层材料从衬底表面上的气相冷凝并形成混合相，基材表面的材料。在第二个工作步骤中，注入的粉末的进料速率增加至少5倍，从而减少蒸发的部分粉末，并且以形成各向异性微结构的细长柱的形式沉积涂层材料，其基本上垂直于衬底表面对准。

20. 发明申请

US20100055476A1 PLASMA COATINGS AND METHOD OF MAKING THE SAME 有权
标题翻译：等离子体涂料及其制备方法
公开(公告)号：US20100055476A1
公开(公告)日：2010-03-04
申请号：US12198180
申请日：2008-08-26
申请人： Larry P. Haack , Ann Marie Straccia
发明人： Larry P. Haack , Ann Marie Straccia
IPC分类号： B32B27/00 , B05D1/02 , B32B9/00
CPC分类号： C23C4/127 , B05D1/02 , B05D1/62 , C23C4/134 , Y10T428/24802 , Y10T428/31504 , Y10T428/31663
摘要： According to at least one aspect of the present invention, a method is provided for forming a polymerized coating on a surface of a substrate. In at least one embodiment, the method comprises providing a plasma gun having an outlet; introducing a pre-polymer molecule into the outlet of the plasma gun to form a number of fragments of the pre-polymer molecule as a plasma output including a direct-spray component and an over-spray component; at least partially isolating the direct-spray component and the over-spray component from each other to respectively obtain an isolated directed-spray component and an isolated over-spray component; and depositing at least a portion of the isolated direct-spray component and the isolated over-spray component onto the surface of the substrate through the outlet to form a base polymerized coating. The plasma gun is optionally operated at atmospheric pressure.
摘要翻译：根据本发明的至少一个方面，提供了一种在基材表面上形成聚合涂层的方法。在至少一个实施例中，该方法包括提供具有出口的等离子体枪; 将前体聚合物分子引入等离子体枪的出口以形成预聚物分子的许多片段作为包括直接喷射组分和过度喷射组分的等离子体输出; 至少部分地将直接喷射组分和过度喷射组分彼此分离，以分别获得分离的定向喷射组分和分离的过度喷射组分; 以及通过出口将分离的直接喷射组分和分离的过度喷涂组分的至少一部分沉积到衬底的表面上以形成基底聚合涂层。等离子体枪可选地在大气压下操作。

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